Korte kanaalverzadigingsstroom VLSI Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Korte kanaalverzadigingsstroom = Kanaalbreedte*Verzadiging Elektronendriftsnelheid*Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid*Verzadigingsafvoer Bronspanning
ID(sat) = Wc*vd(sat)*Coxide*VDsat
Deze formule gebruikt 5 Variabelen
Variabelen gebruikt
Korte kanaalverzadigingsstroom - (Gemeten in Ampère) - Kortekanaalverzadigingsstroom wordt gedefinieerd als de maximale stroom die door een kortkanaaltransistor kan stromen wanneer deze zich in de verzadigingsmodus bevindt.
Kanaalbreedte - (Gemeten in Meter) - Kanaalbreedte wordt gedefinieerd als de fysieke breedte van het halfgeleiderkanaal tussen de source- en drainterminals binnen de transistorstructuur.
Verzadiging Elektronendriftsnelheid - (Gemeten in Meter per seconde) - Verzadiging Elektronendriftsnelheid wordt gedefinieerd als de maximale snelheid die elektronen in een halfgeleidermateriaal bereiken onder invloed van een elektrisch veld.
Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid - (Gemeten in Farad per vierkante meter) - Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid wordt gedefinieerd als de capaciteit per oppervlakte-eenheid van de isolerende oxidelaag die de metalen poort scheidt van het halfgeleidermateriaal.
Verzadigingsafvoer Bronspanning - (Gemeten in Volt) - Saturation Drain Source Voltage wordt gedefinieerd als de spanning over de drain- en source-aansluitingen van een MOSFET wanneer de transistor in de verzadigingsmodus werkt.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Kanaalbreedte: 2.5 Micrometer --> 2.5E-06 Meter (Bekijk de conversie ​hier)
Verzadiging Elektronendriftsnelheid: 20000000 Centimeter per seconde --> 200000 Meter per seconde (Bekijk de conversie ​hier)
Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid: 0.0703 Microfarad per vierkante centimeter --> 0.000703 Farad per vierkante meter (Bekijk de conversie ​hier)
Verzadigingsafvoer Bronspanning: 1.5 Volt --> 1.5 Volt Geen conversie vereist
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
ID(sat) = Wc*vd(sat)*Coxide*VDsat --> 2.5E-06*200000*0.000703*1.5
Evalueren ... ...
ID(sat) = 0.00052725
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
0.00052725 Ampère -->527.25 Microampère (Bekijk de conversie ​hier)
DEFINITIEVE ANTWOORD
527.25 Microampère <-- Korte kanaalverzadigingsstroom
(Berekening voltooid in 00.004 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Prijanka Patel
Lalbhai Dalpatbhai College voor techniek (LDCE), Ahmedabad
Prijanka Patel heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 25+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

