Substraat bias-coëfficiënt Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
Deze formule gebruikt 2 Constanten, 1 Functies, 3 Variabelen
Gebruikte constanten
[Permitivity-silicon] - Permittiviteit van silicium Waarde genomen als 11.7
[Charge-e] - Lading van elektron Waarde genomen als 1.60217662E-19
Functies die worden gebruikt
sqrt - Een vierkantswortelfunctie is een functie die een niet-negatief getal als invoer neemt en de vierkantswortel van het opgegeven invoergetal retourneert., sqrt(Number)
Variabelen gebruikt
Substraat bias-coëfficiënt - Substrate Bias Coefficient is een parameter die wordt gebruikt bij het modelleren van MOSFET-apparaten (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor).
Dopingconcentratie van acceptor - (Gemeten in Elektronen per kubieke meter) - Dopingconcentratie van acceptor verwijst naar de concentratie van acceptoratomen die opzettelijk aan een halfgeleidermateriaal zijn toegevoegd.
Oxidecapaciteit - (Gemeten in Farad) - Oxidecapaciteit verwijst naar de capaciteit die is geassocieerd met de isolerende oxidelaag in een metaaloxide-halfgeleiderstructuur (MOS), zoals in MOSFET's.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Dopingconcentratie van acceptor: 1.32 Elektronen per kubieke centimeter --> 1320000 Elektronen per kubieke meter (Bekijk de conversie ​hier)
Oxidecapaciteit: 3.9 Farad --> 3.9 Farad Geen conversie vereist
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox --> sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*1320000)/3.9
Evalueren ... ...
γs = 5.70407834987726E-07
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
5.70407834987726E-07 --> Geen conversie vereist
DEFINITIEVE ANTWOORD
5.70407834987726E-07 5.7E-7 <-- Substraat bias-coëfficiënt
(Berekening voltooid in 00.021 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Banu Prakash LinkedIn Logo
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Bangalore
Banu Prakash heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 50+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Dipanjona Mallick LinkedIn Logo
Erfgoedinstituut voor technologie (HITK), Calcutta
Dipanjona Mallick heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

MOS-transistor Rekenmachines

Equivalentiefactor voor zijwandspanning
​ LaTeX ​ Gaan Equivalentiefactor voor zijwandspanning = -(2*sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen)/(Eindspanning-Initiële spanning)*(sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Eindspanning)-sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Initiële spanning)))
Fermi-potentieel voor P-type
​ LaTeX ​ Gaan Fermi-potentieel voor P-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Intrinsieke dragerconcentratie/Dopingconcentratie van acceptor)
Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit
​ LaTeX ​ Gaan Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit = Omtrek van zijwand*Zijwandverbindingscapaciteit*Equivalentiefactor voor zijwandspanning
Nul bias zijwandverbindingscapaciteit per lengte-eenheid
​ LaTeX ​ Gaan Zijwandverbindingscapaciteit = Zero Bias zijwandverbindingspotentieel*Diepte van zijwand

Substraat bias-coëfficiënt Formule

​LaTeX ​Gaan
Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!