Resistencia del canal Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Resistencia del canal = Longitud del transistor/Ancho del transistor*1/(Movilidad electrónica*Densidad del portador)
Rch = Lt/Wt*1/(μn*Qon)
Esta fórmula usa 5 Variables
Variables utilizadas
Resistencia del canal - (Medido en Ohm) - La resistencia del canal se refiere a la resistencia ofrecida por el material semiconductor en el canal a través del cual fluye la corriente entre los terminales de fuente y drenaje.
Longitud del transistor - (Medido en Metro) - La longitud del transistor se refiere a la longitud de la región del canal en un MOSFET. Esta dimensión juega un papel crucial en la determinación de las características eléctricas y el rendimiento del transistor.
Ancho del transistor - (Medido en Metro) - El ancho del transistor se refiere al ancho de la región del canal en un MOSFET. Esta dimensión juega un papel crucial en la determinación de las características eléctricas y el rendimiento del transistor.
Movilidad electrónica - (Medido en Metro cuadrado por voltio por segundo) - La movilidad electrónica describe la rapidez con la que los electrones pueden moverse a través del material en respuesta a un campo eléctrico.
Densidad del portador - (Medido en Electrones por metro cúbico) - La densidad de portadores se refiere al número de portadores de carga (electrones o huecos) presentes en el canal del semiconductor.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Longitud del transistor: 3.2 Micrómetro --> 3.2E-06 Metro (Verifique la conversión ​aquí)
Ancho del transistor: 5.5 Micrómetro --> 5.5E-06 Metro (Verifique la conversión ​aquí)
Movilidad electrónica: 30 Metro cuadrado por voltio por segundo --> 30 Metro cuadrado por voltio por segundo No se requiere conversión
Densidad del portador: 0.0056 Electrones por metro cúbico --> 0.0056 Electrones por metro cúbico No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
Rch = Lt/Wt*1/(μn*Qon) --> 3.2E-06/5.5E-06*1/(30*0.0056)
Evaluar ... ...
Rch = 3.46320346320346
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
3.46320346320346 Ohm --> No se requiere conversión
RESPUESTA FINAL
3.46320346320346 3.463203 Ohm <-- Resistencia del canal
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

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Creado por banuprakash
Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
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Verificada por Santhosh Yadav
Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar (DSCE), banglore
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15 Fabricación de circuitos integrados MOS Calculadoras

Voltaje del punto de conmutación
​ Vamos Voltaje del punto de conmutación = (Voltaje de suministro+Voltaje de umbral de PMOS+Voltaje umbral NMOS*sqrt(Ganancia del transistor NMOS/Ganancia del transistor PMOS))/(1+sqrt(Ganancia del transistor NMOS/Ganancia del transistor PMOS))
Efecto corporal en MOSFET
​ Vamos Voltaje umbral con sustrato = Voltaje umbral con polarización corporal cero+Parámetro de efecto corporal*(sqrt(2*Potencial de Fermi a granel+Voltaje aplicado al cuerpo)-sqrt(2*Potencial de Fermi a granel))
Concentración de dopante del donante
​ Vamos Concentración de dopante del donante = (Corriente de saturación*Longitud del transistor)/([Charge-e]*Ancho del transistor*Movilidad electrónica*Capacitancia de la capa de agotamiento)
Corriente de drenaje de MOSFET en la región de saturación
​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia/2*(Voltaje de fuente de puerta-Voltaje umbral con polarización corporal cero)^2*(1+Factor de modulación de longitud del canal*Voltaje de la fuente de drenaje)
Concentración de dopante aceptor
​ Vamos Concentración de dopante aceptor = 1/(2*pi*Longitud del transistor*Ancho del transistor*[Charge-e]*Movilidad del agujero*Capacitancia de la capa de agotamiento)
Concentración máxima de dopante
​ Vamos Concentración máxima de dopante = Concentración de referencia*exp(-Energía de activación para la solubilidad sólida/([BoltZ]*Temperatura absoluta))
Densidad de corriente de deriva debido a electrones libres
​ Vamos Densidad de corriente de deriva debido a electrones = [Charge-e]*Concentración de electrones*Movilidad electrónica*Intensidad del campo eléctrico
Densidad de corriente de deriva debido a agujeros
​ Vamos Densidad de corriente de deriva debido a agujeros = [Charge-e]*Concentración de agujeros*Movilidad del agujero*Intensidad del campo eléctrico
Tiempo de propagación
​ Vamos Tiempo de propagación = 0.7*Número de transistores de paso*((Número de transistores de paso+1)/2)*Resistencia en MOSFET*Capacitancia de carga
Frecuencia de ganancia unitaria MOSFET
​ Vamos Frecuencia de ganancia unitaria en MOSFET = Transconductancia en MOSFET/(Capacitancia de la fuente de puerta+Capacitancia de drenaje de compuerta)
Resistencia del canal
​ Vamos Resistencia del canal = Longitud del transistor/Ancho del transistor*1/(Movilidad electrónica*Densidad del portador)
Profundidad de enfoque
​ Vamos Profundidad de enfoque = Factor de proporcionalidad*Longitud de onda en fotolitografía/(Apertura numérica^2)
Dimensión crítica
​ Vamos Dimensión crítica = Constante dependiente del proceso*Longitud de onda en fotolitografía/Apertura numérica
Troquel por oblea
​ Vamos Troquel por oblea = (pi*Diámetro de la oblea^2)/(4*Tamaño de cada troquel)
Espesor de óxido equivalente
​ Vamos Espesor de óxido equivalente = Grosor del material*(3.9/Constante dieléctrica del material)

Resistencia del canal Fórmula

Resistencia del canal = Longitud del transistor/Ancho del transistor*1/(Movilidad electrónica*Densidad del portador)
Rch = Lt/Wt*1/(μn*Qon)
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