Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni = Perimetro del fianco*Capacità di giunzione della parete laterale*Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
Ceq(sw) = P*Cjsw*Keq(sw)
Questa formula utilizza 4 Variabili
Variabili utilizzate
Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni - (Misurato in Farad) - La capacità equivalente di giunzione di segnale di grandi dimensioni è un concetto utilizzato nell'analisi dei circuiti in cui più condensatori sono combinati in un'unica capacità di segnale di grandi dimensioni equivalente.
Perimetro del fianco - (Misurato in metro) - Il perimetro del fianco è la lunghezza del fianco.
Capacità di giunzione della parete laterale - (Misurato in Farad) - La capacità di giunzione della parete laterale si riferisce alla capacità associata alla parete laterale di una giunzione a semiconduttore.
Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale - Il fattore di equivalenza della tensione della parete laterale rappresenta la relazione tra la tensione applicata a un dispositivo a semiconduttore e la variazione risultante nella capacità di giunzione della parete laterale per unità di area.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Perimetro del fianco: 0.0025 metro --> 0.0025 metro Nessuna conversione richiesta
Capacità di giunzione della parete laterale: 2.9E-15 Farad --> 2.9E-15 Farad Nessuna conversione richiesta
Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale: 0.00021 --> Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
Ceq(sw) = P*Cjsw*Keq(sw) --> 0.0025*2.9E-15*0.00021
Valutare ... ...
Ceq(sw) = 1.5225E-21
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
1.5225E-21 Farad --> Nessuna conversione richiesta
RISPOSTA FINALE
1.5225E-21 1.5E-21 Farad <-- Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da banuprakash
Dayananda Sagar College di Ingegneria (DSCE), Bangalore
banuprakash ha creato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Dipanjona Mallick
Heritage Institute of Technology (COLPO), Calcutta
Dipanjona Mallick ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

21 Transistor MOS Calcolatrici

Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
​ Partire Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale = -(2*sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali)/(Voltaggio finale-Tensione iniziale)*(sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali-Voltaggio finale)-sqrt(Potenziale integrato delle giunzioni delle pareti laterali-Tensione iniziale)))
Abbassa la corrente nella regione lineare
​ Partire Corrente di abbassamento della regione lineare = sum(x,0,Numero di transistor del driver parallelo,(Mobilità elettronica*Capacità dell'ossido/2)*(Larghezza del canale/Lunghezza del canale)*(2*(Tensione della sorgente di gate-Soglia di voltaggio)*Tensione di uscita-Tensione di uscita^2))
Tensione del nodo in una determinata istanza
​ Partire Tensione del nodo in una determinata istanza = (Fattore di transconduttanza/Capacità del nodo)*int(exp(-(1/(Resistenza del nodo*Capacità del nodo))*(Periodo di tempo-x))*Corrente che scorre nel nodo*x,x,0,Periodo di tempo)
Abbassa la corrente nella regione di saturazione
​ Partire Regione di saturazione Abbassa corrente = sum(x,0,Numero di transistor del driver parallelo,(Mobilità elettronica*Capacità dell'ossido/2)*(Larghezza del canale/Lunghezza del canale)*(Tensione della sorgente di gate-Soglia di voltaggio)^2)
Corrente di drenaggio che scorre attraverso il transistor MOS
​ Partire Assorbimento di corrente = (Larghezza del canale/Lunghezza del canale)*Mobilità elettronica*Capacità dell'ossido*int((Tensione della sorgente di gate-x-Soglia di voltaggio),x,0,Tensione della sorgente di drenaggio)
Tempo di saturazione
​ Partire Tempo di saturazione = -2*Capacità di carico/(Parametro del processo di transconduttanza*(Alta tensione di uscita-Soglia di voltaggio)^2)*int(1,x,Alta tensione di uscita,Alta tensione di uscita-Soglia di voltaggio)
Ritardo temporale quando NMOS funziona nella regione lineare
​ Partire Regione lineare nel ritardo temporale = -2*Capacità di giunzione*int(1/(Parametro del processo di transconduttanza*(2*(Tensione di ingresso-Soglia di voltaggio)*x-x^2)),x,Tensione iniziale,Voltaggio finale)
Densità di carica della regione di esaurimento
​ Partire Densità della carica dello strato di esaurimento = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentrazione antidoping dell'accettore*modulus(Potenziale di superficie-Potenziale di Fermi in massa)))
Profondità della regione di svuotamento associata allo scarico
​ Partire Regione della profondità di esaurimento del drenaggio = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potenziale di giunzione incorporato+Tensione della sorgente di drenaggio))/([Charge-e]*Concentrazione antidoping dell'accettore))
Corrente di drenaggio nella regione di saturazione del transistor MOS
​ Partire Corrente di drenaggio della regione di saturazione = Larghezza del canale*Velocità di deriva degli elettroni in saturazione*int(Carica*Parametro del canale corto,x,0,Lunghezza effettiva del canale)
Potenziale di Fermi per il tipo P
​ Partire Potenziale di Fermi per il tipo P = ([BoltZ]*Temperatura assoluta)/[Charge-e]*ln(Concentrazione intrinseca del portatore/Concentrazione antidoping dell'accettore)
Potenziale di Fermi per il tipo N
​ Partire Potenziale di Fermi per il tipo N = ([BoltZ]*Temperatura assoluta)/[Charge-e]*ln(Concentrazione del drogante del donatore/Concentrazione intrinseca del portatore)
Profondità massima di esaurimento
​ Partire Profondità massima di esaurimento = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Potenziale di Fermi in massa))/([Charge-e]*Concentrazione antidoping dell'accettore))
Potenziale incorporato nella regione di esaurimento
​ Partire Voltaggio integrato = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentrazione antidoping dell'accettore*modulus(-2*Potenziale di Fermi in massa)))
Profondità della regione di esaurimento associata alla sorgente
​ Partire Regione della profondità di esaurimento della fonte = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Potenziale di giunzione incorporato)/([Charge-e]*Concentrazione antidoping dell'accettore))
Capacità equivalente di segnale grande
​ Partire Capacità equivalente di segnale grande = (1/(Voltaggio finale-Tensione iniziale))*int(Capacità di giunzione*x,x,Tensione iniziale,Voltaggio finale)
Coefficiente di polarizzazione del substrato
​ Partire Coefficiente di polarizzazione del substrato = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentrazione antidoping dell'accettore)/Capacità dell'ossido
Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni
​ Partire Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni = Perimetro del fianco*Capacità di giunzione della parete laterale*Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
Potenza media dissipata in un periodo di tempo
​ Partire Potenza media = (1/Tempo totale impiegato)*int(Voltaggio*Attuale,x,0,Tempo totale impiegato)
Capacità di giunzione della parete laterale con polarizzazione zero per unità di lunghezza
​ Partire Capacità di giunzione della parete laterale = Potenziale di giunzione della parete laterale con polarizzazione zero*Profondità del fianco
Funzione di lavoro in MOSFET
​ Partire Funzione di lavoro = Livello di vuoto+(Livello energetico della banda di conduzione-Livello Fermi)

Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni Formula

Capacità equivalente di giunzione di segnali di grandi dimensioni = Perimetro del fianco*Capacità di giunzione della parete laterale*Fattore di equivalenza della tensione della parete laterale
Ceq(sw) = P*Cjsw*Keq(sw)
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