Oxidecapaciteit na spanningsschaling VLSI Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Oxidecapaciteit na spanningsschaling = Schaalfactor*Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid
Cox(vs)' = Sf*Coxide
Deze formule gebruikt 3 Variabelen
Variabelen gebruikt
Oxidecapaciteit na spanningsschaling - (Gemeten in Farad per vierkante meter) - Oxidecapaciteit na spanningsschaling heeft betrekking op de capaciteit die is geassocieerd met de oxidelaag tussen de metalen poort en het substraat nadat het apparaat is verkleind door spanningsschaling.
Schaalfactor - De schaalfactor wordt gedefinieerd als de verhouding waarmee de afmetingen van de transistor tijdens het ontwerpproces worden gewijzigd.
Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid - (Gemeten in Farad per vierkante meter) - Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid wordt gedefinieerd als de capaciteit per oppervlakte-eenheid van de isolerende oxidelaag die de metalen poort scheidt van het halfgeleidermateriaal.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Schaalfactor: 1.5 --> Geen conversie vereist
Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid: 0.0703 Microfarad per vierkante centimeter --> 0.000703 Farad per vierkante meter (Bekijk de conversie ​hier)
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
Cox(vs)' = Sf*Coxide --> 1.5*0.000703
Evalueren ... ...
Cox(vs)' = 0.0010545
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
0.0010545 Farad per vierkante meter -->105.45 Nanofarad per vierkante centimeter (Bekijk de conversie ​hier)
DEFINITIEVE ANTWOORD
105.45 Nanofarad per vierkante centimeter <-- Oxidecapaciteit na spanningsschaling
(Berekening voltooid in 00.020 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Prijanka Patel
Lalbhai Dalpatbhai College voor techniek (LDCE), Ahmedabad
Prijanka Patel heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 25+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

VLSI-materiaaloptimalisatie Rekenmachines

Lichaamseffectcoëfficiënt
​ Gaan Lichaamseffectcoëfficiënt = modulus((Drempelspanning-Drempelspanning DIBL)/(sqrt(Oppervlaktepotentieel+(Bron Lichaamspotentieelverschil))-sqrt(Oppervlaktepotentieel)))
DIBL-coëfficiënt
​ Gaan DIBL-coëfficiënt = (Drempelspanning DIBL-Drempelspanning)/Afvoer naar bronpotentieel
Kanaallading
​ Gaan Kanaalkosten = Poortcapaciteit*(Poort naar kanaalspanning-Drempelspanning)
Kritieke spanning
​ Gaan Kritische spanning = Kritisch elektrisch veld*Elektrisch veld over de kanaallengte

Oxidecapaciteit na spanningsschaling VLSI Formule

Oxidecapaciteit na spanningsschaling = Schaalfactor*Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid
Cox(vs)' = Sf*Coxide
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!