Afvoerstroom die door de MOS-transistor vloeit Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Afvoerstroom = (Kanaalbreedte/Kanaallengte)*Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit*int((Poortbronspanning-x-Drempelspanning),x,0,Afvoerbronspanning)
ID = (W/L)*μn*Cox*int((VGS-x-VT),x,0,VDS)
Deze formule gebruikt 1 Functies, 8 Variabelen
Functies die worden gebruikt
int - De definitieve integraal kan worden gebruikt om het netto ondertekende gebied te berekenen, dat wil zeggen het gebied boven de x-as minus het gebied onder de x-as., int(expr, arg, from, to)
Variabelen gebruikt
Afvoerstroom - (Gemeten in Ampère) - Afvoerstroom is de stroom die van de afvoeraansluiting naar de bronaansluiting vloeit, geregeld door de spanning die op de poort wordt aangelegd.
Kanaalbreedte - (Gemeten in Meter) - Kanaalbreedte vertegenwoordigt de breedte van het geleidende kanaal binnen een MOSFET, wat rechtstreeks van invloed is op de hoeveelheid stroom die het kan verwerken.
Kanaallengte - (Gemeten in Meter) - Kanaallengte in een MOSFET is de afstand tussen de source- en drain-regio's, die bepaalt hoe gemakkelijk stroom vloeit en de prestaties van de transistor beïnvloedt.
Elektronenmobiliteit - (Gemeten in Vierkante meter per volt per seconde) - Elektronenmobiliteit in MOSFET beschrijft hoe gemakkelijk elektronen door het kanaal kunnen bewegen, waardoor de stroom bij een bepaalde spanning rechtstreeks wordt beïnvloed.
Oxidecapaciteit - (Gemeten in Farad) - Oxidecapaciteit verwijst naar de capaciteit die is geassocieerd met de isolerende oxidelaag in een metaaloxide-halfgeleiderstructuur (MOS), zoals in MOSFET's.
Poortbronspanning - (Gemeten in Volt) - Gate Source Voltage is de spanning die wordt aangelegd tussen de gate- en source-aansluitingen van een MOSFET.
Drempelspanning - (Gemeten in Volt) - Drempelspanning is de minimale poort-naar-bronspanning die nodig is in een MOSFET om deze "aan" te zetten en een aanzienlijke stroom te laten vloeien.
Afvoerbronspanning - (Gemeten in Volt) - Drain Source-spanning is de spanning die wordt toegepast tussen drain en source-aansluiting.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Kanaalbreedte: 2.678 Meter --> 2.678 Meter Geen conversie vereist
Kanaallengte: 3.45 Meter --> 3.45 Meter Geen conversie vereist
Elektronenmobiliteit: 9.92 Vierkante meter per volt per seconde --> 9.92 Vierkante meter per volt per seconde Geen conversie vereist
Oxidecapaciteit: 3.9 Farad --> 3.9 Farad Geen conversie vereist
Poortbronspanning: 29.65 Volt --> 29.65 Volt Geen conversie vereist
Drempelspanning: 5.91 Volt --> 5.91 Volt Geen conversie vereist
Afvoerbronspanning: 45 Volt --> 45 Volt Geen conversie vereist
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
ID = (W/L)*μn*Cox*int((VGS-x-VT),x,0,VDS) --> (2.678/3.45)*9.92*3.9*int((29.65-x-5.91),x,0,45)
Evalueren ... ...
ID = 1675.72193947826
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
1675.72193947826 Ampère --> Geen conversie vereist
DEFINITIEVE ANTWOORD
1675.72193947826 1675.722 Ampère <-- Afvoerstroom
(Berekening voltooid in 00.004 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Vignesh Naidu
Vellore Instituut voor Technologie (VIT), Vellore, Tamil Nadu
Vignesh Naidu heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 25+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Dipanjona Mallick
Erfgoedinstituut voor technologie (HITK), Calcutta
Dipanjona Mallick heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

