Prędkość dryfu elektronu kanału w tranzystorze NMOS Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Prędkość dryfu elektronów = Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pole elektryczne na całej długości kanału
vd = μn*EL
Ta formuła używa 3 Zmienne
Używane zmienne
Prędkość dryfu elektronów - (Mierzone w Metr na sekundę) - Prędkość dryfu elektronów wynika z pola elektrycznego, które z kolei powoduje, że elektrony kanałowe dryfują w kierunku odpływu z pewną prędkością.
Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału - (Mierzone w Metr kwadratowy na wolt na sekundę) - Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału odnosi się do zdolności elektronów do poruszania się lub przewodzenia w warstwie powierzchniowej materiału pod wpływem pola elektrycznego.
Pole elektryczne na całej długości kanału - (Mierzone w Wolt) - Pole elektryczne na całej długości kanału to siła na jednostkę ładunku, której doświadcza cząstka poruszająca się przez kanał.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału: 2.2 Metr kwadratowy na wolt na sekundę --> 2.2 Metr kwadratowy na wolt na sekundę Nie jest wymagana konwersja
Pole elektryczne na całej długości kanału: 10.6 Wolt --> 10.6 Wolt Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
vd = μn*EL --> 2.2*10.6
Ocenianie ... ...
vd = 23.32
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
23.32 Metr na sekundę --> Nie jest wymagana konwersja
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
23.32 Metr na sekundę <-- Prędkość dryfu elektronów
(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez Payal Priya
Birsa Institute of Technology (KAWAŁEK), Sindri
Payal Priya utworzył ten kalkulator i 600+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod zweryfikował ten kalkulator i 1900+ więcej kalkulatorów!

17 Ulepszenie kanału N Kalkulatory

Prąd wchodzący do drenu-źródła w regionie triody NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*((Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)*Napięcie źródła drenażu-1/2*(Napięcie źródła drenażu)^2)
Prąd wchodzący do zacisku drenu NMOS przy danym napięciu źródła bramki
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*((Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)*Napięcie źródła drenażu-1/2*Napięcie źródła drenażu^2)
Efekt ciała w NMOS
​ Iść Zmiana napięcia progowego = Próg napięcia+Parametr procesu produkcyjnego*(sqrt(2*Parametr fizyczny+Napięcie między ciałem a źródłem)-sqrt(2*Parametr fizyczny))
Bieżący terminal wlotowy spustu NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*Napięcie źródła drenażu*(Napięcie przesterowania w NMOS-1/2*Napięcie źródła drenażu)
NMOS jako rezystancja liniowa
​ Iść Opór liniowy = Długość kanału/(Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pojemność tlenkowa*Szerokość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia))
Prąd spustowy, gdy NMOS działa jako źródło prądu sterowane napięciem
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)^2
Prąd wchodzący do drenu-źródła w regionie nasycenia NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)^2
Parametr procesu produkcyjnego NMOS
​ Iść Parametr procesu produkcyjnego = sqrt(2*[Charge-e]*Stężenie domieszkowania substratu P*[Permitivity-vacuum])/Pojemność tlenkowa
Prąd wejściowy dren-źródło w obszarze nasycenia NMOS przy danym efektywnym napięciu
​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie przesterowania w NMOS)^2
Prąd wchodzący do źródła drenu na granicy obszaru nasycenia i triody NMOS
​ Iść Prąd spustowy w NMOS = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w NMOS*Szerokość kanału/Długość kanału*(Napięcie źródła drenażu)^2
Prędkość dryfu elektronu kanału w tranzystorze NMOS
​ Iść Prędkość dryfu elektronów = Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pole elektryczne na całej długości kanału
Całkowita moc dostarczona w NMOS
​ Iść Dostarczone zasilanie = Napięcie zasilania*(Prąd spustowy w NMOS+Aktualny)
Prąd drenu podany w NMOS Działa jako źródło prądu sterowane napięciem
​ Iść Parametr transkonduktancji = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji
Rezystancja wyjściowa źródła prądu NMOS przy danym prądzie drenu
​ Iść Rezystancja wyjściowa = Parametr urządzenia/Prąd spustowy bez modulacji długości kanału
Całkowita moc rozpraszana w NMOS
​ Iść Moc rozproszona = Prąd spustowy w NMOS^2*ON Rezystancja kanału
Dodatnie napięcie przy danej długości kanału w NMOS
​ Iść Napięcie = Parametr urządzenia*Długość kanału
Pojemność tlenkowa NMOS
​ Iść Pojemność tlenkowa = (3.45*10^(-11))/Grubość tlenku

Prędkość dryfu elektronu kanału w tranzystorze NMOS Formułę

Prędkość dryfu elektronów = Ruchliwość elektronów na powierzchni kanału*Pole elektryczne na całej długości kanału
vd = μn*EL

Wyjaśnij działanie tranzystora NMOS.

Tranzystor NMOS z napięciem na źródle gazu> napięcie progowe i z niewielkim napięciem między drenem a źródłem. Urządzenie działa jako rezystancja, której wartość jest określana przez napięcie na źródle gazu. W szczególności przewodnictwo kanału jest proporcjonalne do napięcia na źródle gazu - napięcie progowe, a zatem Id jest proporcjonalne do (napięcie na źródle gazu - napięcie progowe) między drenem a źródłem

Jaka jest ruchliwość elektronu w kanale?

μ

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!