Tempo de saturação Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Tempo de saturação = -2*Capacitância de Carga/(Parâmetro do Processo de Transcondutância*(Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)^2)*int(1,x,Alta Tensão de Saída,Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
Esta fórmula usa 1 Funções, 5 Variáveis
Funções usadas
int - A integral definida pode ser usada para calcular a área líquida sinalizada, que é a área acima do eixo x menos a área abaixo do eixo x., int(expr, arg, from, to)
Variáveis Usadas
Tempo de saturação - (Medido em Segundo) - Tempo de saturação é o tempo que leva para a tensão de saída de um MOSFET atingir um nível especificado (V
Capacitância de Carga - (Medido em Farad) - Capacitância de carga é a capacitância total conectada ao terminal de saída do transistor, incluindo componentes externos e a própria capacitância parasita do MOSFET.
Parâmetro do Processo de Transcondutância - (Medido em Ampère por Volt Quadrado) - O parâmetro de processo de transcondutância é uma constante específica do dispositivo que caracteriza a capacidade do transistor de converter uma mudança na tensão da porta em uma mudança na corrente de saída.
Alta Tensão de Saída - (Medido em Volt) - Alta Tensão de Saída é o nível máximo de tensão que o transistor pode atingir em seu terminal de saída quando totalmente ligado (operando em saturação).
Tensão de limiar - (Medido em Volt) - Tensão limite é a tensão mínima porta-fonte necessária em um MOSFET para ligá-lo e permitir o fluxo de uma corrente significativa.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Capacitância de Carga: 9.77 Farad --> 9.77 Farad Nenhuma conversão necessária
Parâmetro do Processo de Transcondutância: 4.553 Ampère por Volt Quadrado --> 4.553 Ampère por Volt Quadrado Nenhuma conversão necessária
Alta Tensão de Saída: 3.789 Volt --> 3.789 Volt Nenhuma conversão necessária
Tensão de limiar: 5.91 Volt --> 5.91 Volt Nenhuma conversão necessária
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT) --> -2*9.77/(4.553*(3.789-5.91)^2)*int(1,x,3.789,3.789-5.91)
Avaliando ... ...
Tsat = 5.63810361511811
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
5.63810361511811 Segundo --> Nenhuma conversão necessária
RESPOSTA FINAL
5.63810361511811 5.638104 Segundo <-- Tempo de saturação
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

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Criado por Vignesh Naidu
Instituto Vellore de Tecnologia (VITA), Vellore, Tamil Nadu
Vignesh Naidu criou esta calculadora e mais 25+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Dipanjona Mallick
Instituto Patrimonial de Tecnologia (HITK), Calcutá
Dipanjona Mallick verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!

