Tensione di soglia canale corto VLSI Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Tensione di soglia a canale corto = Tensione di soglia polarizzazione zero del corpo-Riduzione della tensione di soglia a canale corto
VT0(short channel) = VT0-ΔVT0
Questa formula utilizza 3 Variabili
Variabili utilizzate
Tensione di soglia a canale corto - (Misurato in Volt) - La tensione di soglia a canale corto è definita come la tensione di gate richiesta dopo la riduzione delle dimensioni del MOSFET mediante ridimensionamento.
Tensione di soglia polarizzazione zero del corpo - (Misurato in Volt) - La tensione di soglia di polarizzazione del corpo zero è definita come la tensione di soglia del MOSFET quando il substrato è a potenziale zero.
Riduzione della tensione di soglia a canale corto - (Misurato in Volt) - La riduzione della tensione di soglia a canale corto è definita come una riduzione della tensione di soglia del MOSFET dovuta all'effetto del canale corto.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Tensione di soglia polarizzazione zero del corpo: 0.855 Volt --> 0.855 Volt Nessuna conversione richiesta
Riduzione della tensione di soglia a canale corto: 0.46 Volt --> 0.46 Volt Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
VT0(short channel) = VT0-ΔVT0 --> 0.855-0.46
Valutare ... ...
VT0(short channel) = 0.395
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
0.395 Volt --> Nessuna conversione richiesta
RISPOSTA FINALE
0.395 Volt <-- Tensione di soglia a canale corto
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da Priyanka Patel
Facoltà di ingegneria Lalbhai Dalpatbhai (LDCE), Ahmedabad
Priyanka Patel ha creato questa calcolatrice e altre 25+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

25 Ottimizzazione dei materiali VLSI Calcolatrici

Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI
​ Partire Densità di carica della regione di esaurimento di massa = -(1-((Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente+Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio)/(2*Lunghezza del canale)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie))
Coefficiente di effetto corporeo
​ Partire Coefficiente di effetto corporeo = modulus((Soglia di voltaggio-Tensione di soglia DIBL)/(sqrt(Potenziale di superficie+(Differenza di potenziale del corpo sorgente))-sqrt(Potenziale di superficie)))
Profondità di esaurimento della giunzione PN con sorgente VLSI
​ Partire Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tensione incorporata di giunzione)/([Charge-e]*Concentrazione dell'accettore))
Tensione incorporata di giunzione VLSI
​ Partire Tensione incorporata di giunzione = ([BoltZ]*Temperatura/[Charge-e])*ln(Concentrazione dell'accettore*Concentrazione dei donatori/(Concentrazione intrinseca)^2)
Capacità parassita della sorgente totale
​ Partire Capacità parassita della sorgente = (Capacità tra giunzione del corpo e sorgente*Area di diffusione della sorgente)+(Capacità tra la giunzione del corpo e la parete laterale*Perimetro della parete laterale della diffusione della sorgente)
Corrente di saturazione del canale corto VLSI
​ Partire Corrente di saturazione del canale corto = Larghezza del canale*Velocità di deriva degli elettroni in saturazione*Capacità di ossido per unità di area*Tensione della sorgente di drenaggio di saturazione
Corrente di giunzione
​ Partire Corrente di giunzione = (Potenza statica/Tensione del collettore di base)-(Corrente sottosoglia+Corrente di contesa+Corrente del cancello)
Potenziale di superficie
​ Partire Potenziale di superficie = 2*Differenza di potenziale del corpo sorgente*ln(Concentrazione dell'accettore/Concentrazione intrinseca)
Lunghezza del gate utilizzando la capacità dell'ossido di gate
​ Partire Lunghezza del cancello = Capacità del cancello/(Capacità dello strato di ossido di gate*Larghezza del cancello)
Capacità dell'ossido di gate
​ Partire Capacità dello strato di ossido di gate = Capacità del cancello/(Larghezza del cancello*Lunghezza del cancello)
Coefficiente DIBL
​ Partire Coefficiente DIBL = (Tensione di soglia DIBL-Soglia di voltaggio)/Drenare al potenziale di origine
Tensione di soglia quando la sorgente è al potenziale corporeo
​ Partire Tensione di soglia DIBL = Coefficiente DIBL*Drenare al potenziale di origine+Soglia di voltaggio
Pendenza sottosoglia
​ Partire Pendenza sottosoglia = Differenza di potenziale del corpo sorgente*Coefficiente DIBL*ln(10)
Soglia di voltaggio
​ Partire Soglia di voltaggio = Voltaggio da gate a canale-(Carica del canale/Capacità del cancello)
Capacità del gate
​ Partire Capacità del cancello = Carica del canale/(Voltaggio da gate a canale-Soglia di voltaggio)
Channel Charge
​ Partire Carica del canale = Capacità del cancello*(Voltaggio da gate a canale-Soglia di voltaggio)
Capacità dell'ossido dopo il ridimensionamento completo VLSI
​ Partire Capacità dell'ossido dopo il ridimensionamento completo = Capacità di ossido per unità di area*Fattore di scala
Profondità di giunzione dopo il ridimensionamento completo VLSI
​ Partire Profondità della giunzione dopo il ridimensionamento completo = Profondità di giunzione/Fattore di scala
Spessore dell'ossido di gate dopo il ridimensionamento completo VLSI
​ Partire Spessore dell'ossido di gate dopo la scalatura completa = Spessore dell'ossido di gate/Fattore di scala
Lunghezza del canale dopo il ridimensionamento completo VLSI
​ Partire Lunghezza del canale dopo il ridimensionamento completo = Lunghezza del canale/Fattore di scala
Larghezza del canale dopo il ridimensionamento completo VLSI
​ Partire Larghezza del canale dopo il ridimensionamento completo = Larghezza del canale/Fattore di scala
Tensione critica
​ Partire Tensione critica = Campo elettrico critico*Campo elettrico attraverso la lunghezza del canale
Capacità intrinseca di gate
​ Partire Capacità di sovrapposizione del gate MOS = Capacità del gate MOS*Larghezza di transizione
Mobilità in Mosfet
​ Partire Mobilità nei MOSFET = K Primo/Capacità dello strato di ossido di gate
K-Prime
​ Partire K Primo = Mobilità nei MOSFET*Capacità dello strato di ossido di gate

Tensione di soglia canale corto VLSI Formula

Tensione di soglia a canale corto = Tensione di soglia polarizzazione zero del corpo-Riduzione della tensione di soglia a canale corto
VT0(short channel) = VT0-ΔVT0
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