CMOS betekent vrij pad Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Bedoel vrij pad = Kritische spanning in CMOS/Kritisch elektrisch veld
L = Vc/Ec
Deze formule gebruikt 3 Variabelen
Variabelen gebruikt
Bedoel vrij pad - (Gemeten in Meter) - Mean Free Path wordt gedefinieerd als de gemiddelde afstand die een bewegend deeltje aflegt tussen opeenvolgende botsingen, waardoor de richting, energie of andere deeltjeseigenschappen worden gewijzigd.
Kritische spanning in CMOS - (Gemeten in Volt) - Kritieke spanning in CMOS is de minimale fase ten opzichte van de neutrale spanning die gloeit en langs de hele lijngeleider verschijnt.
Kritisch elektrisch veld - (Gemeten in Volt per meter) - Kritisch elektrisch veld wordt gedefinieerd als de elektrische kracht per ladingseenheid.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Kritische spanning in CMOS: 2.79 Volt --> 2.79 Volt Geen conversie vereist
Kritisch elektrisch veld: 0.004 Volt per millimeter --> 4 Volt per meter (Bekijk de conversie ​hier)
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
L = Vc/Ec --> 2.79/4
Evalueren ... ...
L = 0.6975
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
0.6975 Meter -->697.5 Millimeter (Bekijk de conversie ​hier)
DEFINITIEVE ANTWOORD
697.5 Millimeter <-- Bedoel vrij pad
(Berekening voltooid in 00.004 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institute of Technology (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 900+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 1900+ rekenmachines!

15 Kenmerken van CMOS-circuits Rekenmachines

Effectieve capaciteit in CMOS
​ Gaan Effectieve capaciteit in CMOS = Arbeidscyclus*(Uit huidige*(10^(Basiscollectorspanning)))/(Poorten op kritiek pad*[BoltZ]*Basiscollectorspanning)
Permittiviteit van oxidelaag
​ Gaan Permittiviteit van de oxidelaag = Dikte van de oxidelaag*Ingangspoortcapaciteit/(Poortbreedte*Lengte van de poort)
Dikte van de oxidelaag
​ Gaan Dikte van de oxidelaag = Permittiviteit van de oxidelaag*Poortbreedte*Lengte van de poort/Ingangspoortcapaciteit
Breedte van poort:
​ Gaan Poortbreedte = Ingangspoortcapaciteit/(Capaciteit van Gate Oxide Layer*Lengte van de poort)
Kritisch elektrisch veld
​ Gaan Kritisch elektrisch veld = (2*Snelheidsverzadiging)/Mobiliteit van elektronen
Zijwand Omtrek van bronverspreiding
​ Gaan Zijwandomtrek van brondiffusie = (2*Overgangsbreedte)+(2*Lengte van de bron)
Breedte uitputtingsgebied
​ Gaan Breedte uitputtingsregio = PN-verbindingslengte-Effectieve kanaallengte
Effectieve kanaallengte
​ Gaan Effectieve kanaallengte = PN-verbindingslengte-Breedte uitputtingsregio
PN-verbindingslengte
​ Gaan PN-verbindingslengte = Breedte uitputtingsregio+Effectieve kanaallengte
Overgangsbreedte van CMOS
​ Gaan Overgangsbreedte = MOS-poortoverlappingscapaciteit/MOS-poortcapaciteit
Spanning bij minimale EDP
​ Gaan Spanning bij minimale EDP = (3*Drempelspanning)/(3-Activiteitsfactor)
CMOS kritische spanning
​ Gaan Kritische spanning in CMOS = Kritisch elektrisch veld*Bedoel vrij pad
CMOS betekent vrij pad
​ Gaan Bedoel vrij pad = Kritische spanning in CMOS/Kritisch elektrisch veld
Breedte van bronverspreiding
​ Gaan Overgangsbreedte = Gebied van bronverspreiding/Lengte van de bron
Gebied van bronverspreiding
​ Gaan Gebied van bronverspreiding = Lengte van de bron*Overgangsbreedte

CMOS betekent vrij pad Formule

Bedoel vrij pad = Kritische spanning in CMOS/Kritisch elektrisch veld
L = Vc/Ec

Wat zijn de effecten van temperatuur op de sperverzadigingsstroom en de barrièrespanning?

Temperatuur heeft een aanzienlijke invloed op de omgekeerde verzadigingsstroom en barrièrespanning in dunnefilmtransistors. Een temperatuurstijging resulteert doorgaans in een toename van de tegenverzadigingsstroom en een afname van de barrièrespanning. Dit komt omdat hogere temperaturen leiden tot verhoogde gaskinetische energie, wat de injectie van ladingsdragers in het uitputtingsgebied van de transistor kan vergemakkelijken.

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!