Profundidade da região de esgotamento associada ao dreno Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Região de profundidade de esgotamento do dreno = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potencial de junção integrado+Tensão da fonte de drenagem))/([Charge-e]*Concentração de Dopagem do Aceitante))
xdD = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Φo+VDS))/([Charge-e]*NA))
Esta fórmula usa 2 Constantes, 1 Funções, 4 Variáveis
Constantes Usadas
[Permitivity-silicon] - Permissividade do silício Valor considerado como 11.7
[Charge-e] - Carga do elétron Valor considerado como 1.60217662E-19
Funções usadas
sqrt - Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido., sqrt(Number)
Variáveis Usadas
Região de profundidade de esgotamento do dreno - (Medido em Metro) - A região de profundidade de esgotamento do dreno é a região de esgotamento que se forma perto do terminal de dreno quando uma tensão é aplicada ao terminal do portão.
Potencial de junção integrado - (Medido em Volt) - Potencial de junção integrado refere-se à diferença de potencial ou tensão que existe em uma junção semicondutora quando ela não está conectada a uma fonte de tensão externa.
Tensão da fonte de drenagem - (Medido em Volt) - A tensão da fonte de drenagem é a tensão aplicada entre o terminal de drenagem e a fonte.
Concentração de Dopagem do Aceitante - (Medido em Elétrons por metro cúbico) - A concentração de dopagem do aceitador refere-se à concentração de átomos aceitadores adicionados intencionalmente a um material semicondutor.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Potencial de junção integrado: 2 Volt --> 2 Volt Nenhuma conversão necessária
Tensão da fonte de drenagem: 45 Volt --> 45 Volt Nenhuma conversão necessária
Concentração de Dopagem do Aceitante: 1.32 Elétrons por Centímetro Cúbico --> 1320000 Elétrons por metro cúbico (Verifique a conversão ​aqui)
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
xdD = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Φo+VDS))/([Charge-e]*NA)) --> sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(2+45))/([Charge-e]*1320000))
Avaliando ... ...
xdD = 72113188.282716
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
72113188.282716 Metro --> Nenhuma conversão necessária
RESPOSTA FINAL
72113188.282716 7.2E+7 Metro <-- Região de profundidade de esgotamento do dreno
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por Banu Prakash LinkedIn Logo
Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
Banu Prakash criou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Dipanjona Mallick LinkedIn Logo
Instituto Patrimonial de Tecnologia (HITK), Calcutá
Dipanjona Mallick verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!

Transistor MOS Calculadoras

Fator de equivalência de tensão na parede lateral
​ LaTeX ​ Vai Fator de equivalência de tensão na parede lateral = -(2*sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais)/(Tensão Final-Tensão Inicial)*(sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais-Tensão Final)-sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais-Tensão Inicial)))
Potencial de Fermi para tipo P
​ LaTeX ​ Vai Potencial de Fermi para tipo P = ([BoltZ]*Temperatura absoluta)/[Charge-e]*ln(Concentração Intrínseca de Portadores/Concentração de Dopagem do Aceitante)
Capacitância equivalente de junção de sinal grande
​ LaTeX ​ Vai Capacitância equivalente de junção de sinal grande = Perímetro da parede lateral*Capacitância de Junção Lateral*Fator de equivalência de tensão na parede lateral
Capacitância da junção da parede lateral com polarização zero por unidade de comprimento
​ LaTeX ​ Vai Capacitância de Junção Lateral = Potencial de junção da parede lateral com polarização zero*Profundidade da parede lateral

Profundidade da região de esgotamento associada ao dreno Fórmula

​LaTeX ​Vai
Região de profundidade de esgotamento do dreno = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potencial de junção integrado+Tensão da fonte de drenagem))/([Charge-e]*Concentração de Dopagem do Aceitante))
xdD = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Φo+VDS))/([Charge-e]*NA))
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!