Ziehen Sie den Strom in den Sättigungsbereich Lösung

SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Sättigungsbereich Pulldown-Strom = sum(x,0,Anzahl paralleler Treibertransistoren,(Elektronenmobilität*Oxidkapazität/2)*(Kanalbreite/Kanallänge)*(Gate-Source-Spannung-Grenzspannung)^2)
ID(sat) = sum(x,0,n,(μn*Cox/2)*(W/L)*(VGS-VT)^2)
Diese formel verwendet 1 Funktionen, 8 Variablen
Verwendete Funktionen
sum - Die Summations- oder Sigma-Notation (∑) ist eine Methode, mit der eine lange Summe prägnant geschrieben werden kann., sum(i, from, to, expr)
Verwendete Variablen
Sättigungsbereich Pulldown-Strom - (Gemessen in Ampere) - Der Pulldown-Strom im Sättigungsbereich ist der Strom durch den Widerstand, wenn ein Pulldown-Widerstand mit einem N-Kanal-MOSFET im Sättigungsmodus verwendet wird.
Anzahl paralleler Treibertransistoren - „Anzahl der parallelen Treibertransistoren“ bezieht sich auf die Anzahl der parallelen Treibertransistoren in der Schaltung.
Elektronenmobilität - (Gemessen in Quadratmeter pro Volt pro Sekunde) - Die Elektronenmobilität in MOSFET beschreibt, wie leicht sich Elektronen durch den Kanal bewegen können, was sich direkt auf den Stromfluss bei einer bestimmten Spannung auswirkt.
Oxidkapazität - (Gemessen in Farad) - Die Oxidkapazität bezeichnet die Kapazität, die mit der isolierenden Oxidschicht in einer Metall-Oxid-Halbleiterstruktur (MOS) wie beispielsweise in MOSFETs verbunden ist.
Kanalbreite - (Gemessen in Meter) - Die Kanalbreite stellt die Breite des leitenden Kanals innerhalb eines MOSFET dar und wirkt sich direkt auf die Strommenge aus, die er verarbeiten kann.
Kanallänge - (Gemessen in Meter) - Die Kanallänge in einem MOSFET ist der Abstand zwischen den Source- und Drain-Bereichen. Sie bestimmt, wie leicht der Strom fließt und wirkt sich auf die Transistorleistung aus.
Gate-Source-Spannung - (Gemessen in Volt) - Die Gate-Source-Spannung ist die Spannung, die zwischen den Gate- und Source-Anschlüssen eines MOSFET angelegt wird.
Grenzspannung - (Gemessen in Volt) - Die Schwellenspannung ist die minimale Gate-Source-Spannung, die in einem MOSFET erforderlich ist, um ihn „einzuschalten“ und einen signifikanten Stromfluss zu ermöglichen.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
Anzahl paralleler Treibertransistoren: 11 --> Keine Konvertierung erforderlich
Elektronenmobilität: 9.92 Quadratmeter pro Volt pro Sekunde --> 9.92 Quadratmeter pro Volt pro Sekunde Keine Konvertierung erforderlich
Oxidkapazität: 3.9 Farad --> 3.9 Farad Keine Konvertierung erforderlich
Kanalbreite: 2.678 Meter --> 2.678 Meter Keine Konvertierung erforderlich
Kanallänge: 3.45 Meter --> 3.45 Meter Keine Konvertierung erforderlich
Gate-Source-Spannung: 29.65 Volt --> 29.65 Volt Keine Konvertierung erforderlich
Grenzspannung: 5.91 Volt --> 5.91 Volt Keine Konvertierung erforderlich
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
ID(sat) = sum(x,0,n,(μn*Cox/2)*(W/L)*(VGS-VT)^2) --> sum(x,0,11,(9.92*3.9/2)*(2.678/3.45)*(29.65-5.91)^2)
Auswerten ... ...
ID(sat) = 101550.118939559
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
101550.118939559 Ampere --> Keine Konvertierung erforderlich
ENDGÜLTIGE ANTWORT
101550.118939559 101550.1 Ampere <-- Sättigungsbereich Pulldown-Strom
(Berechnung in 00.020 sekunden abgeschlossen)

Credits

Creator Image
Erstellt von Vignesh Naidu
Vellore Institut für Technologie (VIT), Vellore, Tamil Nadu
Vignesh Naidu hat diesen Rechner und 25+ weitere Rechner erstellt!
Verifier Image
Geprüft von Dipanjona Mallick
Heritage Institute of Technology (HITK), Kalkutta
Dipanjona Mallick hat diesen Rechner und 50+ weitere Rechner verifiziert!