25 VLSI-materiaaloptimalisatie Rekenmachines

Bulkuitputtingsregio Ladingsdichtheid VLSI
​ Gaan Ladingsdichtheid van het bulkuitputtingsgebied = -(1-((Laterale omvang van het uitputtingsgebied met bron+Laterale omvang van het uitputtingsgebied met afvoer)/(2*Kanaallengte)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Acceptorconcentratie*abs(2*Oppervlaktepotentieel))
Lichaamseffectcoëfficiënt
​ Gaan Lichaamseffectcoëfficiënt = modulus((Drempelspanning-Drempelspanning DIBL)/(sqrt(Oppervlaktepotentieel+(Bron Lichaamspotentieelverschil))-sqrt(Oppervlaktepotentieel)))
Verbinding Ingebouwde spanning VLSI
​ Gaan Junction Ingebouwde spanning = ([BoltZ]*Temperatuur/[Charge-e])*ln(Acceptorconcentratie*Donorconcentratie/(Intrinsieke concentratie)^2)
PN-verbindingsdepletiediepte met bron VLSI
​ Gaan Pn-verbindingsdepletiediepte met bron = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Junction Ingebouwde spanning)/([Charge-e]*Acceptorconcentratie))
Totale bronparasitaire capaciteit
​ Gaan Bron Parasitaire capaciteit = (Capaciteit tussen kruising van lichaam en bron*Gebied van bronverspreiding)+(Capaciteit tussen verbinding van lichaam en zijwand*Zijwandomtrek van brondiffusie)
Korte kanaalverzadigingsstroom VLSI
​ Gaan Korte kanaalverzadigingsstroom = Kanaalbreedte*Verzadiging Elektronendriftsnelheid*Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid*Verzadigingsafvoer Bronspanning
Junction Current
​ Gaan Verbindingsstroom = (Statische kracht/Basiscollectorspanning)-(Subdrempelstroom+Betwisting actueel+Poortstroom)
Oppervlakte Potentieel
​ Gaan Oppervlaktepotentieel = 2*Bron Lichaamspotentieelverschil*ln(Acceptorconcentratie/Intrinsieke concentratie)
DIBL-coëfficiënt
​ Gaan DIBL-coëfficiënt = (Drempelspanning DIBL-Drempelspanning)/Afvoer naar bronpotentieel
Drempelspanning wanneer de bron zich op het lichaamspotentieel bevindt
​ Gaan Drempelspanning DIBL = DIBL-coëfficiënt*Afvoer naar bronpotentieel+Drempelspanning
Subdrempel Helling
​ Gaan Helling onder de drempel = Bron Lichaamspotentieelverschil*DIBL-coëfficiënt*ln(10)
Poortlengte met behulp van Gate Oxide-capaciteit
​ Gaan Poortlengte = Poortcapaciteit/(Capaciteit van Gate Oxide Layer*Poortbreedte)
Gate-oxidecapaciteit
​ Gaan Capaciteit van Gate Oxide Layer = Poortcapaciteit/(Poortbreedte*Poortlengte)
Poortcapaciteit
​ Gaan Poortcapaciteit = Kanaalkosten/(Poort naar kanaalspanning-Drempelspanning)
Drempelspanning
​ Gaan Drempelspanning = Poort naar kanaalspanning-(Kanaalkosten/Poortcapaciteit)
Kanaallading
​ Gaan Kanaalkosten = Poortcapaciteit*(Poort naar kanaalspanning-Drempelspanning)
Oxidecapaciteit na volledige schaling VLSI
​ Gaan Oxidecapaciteit na volledige schaling = Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid*Schaalfactor
Kritieke spanning
​ Gaan Kritische spanning = Kritisch elektrisch veld*Elektrisch veld over de kanaallengte
Verbindingsdiepte na volledige schaling VLSI
​ Gaan Verbindingsdiepte na volledige schaling = Verbindingsdiepte/Schaalfactor
Intrinsieke poortcapaciteit
​ Gaan MOS-poortoverlappingscapaciteit = MOS-poortcapaciteit*Overgangsbreedte
Gate-oxidedikte na volledige schaling VLSI
​ Gaan Gate-oxidedikte na volledige schaling = Poortoxidedikte/Schaalfactor
Kanaalbreedte na volledige schaling VLSI
​ Gaan Kanaalbreedte na volledige schaling = Kanaalbreedte/Schaalfactor
Kanaallengte na volledige schaling VLSI
​ Gaan Kanaallengte na volledige schaling = Kanaallengte/Schaalfactor
Mobiliteit in Mosfet
​ Gaan Mobiliteit in MOSFET = K Prime/Capaciteit van Gate Oxide Layer
K-Prime
​ Gaan K Prime = Mobiliteit in MOSFET*Capaciteit van Gate Oxide Layer

Korte kanaalverzadigingsstroom VLSI Formule

Korte kanaalverzadigingsstroom = Kanaalbreedte*Verzadiging Elektronendriftsnelheid*Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid*Verzadigingsafvoer Bronspanning
ID(sat) = Wc*vd(sat)*Coxide*VDsat
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!