Prąd drenu podany w NMOS Działa jako źródło prądu sterowane napięciem Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Parametr transkonduktancji = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji
kn = k'p*WL
Ta formuła używa 3 Zmienne
Używane zmienne
Parametr transkonduktancji - (Mierzone w Amper na wolt kwadratowy) - Parametr transkonduktancji jest kluczowym parametrem w urządzeniach i obwodach elektronicznych, który pomaga opisać i określić ilościowo zależność między wejściem a wyjściem między napięciem a prądem.
Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS - (Mierzone w Siemens) - Parametr procesu transkonduktancji w PMOS (PTM) to parametr używany w modelowaniu urządzeń półprzewodnikowych do charakteryzowania wydajności tranzystora.
Współczynnik proporcji - Współczynnik proporcji definiuje się jako stosunek szerokości kanału tranzystora do jego długości. Jest to stosunek szerokości bramki do odległości od źródła
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS: 2.1 Millisiemens --> 0.0021 Siemens (Sprawdź konwersję ​tutaj)
Współczynnik proporcji: 0.1 --> Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
kn = k'p*WL --> 0.0021*0.1
Ocenianie ... ...
kn = 0.00021
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
0.00021 Amper na wolt kwadratowy --> Nie jest wymagana konwersja
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
0.00021 Amper na wolt kwadratowy <-- Parametr transkonduktancji
(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez Payal Priya
Birsa Institute of Technology (KAWAŁEK), Sindri
Payal Priya utworzył ten kalkulator i 600+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod zweryfikował ten kalkulator i 1900+ więcej kalkulatorów!

17 Ulepszenie kanału N Kalkulatory

Prąd wchodzący do drenu-źródła w regionie triody NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*((Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)*Napięcie źródła drenażu-1/2*(Napięcie źródła drenażu)^2)
Prąd wchodzący do zacisku drenu NMOS przy danym napięciu źródła bramki
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*((Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)*Napięcie źródła drenażu-1/2*Napięcie źródła drenażu^2)
Efekt ciała w NMOS
​ Iść Zmiana napięcia progowego = Próg napięcia+Parametr procesu produkcyjnego*(sqrt(2*Parametr fizyczny+Napięcie między ciałem a źródłem)-sqrt(2*Parametr fizyczny))
Bieżący terminal wlotowy spustu NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*Napięcie źródła drenażu*(Napięcie przesterowania w NMOS-1/2*Napięcie źródła drenażu)
NMOS jako rezystancja liniowa
​ Iść Opór liniowy = Długość kanału/(Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pojemność tlenkowa*Szerokość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia))
Prąd spustowy, gdy NMOS działa jako źródło prądu sterowane napięciem
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)^2
Prąd wchodzący do drenu-źródła w regionie nasycenia NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)^2
Parametr procesu produkcyjnego NMOS
​ Iść Parametr procesu produkcyjnego = sqrt(2*[Charge-e]*Stężenie domieszkowania substratu P*[Permitivity-vacuum])/Pojemność tlenkowa
Prąd wejściowy dren-źródło w obszarze nasycenia NMOS przy danym efektywnym napięciu
​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie przesterowania w NMOS)^2
Prąd wchodzący do źródła drenu na granicy obszaru nasycenia i triody NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła drenażu)^2
Prędkość dryfu elektronu kanału w tranzystorze NMOS
​ Iść Prędkość dryfu elektronów = Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pole elektryczne na całej długości kanału
Całkowita moc dostarczona w NMOS
​ Iść Dostarczone zasilanie = Napięcie zasilania*(Prąd spustowy w NMOS+Aktualny)
Prąd drenu podany w NMOS Działa jako źródło prądu sterowane napięciem
​ Iść Parametr transkonduktancji = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji
Rezystancja wyjściowa źródła prądu NMOS przy danym prądzie drenu
​ Iść Rezystancja wyjściowa = Parametr urządzenia/Prąd spustowy bez modulacji długości kanału
Całkowita moc rozpraszana w NMOS
​ Iść Moc rozproszona = Prąd spustowy w NMOS^2*ON Rezystancja kanału
Dodatnie napięcie przy danej długości kanału w NMOS
​ Iść Napięcie = Parametr urządzenia*Długość kanału
Pojemność tlenkowa NMOS
​ Iść Pojemność tlenkowa = (3.45*10^(-11))/Grubość tlenku

Prąd drenu podany w NMOS Działa jako źródło prądu sterowane napięciem Formułę

Parametr transkonduktancji = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji
kn = k'p*WL

Do czego służy tranzystor MOSFET?

Tranzystor MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) jest urządzeniem półprzewodnikowym, które jest szeroko stosowane do celów przełączania i do wzmacniania sygnałów elektronicznych w urządzeniach elektronicznych.

Jakie są rodzaje tranzystorów MOSFET?

Istnieją dwie klasy tranzystorów MOSFET. Jest tryb wyczerpywania i tryb ulepszania. Każda klasa jest dostępna jako kanał n lub p, co daje łącznie cztery typy tranzystorów MOSFET. Tryb wyczerpania występuje w N lub P, a tryb wzmocnienia w N lub P.

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!