Czas nasycenia Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Czas nasycenia = -2*Pojemność obciążenia/(Parametr procesu transkonduktancji*(Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)^2)*int(1,x,Wysokie napięcie wyjściowe,Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
Ta formuła używa 1 Funkcje, 5 Zmienne
Używane funkcje
int - Całkę oznaczoną można wykorzystać do obliczenia pola powierzchni netto ze znakiem, czyli obszaru nad osią x minus pole pod osią x., int(expr, arg, from, to)
Używane zmienne
Czas nasycenia - (Mierzone w Drugi) - Czas nasycenia to czas potrzebny, aby napięcie wyjściowe MOSFET-u osiągnęło określony poziom (V
Pojemność obciążenia - (Mierzone w Farad) - Pojemność obciążenia to całkowita pojemność podłączona do zacisku wyjściowego tranzystora, łącznie z komponentami zewnętrznymi i własną pojemnością pasożytniczą MOSFET-u.
Parametr procesu transkonduktancji - (Mierzone w Amper na wolt kwadratowy) - Parametr procesu transkonduktancji to stała specyficzna dla urządzenia, która charakteryzuje zdolność tranzystora do przekształcania zmiany napięcia bramki na zmianę prądu wyjściowego.
Wysokie napięcie wyjściowe - (Mierzone w Wolt) - Wysokie napięcie wyjściowe to maksymalny poziom napięcia, jaki tranzystor może osiągnąć na zacisku wyjściowym, gdy jest całkowicie włączony (praca w stanie nasycenia).
Próg napięcia - (Mierzone w Wolt) - Napięcie progowe to minimalne napięcie bramka-źródło wymagane w tranzystorze MOSFET, aby go „włączyć” i umożliwić przepływ znacznego prądu.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Pojemność obciążenia: 9.77 Farad --> 9.77 Farad Nie jest wymagana konwersja
Parametr procesu transkonduktancji: 4.553 Amper na wolt kwadratowy --> 4.553 Amper na wolt kwadratowy Nie jest wymagana konwersja
Wysokie napięcie wyjściowe: 3.789 Wolt --> 3.789 Wolt Nie jest wymagana konwersja
Próg napięcia: 5.91 Wolt --> 5.91 Wolt Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT) --> -2*9.77/(4.553*(3.789-5.91)^2)*int(1,x,3.789,3.789-5.91)
Ocenianie ... ...
Tsat = 5.63810361511811
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
5.63810361511811 Drugi --> Nie jest wymagana konwersja
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
5.63810361511811 5.638104 Drugi <-- Czas nasycenia
(Obliczenie zakończone za 00.020 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez Vignesha Naidu
Instytut Technologii Vellore (WIT), Vellore, Tamil Nadu
Vignesha Naidu utworzył ten kalkulator i 25+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Dipanjona Mallick
Instytut Dziedzictwa Technologicznego (UDERZENIE), Kalkuta
Dipanjona Mallick zweryfikował ten kalkulator i 50+ więcej kalkulatorów!

