Breite des Verarmungsbereichs Lösung

SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Breite der Verarmungsregion = PN-Verbindungslänge-Effektive Kanallänge
Ld = Lpn-Leff
Diese formel verwendet 3 Variablen
Verwendete Variablen
Breite der Verarmungsregion - (Gemessen in Meter) - Die Breite des Verarmungsbereichs in einer typischen Si-Diode reicht von einem Bruchteil eines Mikrometers bis zu mehreren zehn Mikrometern, abhängig von der Bauteilgeometrie, dem Dotierungsprofil und der externen Vorspannung.
PN-Verbindungslänge - (Gemessen in Meter) - Die PN-Übergangslänge ist definiert als die Gesamtlänge des Übergangs von der p-Seite zur n-Seite in einem Halbleiter.
Effektive Kanallänge - (Gemessen in Meter) - Die effektive Kanallänge ist definiert als der Pfad, der die Ladungsträger zwischen Drain und Source verbindet.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
PN-Verbindungslänge: 19 Millimeter --> 0.019 Meter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
Effektive Kanallänge: 8 Millimeter --> 0.008 Meter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
Ld = Lpn-Leff --> 0.019-0.008
Auswerten ... ...
Ld = 0.011
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
0.011 Meter -->11 Millimeter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
ENDGÜLTIGE ANTWORT
11 Millimeter <-- Breite der Verarmungsregion
(Berechnung in 00.004 sekunden abgeschlossen)

Credits

Erstellt von Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institut für Technologie (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri hat diesen Rechner und 900+ weitere Rechner erstellt!
Geprüft von Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod hat diesen Rechner und 1900+ weitere Rechner verifiziert!

15 Eigenschaften der CMOS-Schaltung Taschenrechner

Effektive Kapazität im CMOS
Gehen Effektive Kapazität im CMOS = Auslastungsgrad*(Aus Strom*(10^(Basiskollektorspannung)))/(Gates auf kritischem Weg*[BoltZ]*Basiskollektorspannung)
Permittivität der Oxidschicht
Gehen Permittivität der Oxidschicht = Dicke der Oxidschicht*Eingangs-Gate-Kapazität/(Torbreite*Länge des Tors)
Dicke der Oxidschicht
Gehen Dicke der Oxidschicht = Permittivität der Oxidschicht*Torbreite*Länge des Tors/Eingangs-Gate-Kapazität
Breite des Tors
Gehen Torbreite = Eingangs-Gate-Kapazität/(Kapazität der Gate-Oxidschicht*Länge des Tors)
Kritisches elektrisches Feld
Gehen Kritisches elektrisches Feld = (2*Geschwindigkeitssättigung)/Mobilität des Elektrons
Seitenwandumfang der Quelldiffusion
Gehen Seitenwandumfang der Quellendiffusion = (2*Übergangsbreite)+(2*Länge der Quelle)
CMOS mittlerer freier Pfad
Gehen Mittlerer freier Pfad = Kritische Spannung im CMOS/Kritisches elektrisches Feld
Kritische CMOS-Spannung
Gehen Kritische Spannung im CMOS = Kritisches elektrisches Feld*Mittlerer freier Pfad
Breite des Verarmungsbereichs
Gehen Breite der Verarmungsregion = PN-Verbindungslänge-Effektive Kanallänge
Effektive Kanallänge
Gehen Effektive Kanallänge = PN-Verbindungslänge-Breite der Verarmungsregion
PN-Verbindungslänge
Gehen PN-Verbindungslänge = Breite der Verarmungsregion+Effektive Kanallänge
Spannung bei minimaler EDV
Gehen Spannung bei minimaler EDP = (3*Grenzspannung)/(3-Aktivitätsfaktor)
Übergangsbreite des CMOS
Gehen Übergangsbreite = MOS-Gate-Überlappungskapazität/MOS-Gate-Kapazität
Bereich der Quellendiffusion
Gehen Bereich der Quellendiffusion = Länge der Quelle*Übergangsbreite
Breite der Quellendiffusion
Gehen Übergangsbreite = Bereich der Quellendiffusion/Länge der Quelle

Breite des Verarmungsbereichs Formel

Breite der Verarmungsregion = PN-Verbindungslänge-Effektive Kanallänge
Ld = Lpn-Leff

Welche Bedeutung hat die Kanallängenmodulation?

Kanallängenmodulation (CLM) ist eine Technik, die in digitalen Kommunikationssystemen verwendet wird, um die Länge eines Kommunikationskanals an die Bitrate des übertragenen Signals anzupassen. CLM kann dazu beitragen, das Signal-Rausch-Verhältnis zu verbessern und die Datenübertragungsrate zu erhöhen, was es zu einem entscheidenden Aspekt der digitalen Kommunikation macht.

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