प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग कैलकुलेटर

✖प्लेट स्पेसिंग का तात्पर्य ट्रे स्पेसिंग या आसवन कॉलम में ट्रे के बीच की दूरी से है।ⓘ प्लेट रिक्ति [l_t]			+10% -10%
✖तरल घनत्व को दिए गए तरल पदार्थ के द्रव्यमान और उसके द्वारा घेरे गए आयतन के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है।ⓘ तरल घनत्व [ρ_L]			+10% -10%
✖आसवन में वाष्प घनत्व को आसवन कॉलम में विशेष तापमान पर वाष्प की मात्रा के द्रव्यमान के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है।ⓘ आसवन में वाष्प घनत्व [ρ_V]			+10% -10%

✖अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग वाष्प घटक का एक महत्वपूर्ण वेग है जिसे आसवन स्तंभ में संचालित किया जा सकता है।ⓘ प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग [U_v]

⎘ कॉपी

👎

सूत्र

✖

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग

सूत्र

`"U"_{"v"} = (-0.171*("l"_{"t"})^2+0.27*"l"_{"t"}-0.047)*(("ρ"_{"L"}-"ρ"_{"V"})/"ρ"_{"V"})^0.5`

उदाहरण

`"1.129325m/s"=(-0.171*("0.51672m")^2+0.27*"0.51672m"-0.047)*(("995kg/m³"-"1.71kg/m³")/"1.71kg/m³")^0.5`

कैलकुलेटर

LaTeX

रीसेट

👍

डाउनलोड करना प्रक्रिया उपकरण डिजाइन सूत्र पीडीएफ PDF Image

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग उपाय

चरण 0: पूर्व-गणना सारांश

प्रयुक्त सूत्र

अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग = (-0.171*(प्लेट रिक्ति)^2+0.27*प्लेट रिक्ति-0.047)*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5
U_v = (-0.171*(l_t)^2+0.27*l_t-0.047)*((ρ_L-ρ_V)/ρ_V)^0.5
यह सूत्र 4 वेरिएबल का उपयोग करता है

चर

अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग - (में मापा गया मीटर प्रति सेकंड) - अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग वाष्प घटक का एक महत्वपूर्ण वेग है जिसे आसवन स्तंभ में संचालित किया जा सकता है।
प्लेट रिक्ति - (में मापा गया मीटर) - प्लेट स्पेसिंग का तात्पर्य ट्रे स्पेसिंग या आसवन कॉलम में ट्रे के बीच की दूरी से है।
तरल घनत्व - (में मापा गया किलोग्राम प्रति घन मीटर) - तरल घनत्व को दिए गए तरल पदार्थ के द्रव्यमान और उसके द्वारा घेरे गए आयतन के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है।
आसवन में वाष्प घनत्व - (में मापा गया किलोग्राम प्रति घन मीटर) - आसवन में वाष्प घनत्व को आसवन कॉलम में विशेष तापमान पर वाष्प की मात्रा के द्रव्यमान के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है।

चरण 1: इनपुट को आधार इकाई में बदलें

प्लेट रिक्ति: 0.51672 मीटर --> 0.51672 मीटर कोई रूपांतरण आवश्यक नहीं है
तरल घनत्व: 995 किलोग्राम प्रति घन मीटर --> 995 किलोग्राम प्रति घन मीटर कोई रूपांतरण आवश्यक नहीं है
आसवन में वाष्प घनत्व: 1.71 किलोग्राम प्रति घन मीटर --> 1.71 किलोग्राम प्रति घन मीटर कोई रूपांतरण आवश्यक नहीं है

चरण 2: फॉर्मूला का मूल्यांकन करें

फॉर्मूला में इनपुट वैल्यू को तैयार करना

U_v = (-0.171*(l_t)^2+0.27*l_t-0.047)*((ρ_L-ρ_V)/ρ_V)^0.5 --> (-0.171*(0.51672)^2+0.27*0.51672-0.047)*((995-1.71)/1.71)^0.5

मूल्यांकन हो रहा है ... ...

