Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI Kalkulator

↳

Elektronika

Cywilny

Elektronika i oprzyrządowanie

Elektryczny

Inżynieria chemiczna

Inżynieria materiałowa

Inżynieria produkcji

Mechaniczny

⤿

Optymalizacja materiałów VLSI

Konstrukcja analogowa VLSI

✖Współczynnik skalowania definiuje się jako stosunek, o jaki zmieniają się wymiary tranzystora w procesie projektowania.ⓘ Współczynnik skalowania [Sf]			+10% -10%
✖Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni jest definiowana jako pojemność na jednostkę powierzchni izolującej warstwy tlenku, która oddziela metalową bramkę od materiału półprzewodnikowego.ⓘ Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni [C_oxide]			+10% -10%

✖Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia odnosi się do pojemności związanej z warstwą tlenku pomiędzy metalową bramką a podłożem po zmniejszeniu skali urządzenia poprzez skalowanie napięcia.ⓘ Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI [C_ox(vs)']

⎘ Kopiuj

👎

Formuła

✖

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI

Formuła

`("C"_{"ox(vs)"}"'") = "Sf"*"C"_{"oxide"}`

Przykład

`"105.45nF/cm²"="1.5"*"0.0703μF/cm²"`

Kalkulator

LaTeX

Resetowanie

👍

Pobierać Elektronika Formułę PDF PDF Image

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń

Formułę używana

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia = Współczynnik skalowania*Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni
C_ox(vs)' = Sf*C_oxide
Ta formuła używa 3 Zmienne

Używane zmienne

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia - (Mierzone w Farad na metr kwadratowy) - Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia odnosi się do pojemności związanej z warstwą tlenku pomiędzy metalową bramką a podłożem po zmniejszeniu skali urządzenia poprzez skalowanie napięcia.
Współczynnik skalowania - Współczynnik skalowania definiuje się jako stosunek, o jaki zmieniają się wymiary tranzystora w procesie projektowania.
Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni - (Mierzone w Farad na metr kwadratowy) - Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni jest definiowana jako pojemność na jednostkę powierzchni izolującej warstwy tlenku, która oddziela metalową bramkę od materiału półprzewodnikowego.

KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową

Współczynnik skalowania: 1.5 --> Nie jest wymagana konwersja
Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni: 0.0703 Mikrofarad na centymetr kwadratowy --> 0.000703 Farad na metr kwadratowy (Sprawdź konwersję tutaj)

KROK 2: Oceń formułę

Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze

C_ox(vs)' = Sf*C_oxide --> 1.5*0.000703

Ocenianie ... ...

C_ox(vs)' = 0.0010545

KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia

0.0010545 Farad na metr kwadratowy -->105.45 Nanofarad na centymetr kwadratowy (Sprawdź konwersję tutaj)

OSTATNIA ODPOWIEDŹ

105.45 Nanofarad na centymetr kwadratowy <-- Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia

(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Jesteś tutaj -

Dom » Inżynieria » Elektronika » Produkcja VLSI » Optymalizacja materiałów VLSI » Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI

Kredyty

Stworzone przez Priyanka Patel

Lalbhai Dalpatbhai College of Engineering (LDCE), Ahmadabad

Priyanka Patel utworzył ten kalkulator i 25+ więcej kalkulatorów!

Zweryfikowane przez Santhosh Yadav

Szkoła Inżynierska Dayananda Sagar (DSCE), Banglore

Santhosh Yadav zweryfikował ten kalkulator i 50+ więcej kalkulatorów!

< 25 Optymalizacja materiałów VLSI Kalkulatory

Gęstość ładunku w regionie wyczerpania zbiorczego VLSI

Iść Gęstość ładunku w obszarze wyczerpania zbiorczego = -(1-((Boczny zasięg obszaru wyczerpania ze źródłem+Boczny zasięg obszaru wyczerpania z drenażem)/(2*Długość kanału)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Stężenie akceptora*abs(2*Potencjał powierzchni))

Współczynnik efektu ciała

Iść Współczynnik efektu ciała = modulus((Próg napięcia-Napięcie progowe DIBL)/(sqrt(Potencjał powierzchni+(Różnica potencjałów ciała źródłowego))-sqrt(Potencjał powierzchni)))