21 Transistor MOS Calculadoras

Fator de equivalência de tensão na parede lateral
​ Vai Fator de equivalência de tensão na parede lateral = -(2*sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais)/(Tensão Final-Tensão Inicial)*(sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais-Tensão Final)-sqrt(Potencial integrado de junções de paredes laterais-Tensão Inicial)))
Puxar para baixo a corrente na região linear
​ Vai Corrente de redução da região linear = sum(x,0,Número de transistores de driver paralelo,(Mobilidade Eletrônica*Capacitância de Óxido/2)*(Largura de banda/Comprimento do canal)*(2*(Tensão da Fonte da Porta-Tensão de limiar)*Voltagem de saída-Voltagem de saída^2))
Tensão do nó em determinada instância
​ Vai Tensão do nó em determinada instância = (Fator de Transcondutância/Capacitância do nó)*int(exp(-(1/(Resistência do nó*Capacitância do nó))*(Período de tempo-x))*Corrente fluindo para o nó*x,x,0,Período de tempo)
Puxe para baixo a corrente na região de saturação
​ Vai Corrente de redução da região de saturação = sum(x,0,Número de transistores de driver paralelo,(Mobilidade Eletrônica*Capacitância de Óxido/2)*(Largura de banda/Comprimento do canal)*(Tensão da Fonte da Porta-Tensão de limiar)^2)
Tempo de saturação
​ Vai Tempo de saturação = -2*Capacitância de Carga/(Parâmetro do Processo de Transcondutância*(Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)^2)*int(1,x,Alta Tensão de Saída,Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)
Corrente de drenagem que flui através do transistor MOS
​ Vai Corrente de drenagem = (Largura de banda/Comprimento do canal)*Mobilidade Eletrônica*Capacitância de Óxido*int((Tensão da Fonte da Porta-x-Tensão de limiar),x,0,Tensão da fonte de drenagem)
Densidade de Carga da Região de Esgotamento
​ Vai Densidade de Carga da Camada de Esgotamento = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentração de Dopagem do Aceitante*modulus(Potencial de Superfície-Potencial de Fermi em massa)))
Atraso de tempo quando o NMOS opera na região linear
​ Vai Região Linear em Atraso de Tempo = -2*Capacitância de Junção*int(1/(Parâmetro do Processo de Transcondutância*(2*(Tensão de entrada-Tensão de limiar)*x-x^2)),x,Tensão Inicial,Tensão Final)
Profundidade da região de esgotamento associada ao dreno
​ Vai Região de profundidade de esgotamento do dreno = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potencial de junção integrado+Tensão da fonte de drenagem))/([Charge-e]*Concentração de Dopagem do Aceitante))
Corrente de drenagem na região de saturação no transistor MOS
​ Vai Corrente de drenagem da região de saturação = Largura de banda*Velocidade de deriva de elétrons de saturação*int(Carregar*Parâmetro de canal curto,x,0,Comprimento Efetivo do Canal)
Profundidade Máxima de Esgotamento
​ Vai Profundidade Máxima de Esgotamento = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Potencial de Fermi em massa))/([Charge-e]*Concentração de Dopagem do Aceitante))
Potencial de Fermi para tipo P
​ Vai Potencial de Fermi para tipo P = ([BoltZ]*Temperatura absoluta)/[Charge-e]*ln(Concentração Intrínseca de Portadores/Concentração de Dopagem do Aceitante)
Potencial de Fermi para tipo N
​ Vai Potencial de Fermi para tipo N = ([BoltZ]*Temperatura absoluta)/[Charge-e]*ln(Concentração de dopante doador/Concentração Intrínseca de Portadores)
Potencial integrado na região de esgotamento
​ Vai Tensão embutida = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentração de Dopagem do Aceitante*modulus(-2*Potencial de Fermi em massa)))
Capacitância equivalente de sinal grande
​ Vai Capacitância equivalente de sinal grande = (1/(Tensão Final-Tensão Inicial))*int(Capacitância de Junção*x,x,Tensão Inicial,Tensão Final)
Profundidade da região de esgotamento associada à fonte
​ Vai Região de profundidade de esgotamento da fonte = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Potencial de junção integrado)/([Charge-e]*Concentração de Dopagem do Aceitante))
Coeficiente de polarização do substrato
​ Vai Coeficiente de polarização do substrato = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentração de Dopagem do Aceitante)/Capacitância de Óxido
Capacitância equivalente de junção de sinal grande
​ Vai Capacitância equivalente de junção de sinal grande = Perímetro da parede lateral*Capacitância de Junção Lateral*Fator de equivalência de tensão na parede lateral
Potência Média Dissipada ao Longo do Tempo
​ Vai Potencia média = (1/Tempo total gasto)*int(Tensão*Atual,x,0,Tempo Total Levado)
Capacitância da junção da parede lateral com polarização zero por unidade de comprimento
​ Vai Capacitância de Junção Lateral = Potencial de junção da parede lateral com polarização zero*Profundidade da parede lateral
Função de trabalho no MOSFET
​ Vai Função no trabalho = Nível de vácuo+(Nível de energia da banda de condução-Nível Fermi)

Tempo de saturação Fórmula

Tempo de saturação = -2*Capacitância de Carga/(Parâmetro do Processo de Transcondutância*(Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)^2)*int(1,x,Alta Tensão de Saída,Alta Tensão de Saída-Tensão de limiar)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
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