U_v = 1.12932479467671

चरण 3: परिणाम को आउटपुट की इकाई में बदलें

1.12932479467671 मीटर प्रति सेकंड --> कोई रूपांतरण आवश्यक नहीं है

आख़री जवाब

1.12932479467671 ≈ 1.129325 मीटर प्रति सेकंड <-- अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग

(गणना 00.004 सेकंड में पूरी हुई)

आप यहाँ हैं -

होम » अभियांत्रिकी » रासायनिक अभियांत्रिकी » प्रक्रिया उपकरण डिजाइन » कॉलम डिज़ाइन » आसवन टॉवर डिजाइन » प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग

क्रेडिट

के द्वारा बनाई गई ऋषि वडोदरिया

मालवीय राष्ट्रीय प्रौद्योगिकी संस्थान (एमएनआईटी जयपुर), जयपुर

ऋषि वडोदरिया ने इस कैलकुलेटर और 200+ अधिक कैलकुलेटर को बनाए है!

के द्वारा सत्यापित वैभव मिश्रा

डीजे संघवी कॉलेज ऑफ इंजीनियरिंग (डीजेएससीई), मुंबई

वैभव मिश्रा ने इस कैलकुलेटर और 200+ को अधिक कैलकुलेटर से सत्यापित किया है!

< 25 आसवन टॉवर डिजाइन कैलक्युलेटर्स

सामान्य क्वथनांक और वाष्पीकरण की गुप्त गर्मी के आधार पर दो घटकों की सापेक्ष अस्थिरता

जाओ सापेक्ष अस्थिरता = exp(0.25164*((1/घटक का सामान्य क्वथनांक 1)-(1/घटक 2 का सामान्य क्वथनांक))*(घटक 1 के वाष्पीकरण की गुप्त ऊष्मा+घटक 2 के वाष्पीकरण की गुप्त ऊष्मा))

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग

जाओ अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग = (-0.171*(प्लेट रिक्ति)^2+0.27*प्लेट रिक्ति-0.047)*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5

कॉलम का व्यास अधिकतम वाष्प दर और अधिकतम वाष्प वेग दिया गया है

जाओ स्तम्भ व्यास = sqrt((4*वाष्प द्रव्यमान प्रवाह दर)/(pi*आसवन में वाष्प घनत्व*अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग))

टॉवर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र को गैस वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह और बाढ़ का वेग दिया गया है

जाओ टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र = वॉल्यूमेट्रिक गैस प्रवाह/((बाढ़ वेग के लिए आंशिक दृष्टिकोण*बाढ़ का वेग)*(1-आंशिक डाउनकमर क्षेत्र))

आसवन कॉलम डिजाइन में सूखी प्लेट दबाव ड्रॉप

जाओ ड्राई प्लेट हेड लॉस = 51*((छिद्र क्षेत्र के आधार पर वाष्प वेग/छिद्र गुणांक)^2)*(आसवन में वाष्प घनत्व/तरल घनत्व)

बबल कैप ट्रे का उपयोग करके अधिकतम स्वीकार्य द्रव्यमान वेग

जाओ अधिकतम स्वीकार्य द्रव्यमान वेग = प्रवेश कारक*(आसवन में वाष्प घनत्व*(तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)^(1/2))

आसवन स्तंभ डिजाइन में तरल वाष्प प्रवाह कारक

जाओ प्रवाह कारक = (तरल द्रव्यमान प्रवाह दर/वाष्प द्रव्यमान प्रवाह दर)*((आसवन में वाष्प घनत्व/तरल घनत्व)^0.5)

आसवन स्तंभ डिज़ाइन में वीप पॉइंट वेग

जाओ छेद क्षेत्र के आधार पर वीप पॉइंट वाष्प वेग = (वीप पॉइंट सहसंबंध स्थिरांक-0.90*(25.4-छेद व्यास))/((आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5)

न्यूनतम बाह्य भाटा दी गई रचनाएँ

जाओ बाह्य भाटा अनुपात = (आसुत रचना-संतुलन वाष्प संरचना)/(संतुलन वाष्प संरचना-संतुलन तरल संरचना)

