CMOS percorso libero medio Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Percorso libero medio = Tensione critica nel CMOS/Campo elettrico critico
L = Vc/Ec
Questa formula utilizza 3 Variabili
Variabili utilizzate
Percorso libero medio - (Misurato in metro) - Il percorso libero medio è definito come la distanza media percorsa da una particella in movimento tra impatti successivi, che ne modificano la direzione, l'energia o altre proprietà delle particelle.
Tensione critica nel CMOS - (Misurato in Volt) - La tensione critica nel CMOS è la fase minima rispetto alla tensione neutra che si illumina e appare lungo tutto il conduttore di linea.
Campo elettrico critico - (Misurato in Volt per metro) - Il campo elettrico critico è definito come la forza elettrica per unità di carica.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Tensione critica nel CMOS: 2.79 Volt --> 2.79 Volt Nessuna conversione richiesta
Campo elettrico critico: 0.004 Volt per millimetro --> 4 Volt per metro (Controlla la conversione ​qui)
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
L = Vc/Ec --> 2.79/4
Valutare ... ...
L = 0.6975
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
0.6975 metro -->697.5 Millimetro (Controlla la conversione ​qui)
RISPOSTA FINALE
697.5 Millimetro <-- Percorso libero medio
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institute of Technology (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri ha creato questa calcolatrice e altre 900+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod ha verificato questa calcolatrice e altre 1900+ altre calcolatrici!

15 Caratteristiche del circuito CMOS Calcolatrici

Capacità effettiva in CMOS
​ Partire Capacità effettiva nel CMOS = Ciclo di lavoro*(Fuori corrente*(10^(Tensione del collettore di base)))/(Cancelli sul percorso critico*[BoltZ]*Tensione del collettore di base)
Permittività dello strato di ossido
​ Partire Permittività dello strato di ossido = Spessore dello strato di ossido*Capacità del gate di ingresso/(Larghezza del cancello*Lunghezza del cancello)
Spessore dello strato di ossido
​ Partire Spessore dello strato di ossido = Permittività dello strato di ossido*Larghezza del cancello*Lunghezza del cancello/Capacità del gate di ingresso
Larghezza del cancello
​ Partire Larghezza del cancello = Capacità del gate di ingresso/(Capacità dello strato di ossido di gate*Lunghezza del cancello)
Perimetro laterale della diffusione della sorgente
​ Partire Perimetro della parete laterale della diffusione della sorgente = (2*Larghezza di transizione)+(2*Lunghezza della fonte)
Larghezza della regione di svuotamento
​ Partire Larghezza della regione di esaurimento = Lunghezza giunzione PN-Lunghezza effettiva del canale
Lunghezza effettiva del canale
​ Partire Lunghezza effettiva del canale = Lunghezza giunzione PN-Larghezza della regione di esaurimento
Lunghezza giunzione PN
​ Partire Lunghezza giunzione PN = Larghezza della regione di esaurimento+Lunghezza effettiva del canale
Larghezza di transizione del CMOS
​ Partire Larghezza di transizione = Capacità di sovrapposizione del gate MOS/Capacità del gate MOS
Larghezza della diffusione della sorgente
​ Partire Larghezza di transizione = Area di diffusione della sorgente/Lunghezza della fonte
Area di diffusione della sorgente
​ Partire Area di diffusione della sorgente = Lunghezza della fonte*Larghezza di transizione
Campo elettrico critico
​ Partire Campo elettrico critico = (2*Saturazione della velocità)/Mobilità dell'elettrone
CMOS percorso libero medio
​ Partire Percorso libero medio = Tensione critica nel CMOS/Campo elettrico critico
Tensione critica CMOS
​ Partire Tensione critica nel CMOS = Campo elettrico critico*Percorso libero medio
Tensione al minimo EDP
​ Partire Tensione al minimo EDP = (3*Soglia di voltaggio)/(3-Fattore di attività)

CMOS percorso libero medio Formula

Percorso libero medio = Tensione critica nel CMOS/Campo elettrico critico
L = Vc/Ec

Quali sono gli effetti della temperatura sulla corrente di saturazione inversa e sulla tensione di barriera?

La temperatura ha un impatto significativo sulla corrente di saturazione inversa e sulla tensione di barriera nei transistor a film sottile. Un aumento della temperatura generalmente comporta un aumento della corrente di saturazione inversa e una diminuzione della tensione di barriera. Questo perché temperature più elevate portano ad una maggiore energia cinetica del gas, che può facilitare l'iniezione di portatori di carica nella regione di svuotamento del transistor.

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