Inversion Layer Charge w PMOS Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Opłata warstwy inwersyjnej = -Pojemność tlenkowa*(Napięcie między bramką a źródłem-Próg napięcia)
Qp = -Cox*(VGS-VT)
Ta formuła używa 4 Zmienne
Używane zmienne
Opłata warstwy inwersyjnej - (Mierzone w Kulomb na metr kwadratowy) - Ładunek warstwy inwersyjnej odnosi się do gromadzenia się nośników ładunku na granicy między półprzewodnikiem a izolującą warstwą tlenku, gdy napięcie jest przykładane do elektrody bramki.
Pojemność tlenkowa - (Mierzone w Farad) - Pojemność tlenkowa jest ważnym parametrem wpływającym na wydajność urządzeń MOS, takim jak szybkość i pobór mocy układów scalonych.
Napięcie między bramką a źródłem - (Mierzone w Wolt) - Napięcie między bramką a źródłem tranzystora polowego (FET) jest znane jako napięcie bramka-źródło (VGS). Jest to ważny parametr wpływający na działanie tranzystora FET.
Próg napięcia - (Mierzone w Wolt) - Napięcie progowe, zwane również napięciem progowym bramki lub po prostu Vth, jest krytycznym parametrem w działaniu tranzystorów polowych, które są podstawowymi elementami współczesnej elektroniki.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Pojemność tlenkowa: 0.0008 Farad --> 0.0008 Farad Nie jest wymagana konwersja
Napięcie między bramką a źródłem: 2.86 Wolt --> 2.86 Wolt Nie jest wymagana konwersja
Próg napięcia: 0.7 Wolt --> 0.7 Wolt Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
Qp = -Cox*(VGS-VT) --> -0.0008*(2.86-0.7)
Ocenianie ... ...
Qp = -0.001728
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
-0.001728 Kulomb na metr kwadratowy --> Nie jest wymagana konwersja
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
-0.001728 Kulomb na metr kwadratowy <-- Opłata warstwy inwersyjnej
(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez Aman Dhussawat
GURU TEGH BAHADUR INSTYTUT TECHNOLOGII (GTBIT), NOWE DELHI
Aman Dhussawat utworzył ten kalkulator i 50+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Parminder Singh
Uniwersytet Chandigarh (CU), Pendżab
Parminder Singh zweryfikował ten kalkulator i 600+ więcej kalkulatorów!

14 Ulepszenie kanału P Kalkulatory

Całkowity prąd drenu tranzystora PMOS
​ Iść Prąd spustowy = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia))^2*(1+Napięcie między drenem a źródłem/modulus(Wczesne napięcie))
Prąd spustowy w regionie triody tranzystora PMOS
​ Iść Prąd spustowy = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*((Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia))*Napięcie między drenem a źródłem-1/2*(Napięcie między drenem a źródłem)^2)
Efekt ciała w PMOS
​ Iść Zmiana napięcia progowego = Próg napięcia+Parametr procesu produkcyjnego*(sqrt(2*Parametr fizyczny+Napięcie między ciałem a źródłem)-sqrt(2*Parametr fizyczny))
Prąd drenażowy w regionie triody tranzystora PMOS, biorąc pod uwagę Vsd
​ Iść Prąd spustowy = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(modulus(Efektywne napięcie)-1/2*Napięcie między drenem a źródłem)*Napięcie między drenem a źródłem
Prąd spustowy w regionie nasycenia tranzystora PMOS
​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia))^2
Prąd spustowy od źródła do drenu
​ Iść Prąd spustowy = (Szerokość skrzyżowania*Opłata warstwy inwersyjnej*Ruchliwość otworów w kanale*Pozioma składowa pola elektrycznego w kanale)
Parametr efektu backgate w PMOS
​ Iść Parametr efektu backgate = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Koncentracja dawców)/Pojemność tlenkowa
Ładunek warstwy inwersji w warunkach zwarcia w PMOS
​ Iść Opłata warstwy inwersyjnej = -Pojemność tlenkowa*(Napięcie między bramką a źródłem-Próg napięcia-Napięcie między drenem a źródłem)
Prąd odpływowy w regionie nasycenia tranzystora PMOS podanego Vov
​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(Efektywne napięcie)^2
Inversion Layer Charge w PMOS
​ Iść Opłata warstwy inwersyjnej = -Pojemność tlenkowa*(Napięcie między bramką a źródłem-Próg napięcia)
Prąd w kanale inwersji PMOS
​ Iść Prąd spustowy = (Szerokość skrzyżowania*Opłata warstwy inwersyjnej*Prędkość dryfu inwersji)
Napięcie przesterowania PMOS
​ Iść Efektywne napięcie = Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia)
Prąd w kanale inwersji PMOS przy danej mobilności
​ Iść Prędkość dryfu inwersji = Ruchliwość otworów w kanale*Pozioma składowa pola elektrycznego w kanale
Procesowy parametr transkonduktancji PMOS
​ Iść Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS = Ruchliwość otworów w kanale*Pojemność tlenkowa

Inversion Layer Charge w PMOS Formułę

Opłata warstwy inwersyjnej = -Pojemność tlenkowa*(Napięcie między bramką a źródłem-Próg napięcia)
Qp = -Cox*(VGS-VT)
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!