आसवन स्तंभ डिजाइन में बाढ़ का वेग

जाओ बाढ़ का वेग = क्षमता का घटक*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5

आसवन कॉलम में डाउनकमर निवास समय

जाओ निवास समय = (डाउनकमर क्षेत्र*तरल बैकअप साफ़ करें*तरल घनत्व)/तरल द्रव्यमान प्रवाह दर

न्यूनतम आंतरिक भाटा दी गई रचनाएँ

जाओ आंतरिक भाटा अनुपात = (आसुत रचना-संतुलन वाष्प संरचना)/(आसुत रचना-संतुलन तरल संरचना)

स्तंभ का व्यास वाष्प प्रवाह दर और वाष्प के द्रव्यमान वेग पर आधारित है

जाओ स्तम्भ व्यास = ((4*वाष्प द्रव्यमान प्रवाह दर)/(pi*अधिकतम स्वीकार्य द्रव्यमान वेग))^(1/2)

वियर के ऊपर लिक्विड क्रेस्ट की ऊंचाई

जाओ वियर क्रेस्ट = (750/1000)*((तरल द्रव्यमान प्रवाह दर/(मेड़ की लंबाई*तरल घनत्व))^(2/3))

ट्रे टॉवर के डाउनकमर में सिर का नुकसान

जाओ डाउनकमर हेडलॉस = 166*((तरल द्रव्यमान प्रवाह दर/(तरल घनत्व*डाउनकमर क्षेत्र)))^2

सक्रिय क्षेत्र को गैस वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह और प्रवाह वेग दिया गया है

जाओ सक्रिय क्षेत्र = वॉल्यूमेट्रिक गैस प्रवाह/(आंशिक डाउनकमर क्षेत्र*बाढ़ का वेग)

तरल और आसुत प्रवाह दर पर आधारित आंतरिक भाटा अनुपात

जाओ आंतरिक भाटा अनुपात = तरल भाटा प्रवाह दर/(तरल भाटा प्रवाह दर+आसुत प्रवाह दर)

आंशिक सक्रिय क्षेत्र को डाउनकमर क्षेत्र और कुल स्तंभ क्षेत्र दिया गया है

जाओ आंशिक सक्रिय क्षेत्र = 1-2*(डाउनकमर क्षेत्र/टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र)

आंशिक डाउनकमर क्षेत्र को कुल क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र दिया गया है

जाओ आंशिक डाउनकमर क्षेत्र = 2*(डाउनकमर क्षेत्र/टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र)

टॉवर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र को आंशिक सक्रिय क्षेत्र दिया गया है

जाओ टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र = सक्रिय क्षेत्र/(1-आंशिक डाउनकमर क्षेत्र)

टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र को सक्रिय क्षेत्र दिया गया है

जाओ टावर क्रॉस अनुभागीय क्षेत्र = सक्रिय क्षेत्र/(1-आंशिक डाउनकमर क्षेत्र)

डाउनकमर के अंतर्गत क्लीयरेंस एरिया को वियर की लंबाई और एप्रन की ऊंचाई दी गई है

जाओ डाउनकमर के अंतर्गत निकासी क्षेत्र = एप्रन की ऊंचाई*मेड़ की लंबाई

आंतरिक भाटा अनुपात दिया गया बाह्य भाटा अनुपात

जाओ आंतरिक भाटा अनुपात = बाह्य भाटा अनुपात/(बाह्य भाटा अनुपात+1)

आंशिक सक्रिय क्षेत्र को आंशिक डाउनकमर क्षेत्र दिया गया है

जाओ आंशिक सक्रिय क्षेत्र = 1-आंशिक डाउनकमर क्षेत्र

आसवन स्तंभ में दबाव में अवशिष्ट शीर्ष हानि

जाओ अवशिष्ट सिर हानि = (12.5*10^3)/तरल घनत्व

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग सूत्र

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग की गणना कैसे करें?