21 MOS-transistor Rekenmachines

Equivalentiefactor voor zijwandspanning
​ Gaan Equivalentiefactor voor zijwandspanning = -(2*sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen)/(Eindspanning-Initiële spanning)*(sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Eindspanning)-sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Initiële spanning)))
Trek de stroom in het lineaire gebied naar beneden
​ Gaan Lineaire regio pull-downstroom = sum(x,0,Aantal parallelle drivertransistors,(Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit/2)*(Kanaalbreedte/Kanaallengte)*(2*(Poortbronspanning-Drempelspanning)*Uitgangsspanning-Uitgangsspanning^2))
Knooppuntspanning bij gegeven instantie
​ Gaan Knooppuntspanning bij gegeven instantie = (Transconductantiefactor/Knooppuntcapaciteit)*int(exp(-(1/(Knooppunt weerstand*Knooppuntcapaciteit))*(Tijdsperiode-x))*Stroom stroomt naar knooppunt*x,x,0,Tijdsperiode)
Trek de stroom in het verzadigingsgebied naar beneden
​ Gaan Verzadigingsregio Pull-downstroom = sum(x,0,Aantal parallelle drivertransistors,(Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit/2)*(Kanaalbreedte/Kanaallengte)*(Poortbronspanning-Drempelspanning)^2)
Verzadigingstijd
​ Gaan Verzadigingstijd = -2*Belastingscapaciteit/(Transconductantieprocesparameter*(Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)^2)*int(1,x,Hoge uitgangsspanning,Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)
Ladingsdichtheid van het uitputtingsgebied
​ Gaan Dichtheid van de lading van de uitputtingslaag = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor*modulus(Oppervlaktepotentieel-Bulk Fermi-potentieel)))
Tijdvertraging wanneer NMOS in een lineair gebied werkt
​ Gaan Lineair gebied in tijdvertraging = -2*Verbindingscapaciteit*int(1/(Transconductantieprocesparameter*(2*(Ingangsspanning-Drempelspanning)*x-x^2)),x,Initiële spanning,Eindspanning)
Afvoerstroom die door de MOS-transistor vloeit
​ Gaan Afvoerstroom = (Kanaalbreedte/Kanaallengte)*Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit*int((Poortbronspanning-x-Drempelspanning),x,0,Afvoerbronspanning)
Diepte van de uitputtingsregio geassocieerd met afvoer
​ Gaan De diepte van het uitputtingsgebied van de drain = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Ingebouwd verbindingspotentieel+Afvoerbronspanning))/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Fermi-potentieel voor N-type
​ Gaan Fermi-potentieel voor N-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Concentratie van donordoteringsmiddelen/Intrinsieke dragerconcentratie)
Afvoerstroom in verzadigingsgebied in MOS-transistor
​ Gaan Verzadigingsgebied Afvoerstroom = Kanaalbreedte*Verzadiging Elektronendriftsnelheid*int(Aanval*Korte kanaalparameter,x,0,Effectieve kanaallengte)
Fermi-potentieel voor P-type
​ Gaan Fermi-potentieel voor P-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Intrinsieke dragerconcentratie/Dopingconcentratie van acceptor)
Maximale uitputtingsdiepte
​ Gaan Maximale uitputtingsdiepte = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Bulk Fermi-potentieel))/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Equivalente grote signaalcapaciteit
​ Gaan Equivalente grote signaalcapaciteit = (1/(Eindspanning-Initiële spanning))*int(Verbindingscapaciteit*x,x,Initiële spanning,Eindspanning)
Ingebouwd potentieel in de uitputtingsregio
​ Gaan Ingebouwde spanning = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor*modulus(-2*Bulk Fermi-potentieel)))
Diepte van de uitputtingsregio geassocieerd met bron
​ Gaan Bron's diepte van de uitputtingsregio = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Ingebouwd verbindingspotentieel)/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Substraat bias-coëfficiënt
​ Gaan Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
Gemiddeld vermogen dat in de loop van de tijd wordt gedissipeerd
​ Gaan Gemiddeld vermogen = (1/Totale tijd besteed)*int(Spanning*Huidig,x,0,Totale tijd genomen)
Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit
​ Gaan Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit = Omtrek van zijwand*Zijwandverbindingscapaciteit*Equivalentiefactor voor zijwandspanning
Werkfunctie in MOSFET
​ Gaan Werk functie = Vacuümniveau+(Energieniveau van de geleidingsband-Fermi-niveau)
Nul bias zijwandverbindingscapaciteit per lengte-eenheid
​ Gaan Zijwandverbindingscapaciteit = Zero Bias zijwandverbindingspotentieel*Diepte van zijwand

Afvoerstroom die door de MOS-transistor vloeit Formule

Afvoerstroom = (Kanaalbreedte/Kanaallengte)*Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit*int((Poortbronspanning-x-Drempelspanning),x,0,Afvoerbronspanning)
ID = (W/L)*μn*Cox*int((VGS-x-VT),x,0,VDS)
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!