Tiempo de tránsito del transistor PNP Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Tiempo de tránsito = Ancho de la base^2/(2*Constante de difusión para PNP)
τf = Wb^2/(2*Dp)
Esta fórmula usa 3 Variables
Variables utilizadas
Tiempo de tránsito - (Medido en Segundo) - El tiempo de tránsito en un transistor es crucial ya que determina la frecuencia máxima a la que el transistor puede funcionar de manera efectiva.
Ancho de la base - (Medido en Metro) - El ancho de la base es un parámetro importante que afecta las características del transistor, especialmente en términos de funcionamiento y velocidad.
Constante de difusión para PNP - (Medido en Metro cuadrado por segundo) - La constante de difusión para PNP describe la facilidad con la que estos portadores minoritarios se difunden a través del material semiconductor cuando se aplica un campo eléctrico.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Ancho de la base: 8 Centímetro --> 0.08 Metro (Verifique la conversión ​aquí)
Constante de difusión para PNP: 100 Centímetro cuadrado por segundo --> 0.01 Metro cuadrado por segundo (Verifique la conversión ​aquí)
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
τf = Wb^2/(2*Dp) --> 0.08^2/(2*0.01)
Evaluar ... ...
τf = 0.32
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
0.32 Segundo --> No se requiere conversión
RESPUESTA FINAL
0.32 Segundo <-- Tiempo de tránsito
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Creado por Raúl Gupta
Universidad de Chandigarh (CU), Mohali, Punyab
¡Raúl Gupta ha creado esta calculadora y 25+ más calculadoras!
Verifier Image
Verificada por Ritwik Tripathi
Instituto de Tecnología de Vellore (VIT Vellore), Vellore
¡Ritwik Tripathi ha verificado esta calculadora y 100+ más calculadoras!

15 Mejora del canal P Calculadoras

Corriente de drenaje general del transistor PMOS
​ Vamos Corriente de drenaje = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))^2*(1+Voltaje entre drenaje y fuente/modulus(Voltaje temprano))
Corriente de drenaje en la región triodo del transistor PMOS
​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*((Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))*Voltaje entre drenaje y fuente-1/2*(Voltaje entre drenaje y fuente)^2)
Efecto corporal en PMOS
​ Vamos Cambio en el voltaje de umbral = Voltaje de umbral+Parámetro del proceso de fabricación*(sqrt(2*Parámetro físico+Voltaje entre el cuerpo y la fuente)-sqrt(2*Parámetro físico))
Corriente de drenaje en la región del triodo del transistor PMOS dado Vsd
​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(modulus(Voltaje efectivo)-1/2*Voltaje entre drenaje y fuente)*Voltaje entre drenaje y fuente
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS
​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))^2
Parámetro de efecto de puerta trasera en PMOS
​ Vamos Parámetro de efecto de puerta trasera = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Concentración de donantes)/Capacitancia de óxido
Drenar la corriente de la fuente al drenaje
​ Vamos Corriente de drenaje = (Ancho de la unión*Carga de capa de inversión*Movilidad de agujeros en canal*Componente horizontal del campo eléctrico en el canal)
Carga de capa de inversión en condición de pellizco en PMOS
​ Vamos Carga de capa de inversión = -Capacitancia de óxido*(Voltaje entre puerta y fuente-Voltaje de umbral-Voltaje entre drenaje y fuente)
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS dado Vov
​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje efectivo)^2
Corriente en el canal de inversión de PMOS
​ Vamos Corriente de drenaje = (Ancho de la unión*Carga de capa de inversión*Velocidad de deriva de inversión)
Carga de capa de inversión en PMOS
​ Vamos Carga de capa de inversión = -Capacitancia de óxido*(Voltaje entre puerta y fuente-Voltaje de umbral)
Corriente en Canal de Inversión de PMOS dada Movilidad
​ Vamos Velocidad de deriva de inversión = Movilidad de agujeros en canal*Componente horizontal del campo eléctrico en el canal
Voltaje de sobremarcha de PMOS
​ Vamos Voltaje efectivo = Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral)
Parámetro de transconductancia de proceso de PMOS
​ Vamos Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS = Movilidad de agujeros en canal*Capacitancia de óxido
Tiempo de tránsito del transistor PNP
​ Vamos Tiempo de tránsito = Ancho de la base^2/(2*Constante de difusión para PNP)

Tiempo de tránsito del transistor PNP Fórmula

Tiempo de tránsito = Ancho de la base^2/(2*Constante de difusión para PNP)
τf = Wb^2/(2*Dp)
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!