Coefficiente di polarizzazione del substrato Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Coefficiente di polarizzazione del substrato = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentrazione antidoping dell'accettore)/Capacità dell'ossido
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
Questa formula utilizza 2 Costanti, 1 Funzioni, 3 Variabili
Costanti utilizzate
[Permitivity-silicon] - Permittività del silicio Valore preso come 11.7
[Charge-e] - Carica dell'elettrone Valore preso come 1.60217662E-19
Funzioni utilizzate
sqrt - Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato., sqrt(Number)
Variabili utilizzate
Coefficiente di polarizzazione del substrato - Il coefficiente di polarizzazione del substrato è un parametro utilizzato nella modellazione di dispositivi MOSFET (transistor a effetto di campo a semiconduttore di ossido di metallo).
Concentrazione antidoping dell'accettore - (Misurato in Elettroni per metro cubo) - La concentrazione di drogaggio dell'accettore si riferisce alla concentrazione di atomi dell'accettore aggiunti intenzionalmente a un materiale semiconduttore.
Capacità dell'ossido - (Misurato in Farad) - La capacità di ossido si riferisce alla capacità associata allo strato di ossido isolante in una struttura a semiconduttore a ossido di metallo (MOS), come nei MOSFET.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Concentrazione antidoping dell'accettore: 1.32 Elettroni per centimetro cubo --> 1320000 Elettroni per metro cubo (Controlla la conversione ​qui)
Capacità dell'ossido: 3.9 Farad --> 3.9 Farad Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox --> sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*1320000)/3.9
Valutare ... ...
γs = 5.70407834987726E-07
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
5.70407834987726E-07 --> Nessuna conversione richiesta
RISPOSTA FINALE
5.70407834987726E-07 5.7E-7 <-- Coefficiente di polarizzazione del substrato
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

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Dayananda Sagar College di Ingegneria (DSCE), Bangalore
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Verificato da Dipanjona Mallick LinkedIn Logo
Heritage Institute of Technology (COLPO), Calcutta
Dipanjona Mallick ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

Transistor MOS Calcolatrici

Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
​ LaTeX ​ Partire Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale = -(2*sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali)/(Voltaggio finale-Tensione iniziale)*(sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali-Voltaggio finale)-sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali-Tensione iniziale)))
Potenziale di Fermi per il tipo P
​ LaTeX ​ Partire Potenziale di Fermi per il tipo P = ([BoltZ]*Temperatura assoluta)/[Charge-e]*ln(Concentrazione intrinseca del portatore/Concentrazione antidoping dell'accettore)
Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni
​ LaTeX ​ Partire Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni = Perimetro del fianco*Capacità di giunzione della parete laterale*Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
Capacità di giunzione della parete laterale con polarizzazione zero per unità di lunghezza
​ LaTeX ​ Partire Capacità di giunzione della parete laterale = Potenziale di giunzione della parete laterale con polarizzazione zero*Profondità del fianco

Coefficiente di polarizzazione del substrato Formula

​LaTeX ​Partire
Coefficiente di polarizzazione del substrato = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentrazione antidoping dell'accettore)/Capacità dell'ossido
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
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