Verzadigingstijd Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Verzadigingstijd = -2*Belastingscapaciteit/(Transconductantieprocesparameter*(Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)^2)*int(1,x,Hoge uitgangsspanning,Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
Deze formule gebruikt 1 Functies, 5 Variabelen
Functies die worden gebruikt
int - De definitieve integraal kan worden gebruikt om het netto ondertekende gebied te berekenen, dat wil zeggen het gebied boven de x-as minus het gebied onder de x-as., int(expr, arg, from, to)
Variabelen gebruikt
Verzadigingstijd - (Gemeten in Seconde) - Verzadigingstijd is de tijd die nodig is voordat de uitgangsspanning van een MOSFET een bepaald niveau bereikt (V
Belastingscapaciteit - (Gemeten in Farad) - Belastingscapaciteit is de totale capaciteit die is aangesloten op de uitgangsterminal van de transistor, inclusief externe componenten en de eigen parasitaire capaciteit van de MOSFET.
Transconductantieprocesparameter - (Gemeten in Ampère per vierkante volt) - Transconductance Process Parameter is een apparaatspecifieke constante die het vermogen van de transistor karakteriseert om een verandering in de poortspanning om te zetten in een verandering in de uitgangsstroom.
Hoge uitgangsspanning - (Gemeten in Volt) - Hoge uitgangsspanning is het maximale spanningsniveau dat de transistor kan bereiken aan de uitgangsterminal wanneer deze volledig is ingeschakeld (werkend in verzadiging).
Drempelspanning - (Gemeten in Volt) - Drempelspanning is de minimale poort-naar-bronspanning die nodig is in een MOSFET om deze "aan" te zetten en een aanzienlijke stroom te laten vloeien.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Belastingscapaciteit: 9.77 Farad --> 9.77 Farad Geen conversie vereist
Transconductantieprocesparameter: 4.553 Ampère per vierkante volt --> 4.553 Ampère per vierkante volt Geen conversie vereist
Hoge uitgangsspanning: 3.789 Volt --> 3.789 Volt Geen conversie vereist
Drempelspanning: 5.91 Volt --> 5.91 Volt Geen conversie vereist
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT) --> -2*9.77/(4.553*(3.789-5.91)^2)*int(1,x,3.789,3.789-5.91)
Evalueren ... ...
Tsat = 5.63810361511811
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
5.63810361511811 Seconde --> Geen conversie vereist
DEFINITIEVE ANTWOORD
5.63810361511811 5.638104 Seconde <-- Verzadigingstijd
(Berekening voltooid in 00.020 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Vignesh Naidu
Vellore Instituut voor Technologie (VIT), Vellore, Tamil Nadu
Vignesh Naidu heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 25+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Dipanjona Mallick
Erfgoedinstituut voor technologie (HITK), Calcutta
Dipanjona Mallick heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

