✖Параметр крутизны процесса в PMOS (PTM) — это параметр, используемый при моделировании полупроводниковых устройств для характеристики производительности транзистора.ⓘ Параметр крутизны процесса в PMOS [k'p]  |  |  |  +10% -10%  | 
✖Соотношение сторон определяется как отношение ширины канала транзистора к его длине. Это отношение ширины ворот к расстоянию между источникомⓘ Соотношение сторон [WL]  |  |  |  +10% -10%  | 
✖Напряжение между затвором и истоком полевого транзистора (FET) известно как напряжение затвор-исток (VGS). Это важный параметр, влияющий на работу полевого транзистора.ⓘ Напряжение между затвором и источником [VGS]  |  |  |  +10% -10%  | 
✖Пороговое напряжение, также известное как пороговое напряжение затвора или просто Vth, является критическим параметром в работе полевых транзисторов, являющихся фундаментальными компонентами современной электроники.ⓘ Пороговое напряжение [VT]  |  |  |  +10% -10%  | 
✖Напряжение между стоком и истоком является ключевым параметром в работе полевого транзистора (FET) и часто упоминается как «напряжение сток-исток» или VDS.ⓘ Напряжение между стоком и истоком [VDS]  |  |  |  +10% -10%  | 
✖Раннее напряжение полностью зависит от технологического процесса и имеет размеры вольт на микрон.ⓘ Раннее напряжение [Va]  |  |  |  +10% -10%  |