Głębokość wyczerpania złącza PN ze źródłem VLSI

Iść Głębokość wyczerpania złącza Pn ze źródłem = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Złącze wbudowane w napięcie)/([Charge-e]*Stężenie akceptora))

Złącze wbudowane napięcie VLSI

Iść Złącze wbudowane w napięcie = ([BoltZ]*Temperatura/[Charge-e])*ln(Stężenie akceptora*Stężenie dawcy/(Wewnętrzna koncentracja)^2)

Całkowita pojemność pasożytnicza źródła

Iść Źródło pojemności pasożytniczej = (Pojemność pomiędzy złączem ciała i źródła*Obszar dyfuzji źródła)+(Pojemność pomiędzy połączeniem korpusu i ścianą boczną*Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji)

Prąd nasycenia krótkiego kanału VLSI

Iść Prąd nasycenia krótkiego kanału = Szerokość kanału*Prędkość dryfu elektronów w nasyceniu*Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni*Napięcie źródła drenażu nasycenia

Prąd złącza

Iść Prąd złącza = (Moc statyczna/Podstawowe napięcie kolektora)-(Prąd podprogowy+Aktualna rywalizacja+Prąd bramki)

Potencjał powierzchniowy

Iść Potencjał powierzchni = 2*Różnica potencjałów ciała źródłowego*ln(Stężenie akceptora/Wewnętrzna koncentracja)

Współczynnik DIBL

Iść Współczynnik DIBL = (Napięcie progowe DIBL-Próg napięcia)/Drenaż do potencjału źródłowego

Napięcie progowe, gdy źródło ma potencjał ciała

Iść Napięcie progowe DIBL = Współczynnik DIBL*Drenaż do potencjału źródłowego+Próg napięcia

Nachylenie podprogowe

Iść Nachylenie podprogu = Różnica potencjałów ciała źródłowego*Współczynnik DIBL*ln(10)

Długość bramki przy użyciu pojemności tlenku bramki

Iść Długość bramy = Pojemność bramki/(Pojemność warstwy tlenku bramki*Szerokość bramy)

Pojemność tlenkowa bramki

Iść Pojemność warstwy tlenku bramki = Pojemność bramki/(Szerokość bramy*Długość bramy)

Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu VLSI

Iść Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu = Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni*Współczynnik skalowania

Pojemność bramki

Iść Pojemność bramki = Opłata za kanał/(Napięcie bramki do kanału-Próg napięcia)

Opłata za kanał

Iść Opłata za kanał = Pojemność bramki*(Napięcie bramki do kanału-Próg napięcia)

Próg napięcia

Iść Próg napięcia = Napięcie bramki do kanału-(Opłata za kanał/Pojemność bramki)

Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu VLSI

Iść Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu = Grubość tlenku bramki/Współczynnik skalowania

Głębokość połączenia po pełnym skalowaniu VLSI

Iść Głębokość połączenia po pełnym skalowaniu = Głębokość połączenia/Współczynnik skalowania

Krytyczne napięcie

Iść Napięcie krytyczne = Krytyczne pole elektryczne*Pole elektryczne na długości kanału

Szerokość kanału po pełnym skalowaniu VLSI

Iść Szerokość kanału po pełnym skalowaniu = Szerokość kanału/Współczynnik skalowania

Wewnętrzna pojemność bramki

Iść Pojemność nakładania się bramki MOS = Pojemność bramki MOS*Szerokość przejścia

Długość kanału po pełnym skalowaniu VLSI

Iść Długość kanału po pełnym skalowaniu = Długość kanału/Współczynnik skalowania

Mobilność w Mosfecie

Iść Mobilność w MOSFET-ie = K. Premier/Pojemność warstwy tlenku bramki

K-Prime

Iść K. Premier = Mobilność w MOSFET-ie*Pojemność warstwy tlenku bramki

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia VLSI Formułę

Pojemność tlenkowa po skalowaniu napięcia = Współczynnik skalowania*Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni
C_ox(vs)' = Sf*C_oxide

Dom

BEZPŁATNY pliki PDF

🔍 Szukaj

Kategorie

Dzielić

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!