21 MOS-transistor Rekenmachines

Equivalentiefactor voor zijwandspanning
​ Gaan Equivalentiefactor voor zijwandspanning = -(2*sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen)/(Eindspanning-Initiële spanning)*(sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Eindspanning)-sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Initiële spanning)))
Trek de stroom in het lineaire gebied naar beneden
​ Gaan Lineaire regio pull-downstroom = sum(x,0,Aantal parallelle drivertransistors,(Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit/2)*(Kanaalbreedte/Kanaallengte)*(2*(Poortbronspanning-Drempelspanning)*Uitgangsspanning-Uitgangsspanning^2))
Knooppuntspanning bij gegeven instantie
​ Gaan Knooppuntspanning bij gegeven instantie = (Transconductantiefactor/Knooppuntcapaciteit)*int(exp(-(1/(Knooppunt weerstand*Knooppuntcapaciteit))*(Tijdsperiode-x))*Stroom stroomt naar knooppunt*x,x,0,Tijdsperiode)
Trek de stroom in het verzadigingsgebied naar beneden
​ Gaan Verzadigingsregio Pull-downstroom = sum(x,0,Aantal parallelle drivertransistors,(Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit/2)*(Kanaalbreedte/Kanaallengte)*(Poortbronspanning-Drempelspanning)^2)
Verzadigingstijd
​ Gaan Verzadigingstijd = -2*Belastingscapaciteit/(Transconductantieprocesparameter*(Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)^2)*int(1,x,Hoge uitgangsspanning,Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)
Ladingsdichtheid van het uitputtingsgebied
​ Gaan Dichtheid van de lading van de uitputtingslaag = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor*modulus(Oppervlaktepotentieel-Bulk Fermi-potentieel)))
Tijdvertraging wanneer NMOS in een lineair gebied werkt
​ Gaan Lineair gebied in tijdvertraging = -2*Verbindingscapaciteit*int(1/(Transconductantieprocesparameter*(2*(Ingangsspanning-Drempelspanning)*x-x^2)),x,Initiële spanning,Eindspanning)
Afvoerstroom die door de MOS-transistor vloeit
​ Gaan Afvoerstroom = (Kanaalbreedte/Kanaallengte)*Elektronenmobiliteit*Oxidecapaciteit*int((Poortbronspanning-x-Drempelspanning),x,0,Afvoerbronspanning)
Diepte van de uitputtingsregio geassocieerd met afvoer
​ Gaan De diepte van het uitputtingsgebied van de drain = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Ingebouwd verbindingspotentieel+Afvoerbronspanning))/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Fermi-potentieel voor N-type
​ Gaan Fermi-potentieel voor N-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Concentratie van donordoteringsmiddelen/Intrinsieke dragerconcentratie)
Afvoerstroom in verzadigingsgebied in MOS-transistor
​ Gaan Verzadigingsgebied Afvoerstroom = Kanaalbreedte*Verzadiging Elektronendriftsnelheid*int(Aanval*Korte kanaalparameter,x,0,Effectieve kanaallengte)
Fermi-potentieel voor P-type
​ Gaan Fermi-potentieel voor P-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Intrinsieke dragerconcentratie/Dopingconcentratie van acceptor)
Maximale uitputtingsdiepte
​ Gaan Maximale uitputtingsdiepte = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Bulk Fermi-potentieel))/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Equivalente grote signaalcapaciteit
​ Gaan Equivalente grote signaalcapaciteit = (1/(Eindspanning-Initiële spanning))*int(Verbindingscapaciteit*x,x,Initiële spanning,Eindspanning)
Ingebouwd potentieel in de uitputtingsregio
​ Gaan Ingebouwde spanning = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor*modulus(-2*Bulk Fermi-potentieel)))
Diepte van de uitputtingsregio geassocieerd met bron
​ Gaan Bron's diepte van de uitputtingsregio = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Ingebouwd verbindingspotentieel)/([Charge-e]*Dopingconcentratie van acceptor))
Substraat bias-coëfficiënt
​ Gaan Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
Gemiddeld vermogen dat in de loop van de tijd wordt gedissipeerd
​ Gaan Gemiddeld vermogen = (1/Totale tijd besteed)*int(Spanning*Huidig,x,0,Totale tijd genomen)
Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit
​ Gaan Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit = Omtrek van zijwand*Zijwandverbindingscapaciteit*Equivalentiefactor voor zijwandspanning
Werkfunctie in MOSFET
​ Gaan Werk functie = Vacuümniveau+(Energieniveau van de geleidingsband-Fermi-niveau)
Nul bias zijwandverbindingscapaciteit per lengte-eenheid
​ Gaan Zijwandverbindingscapaciteit = Zero Bias zijwandverbindingspotentieel*Diepte van zijwand

Verzadigingstijd Formule

Verzadigingstijd = -2*Belastingscapaciteit/(Transconductantieprocesparameter*(Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)^2)*int(1,x,Hoge uitgangsspanning,Hoge uitgangsspanning-Drempelspanning)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!