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग के लिए ऑनलाइन कैलकुलेटर पर, कृपया प्लेट रिक्ति (l_t), प्लेट स्पेसिंग का तात्पर्य ट्रे स्पेसिंग या आसवन कॉलम में ट्रे के बीच की दूरी से है। के रूप में, तरल घनत्व (ρ_L), तरल घनत्व को दिए गए तरल पदार्थ के द्रव्यमान और उसके द्वारा घेरे गए आयतन के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है। के रूप में & आसवन में वाष्प घनत्व (ρ_V), आसवन में वाष्प घनत्व को आसवन कॉलम में विशेष तापमान पर वाष्प की मात्रा के द्रव्यमान के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है। के रूप में डालें। कृपया प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग गणना को पूर्ण करने के लिए कैलकुलेट बटन का उपयोग करें।

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग गणना

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग कैलकुलेटर, अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग की गणना करने के लिए Maximum Allowable Vapor Velocity = (-0.171*(प्लेट रिक्ति)^2+0.27*प्लेट रिक्ति-0.047)*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5 का उपयोग करता है। प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग U_v को अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग दिए गए प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व सूत्र को वाष्प घटक के वेग की ऊपरी सीमा के रूप में परिभाषित किया गया है जिसे आसवन प्रक्रिया के तहत एक कॉलम में प्राप्त किया जा सकता है। के रूप में परिभाषित किया गया है। यहाँ प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग गणना को संख्या में समझा जा सकता है - 1.129325 = (-0.171*(0.51672)^2+0.27*0.51672-0.047)*((995-1.71)/1.71)^0.5. आप और अधिक प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग उदाहरण यहाँ देख सकते हैं -

FAQ

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग क्या है?

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग दिए गए प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व सूत्र को वाष्प घटक के वेग की ऊपरी सीमा के रूप में परिभाषित किया गया है जिसे आसवन प्रक्रिया के तहत एक कॉलम में प्राप्त किया जा सकता है। है और इसे U_v = (-0.171*(l_t)^2+0.27*l_t-0.047)*((ρ_L-ρ_V)/ρ_V)^0.5 या Maximum Allowable Vapor Velocity = (-0.171*(प्लेट रिक्ति)^2+0.27*प्लेट रिक्ति-0.047)*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5 के रूप में दर्शाया जाता है।

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग की गणना कैसे करें?

प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग को अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग दिए गए प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व सूत्र को वाष्प घटक के वेग की ऊपरी सीमा के रूप में परिभाषित किया गया है जिसे आसवन प्रक्रिया के तहत एक कॉलम में प्राप्त किया जा सकता है। Maximum Allowable Vapor Velocity = (-0.171*(प्लेट रिक्ति)^2+0.27*प्लेट रिक्ति-0.047)*((तरल घनत्व-आसवन में वाष्प घनत्व)/आसवन में वाष्प घनत्व)^0.5 U_v = (-0.171*(l_t)^2+0.27*l_t-0.047)*((ρ_L-ρ_V)/ρ_V)^0.5 के रूप में परिभाषित किया गया है। प्लेट रिक्ति और द्रव घनत्व को देखते हुए अधिकतम स्वीकार्य वाष्प वेग की गणना करने के लिए, आपको प्लेट रिक्ति (l_t), तरल घनत्व (ρ_L) & आसवन में वाष्प घनत्व (ρ_V) की आवश्यकता है। हमारे टूल के द्वारा, आपको प्लेट स्पेसिंग का तात्पर्य ट्रे स्पेसिंग या आसवन कॉलम में ट्रे के बीच की दूरी से है।, तरल घनत्व को दिए गए तरल पदार्थ के द्रव्यमान और उसके द्वारा घेरे गए आयतन के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है। & आसवन में वाष्प घनत्व को आसवन कॉलम में विशेष तापमान पर वाष्प की मात्रा के द्रव्यमान के अनुपात के रूप में परिभाषित किया गया है। के लिए संबंधित मान दर्ज करने और कैलकुलेट बटन को क्लिक करने की आवश्यकता है।

होम

मुक्त पीडीएफ़

🔍 खोज

श्रेणियाँ

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!