21 Tranzystor MOS Kalkulatory

Współczynnik równoważności napięcia ściany bocznej
​ Iść Współczynnik równoważności napięcia ściany bocznej = -(2*sqrt(Wbudowany potencjał połączeń ścian bocznych)/(Napięcie końcowe-Napięcie początkowe)*(sqrt(Wbudowany potencjał połączeń ścian bocznych-Napięcie końcowe)-sqrt(Wbudowany potencjał połączeń ścian bocznych-Napięcie początkowe)))
Pociągnij w dół prąd w obszarze liniowym
​ Iść Region liniowy Prądu ściągającego = sum(x,0,Liczba równoległych tranzystorów sterujących,(Mobilność elektronów*Pojemność tlenkowa/2)*(Szerokość kanału/Długość kanału)*(2*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)*Napięcie wyjściowe-Napięcie wyjściowe^2))
Napięcie węzła w danym przypadku
​ Iść Napięcie węzła w danym przypadku = (Współczynnik transkonduktancji/Pojemność węzła)*int(exp(-(1/(Opór węzła*Pojemność węzła))*(Okres czasu-x))*Prąd wpływający do węzła*x,x,0,Okres czasu)
Zmniejsz prąd w obszarze nasycenia
​ Iść Prąd ściągania obszaru nasycenia = sum(x,0,Liczba równoległych tranzystorów sterujących,(Mobilność elektronów*Pojemność tlenkowa/2)*(Szerokość kanału/Długość kanału)*(Napięcie źródła bramki-Próg napięcia)^2)
Czas nasycenia
​ Iść Czas nasycenia = -2*Pojemność obciążenia/(Parametr procesu transkonduktancji*(Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)^2)*int(1,x,Wysokie napięcie wyjściowe,Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)
Prąd drenu przepływający przez tranzystor MOS
​ Iść Prąd spustowy = (Szerokość kanału/Długość kanału)*Mobilność elektronów*Pojemność tlenkowa*int((Napięcie źródła bramki-x-Próg napięcia),x,0,Napięcie źródła drenu)
Opóźnienie czasowe, gdy NMOS działa w obszarze liniowym
​ Iść Region liniowy w opóźnieniu czasowym = -2*Pojemność złącza*int(1/(Parametr procesu transkonduktancji*(2*(Napięcie wejściowe-Próg napięcia)*x-x^2)),x,Napięcie początkowe,Napięcie końcowe)
Gęstość ładunku w regionie wyczerpania
​ Iść Gęstość ładunku warstwy zubożonej = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingujące stężenie akceptora*modulus(Potencjał powierzchni-Masowy potencjał Fermiego)))
Głębokość obszaru wyczerpania związana z drenażem
​ Iść Region głębokości wyczerpania drenażu = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Wbudowany potencjał połączenia+Napięcie źródła drenu))/([Charge-e]*Dopingujące stężenie akceptora))
Prąd drenu w obszarze nasycenia tranzystora MOS
​ Iść Prąd drenu obszaru nasycenia = Szerokość kanału*Prędkość dryfu elektronów w nasyceniu*int(Opłata*Parametr krótkiego kanału,x,0,Efektywna długość kanału)
Maksymalna głębokość wyczerpania
​ Iść Maksymalna głębokość wyczerpania = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Masowy potencjał Fermiego))/([Charge-e]*Dopingujące stężenie akceptora))
Równoważna duża pojemność sygnału
​ Iść Równoważna duża pojemność sygnału = (1/(Napięcie końcowe-Napięcie początkowe))*int(Pojemność złącza*x,x,Napięcie początkowe,Napięcie końcowe)
Potencjał Fermiego dla typu P
​ Iść Potencjał Fermiego dla typu P = ([BoltZ]*Temperatura absolutna)/[Charge-e]*ln(Wewnętrzne stężenie nośnika/Dopingujące stężenie akceptora)
Wbudowany potencjał w regionie wyczerpania
​ Iść Wbudowane napięcie = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingujące stężenie akceptora*modulus(-2*Masowy potencjał Fermiego)))
Potencjał Fermiego dla typu N
​ Iść Potencjał Fermiego dla typu N = ([BoltZ]*Temperatura absolutna)/[Charge-e]*ln(Stężenie domieszki dawcy/Wewnętrzne stężenie nośnika)
Region głębokości wyczerpania powiązany ze źródłem
​ Iść Region głębokości wyczerpania źródła = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Wbudowany potencjał połączenia)/([Charge-e]*Dopingujące stężenie akceptora))
Współczynnik odchylenia podłoża
​ Iść Współczynnik odchylenia podłoża = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingujące stężenie akceptora)/Pojemność tlenkowa
Równoważna pojemność złącza dużego sygnału
​ Iść Równoważna pojemność złącza dużego sygnału = Obwód ściany bocznej*Pojemność złącza ściany bocznej*Współczynnik równoważności napięcia ściany bocznej
Średnia moc rozproszona w danym okresie czasu
​ Iść Średnia moc = (1/Całkowity czas)*int(Napięcie*Aktualny,x,0,Całkowity zajęty czas)
Funkcja pracy w MOSFET-ie
​ Iść Funkcja pracy = Poziom próżni+(Poziom energii pasma przewodnictwa-Poziom Fermiego)
Pojemność złącza ściany bocznej o zerowym odchyleniu na jednostkę długości
​ Iść Pojemność złącza ściany bocznej = Potencjał zerowego odchylenia ściany bocznej*Głębokość ściany bocznej

Czas nasycenia Formułę

Czas nasycenia = -2*Pojemność obciążenia/(Parametr procesu transkonduktancji*(Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)^2)*int(1,x,Wysokie napięcie wyjściowe,Wysokie napięcie wyjściowe-Próg napięcia)
Tsat = -2*Cload/(kn*(VOH-VT)^2)*int(1,x,VOH,VOH-VT)
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!