21 MOS-Transistor Taschenrechner

Äquivalenzfaktor der Seitenwandspannung
​ Gehen Äquivalenzfaktor der Seitenwandspannung = -(2*sqrt(Eingebautes Potenzial von Seitenwandverbindungen)/(Endspannung-Anfangsspannung)*(sqrt(Eingebautes Potenzial von Seitenwandverbindungen-Endspannung)-sqrt(Eingebautes Potenzial von Seitenwandverbindungen-Anfangsspannung)))
Ziehen Sie den Strom im linearen Bereich herunter
​ Gehen Pulldown-Strom im linearen Bereich = sum(x,0,Anzahl paralleler Treibertransistoren,(Elektronenmobilität*Oxidkapazität/2)*(Kanalbreite/Kanallänge)*(2*(Gate-Source-Spannung-Grenzspannung)*Ausgangsspannung-Ausgangsspannung^2))
Knotenspannung bei gegebener Instanz
​ Gehen Knotenspannung bei gegebener Instanz = (Transkonduktanzfaktor/Knotenkapazität)*int(exp(-(1/(Knotenwiderstand*Knotenkapazität))*(Zeitraum-x))*In den Knoten fließender Strom*x,x,0,Zeitraum)
Ziehen Sie den Strom in den Sättigungsbereich
​ Gehen Sättigungsbereich Pulldown-Strom = sum(x,0,Anzahl paralleler Treibertransistoren,(Elektronenmobilität*Oxidkapazität/2)*(Kanalbreite/Kanallänge)*(Gate-Source-Spannung-Grenzspannung)^2)
Sättigungszeit
​ Gehen Sättigungszeit = -2*Ladekapazität/(Transkonduktanz-Prozessparameter*(Hohe Ausgangsspannung-Grenzspannung)^2)*int(1,x,Hohe Ausgangsspannung,Hohe Ausgangsspannung-Grenzspannung)
Zeitverzögerung, wenn NMOS im linearen Bereich arbeitet
​ Gehen Linearer Bereich in der Zeitverzögerung = -2*Sperrschichtkapazität*int(1/(Transkonduktanz-Prozessparameter*(2*(Eingangsspannung-Grenzspannung)*x-x^2)),x,Anfangsspannung,Endspannung)
Drainstrom fließt durch den MOS-Transistor
​ Gehen Stromverbrauch = (Kanalbreite/Kanallänge)*Elektronenmobilität*Oxidkapazität*int((Gate-Source-Spannung-x-Grenzspannung),x,0,Drain-Quellenspannung)
Ladungsdichte im Verarmungsbereich
​ Gehen Dichte der Sperrschichtladung = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingkonzentration des Akzeptors*modulus(Oberflächenpotential-Bulk-Fermi-Potenzial)))
Tiefe der mit dem Abfluss verbundenen Erschöpfungsregion
​ Gehen Region der Erschöpfungstiefe von Drain = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Eingebautes Verbindungspotential+Drain-Quellenspannung))/([Charge-e]*Dopingkonzentration des Akzeptors))
Drainstrom im Sättigungsbereich im MOS-Transistor
​ Gehen Drainstrom im Sättigungsbereich = Kanalbreite*Sättigungselektronendriftgeschwindigkeit*int(Aufladen*Kurzkanalparameter,x,0,Effektive Kanallänge)
Maximale Erschöpfungstiefe
​ Gehen Maximale Erschöpfungstiefe = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Bulk-Fermi-Potenzial))/([Charge-e]*Dopingkonzentration des Akzeptors))
Fermipotential für P-Typ
​ Gehen Fermipotential für P-Typ = ([BoltZ]*Absolute Temperatur)/[Charge-e]*ln(Intrinsische Trägerkonzentration/Dopingkonzentration des Akzeptors)
Fermipotential für N-Typ
​ Gehen Fermipotential für N-Typ = ([BoltZ]*Absolute Temperatur)/[Charge-e]*ln(Donator-Dotierstoffkonzentration/Intrinsische Trägerkonzentration)
Eingebautes Potenzial in der Erschöpfungsregion
​ Gehen Eingebaute Spannung = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingkonzentration des Akzeptors*modulus(-2*Bulk-Fermi-Potenzial)))
Mit der Quelle verbundene Tiefe der Erschöpfungsregion
​ Gehen Region der Erschöpfungstiefe der Quelle = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Eingebautes Verbindungspotential)/([Charge-e]*Dopingkonzentration des Akzeptors))
Äquivalente Großsignalkapazität
​ Gehen Äquivalente Großsignalkapazität = (1/(Endspannung-Anfangsspannung))*int(Sperrschichtkapazität*x,x,Anfangsspannung,Endspannung)
Substrat-Vorspannungskoeffizient
​ Gehen Substrat-Vorspannungskoeffizient = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingkonzentration des Akzeptors)/Oxidkapazität
Durchschnittliche Verlustleistung über einen bestimmten Zeitraum
​ Gehen Durchschnittliche Kraft = (1/Gesamtzeitaufwand)*int(Stromspannung*Aktuell,x,0,Gesamtzeitaufwand)
Äquivalente Großsignal-Verbindungskapazität
​ Gehen Äquivalente Großsignal-Verbindungskapazität = Umfang der Seitenwand*Seitenwandübergangskapazität*Äquivalenzfaktor der Seitenwandspannung
Arbeitsfunktion im MOSFET
​ Gehen Arbeitsfuntkion = Vakuumniveau+(Energieniveau des Leitungsbandes-Fermi-Level)
Seitenwandübergangskapazität ohne Vorspannung pro Längeneinheit
​ Gehen Seitenwandübergangskapazität = Null-Bias-Seitenwandübergangspotential*Tiefe der Seitenwand

Ziehen Sie den Strom in den Sättigungsbereich Formel

Sättigungsbereich Pulldown-Strom = sum(x,0,Anzahl paralleler Treibertransistoren,(Elektronenmobilität*Oxidkapazität/2)*(Kanalbreite/Kanallänge)*(Gate-Source-Spannung-Grenzspannung)^2)
ID(sat) = sum(x,0,n,(μn*Cox/2)*(W/L)*(VGS-VT)^2)
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