Effet corporel dans NMOS Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Changement de tension de seuil = Tension de seuil+Paramètre de processus de fabrication*(sqrt(2*Paramètre physique+Tension entre le corps et la source)-sqrt(2*Paramètre physique))
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf))
Cette formule utilise 1 Les fonctions, 5 Variables
Fonctions utilisées
sqrt - Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné., sqrt(Number)
Variables utilisées
Changement de tension de seuil - (Mesuré en Volt) - La modification de la tension de seuil peut être causée par divers facteurs, notamment les changements de température, l'exposition aux rayonnements et le vieillissement.
Tension de seuil - (Mesuré en Volt) - La tension de seuil, également connue sous le nom de tension de seuil de grille ou simplement Vth, est un paramètre critique dans le fonctionnement des transistors à effet de champ, qui sont des composants fondamentaux de l'électronique moderne.
Paramètre de processus de fabrication - Le paramètre du processus de fabrication est le processus qui commence par l'oxydation du substrat de silicium dans lequel une couche d'oxyde relativement épaisse est déposée sur la surface.
Paramètre physique - (Mesuré en Volt) - Les paramètres physiques peuvent être utilisés pour décrire l'état ou la condition d'un système physique, ou pour caractériser la manière dont le système répond à divers stimuli ou entrées.
Tension entre le corps et la source - (Mesuré en Volt) - La tension entre le corps et la source est importante car elle peut avoir un effet sur le fonctionnement sûr des appareils électroniques.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Tension de seuil: 1.82 Volt --> 1.82 Volt Aucune conversion requise
Paramètre de processus de fabrication: 204 --> Aucune conversion requise
Paramètre physique: 13 Volt --> 13 Volt Aucune conversion requise
Tension entre le corps et la source: 1.8 Volt --> 1.8 Volt Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf)) --> 1.82+204*(sqrt(2*13+1.8)-sqrt(2*13))
Évaluer ... ...
ΔVth = 37.2244074665399
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
37.2244074665399 Volt --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
37.2244074665399 37.22441 Volt <-- Changement de tension de seuil
(Calcul effectué en 00.004 secondes)

Crédits

Créé par Payal Priya
Institut de technologie de Birsa (BIT), Sindri
Payal Priya a créé cette calculatrice et 600+ autres calculatrices!
Vérifié par Urvi Rathod
Collège d'ingénierie du gouvernement de Vishwakarma (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod a validé cette calculatrice et 1900+ autres calculatrices!

17 Amélioration du canal N Calculatrices

Courant entrant dans la source de drain dans la région triode de NMOS
Aller Courant de drain dans NMOS = Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*((Tension de source de grille-Tension de seuil)*Tension de source de drain-1/2*(Tension de source de drain)^2)
Courant entrant dans la borne de drain du NMOS étant donné la tension de source de grille
Aller Courant de drain dans NMOS = Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*((Tension de source de grille-Tension de seuil)*Tension de source de drain-1/2*Tension de source de drain^2)
Effet corporel dans NMOS
Aller Changement de tension de seuil = Tension de seuil+Paramètre de processus de fabrication*(sqrt(2*Paramètre physique+Tension entre le corps et la source)-sqrt(2*Paramètre physique))
Courant entrant dans la borne de drain de NMOS
Aller Courant de drain dans NMOS = Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*Tension de source de drain*(Tension de surcharge en NMOS-1/2*Tension de source de drain)
NMOS comme résistance linéaire
Aller Résistance linéaire = Longueur du canal/(Mobilité des électrons à la surface du canal*Capacité d'oxyde*Largeur du canal*(Tension de source de grille-Tension de seuil))
Courant de drainage lorsque NMOS fonctionne comme source de courant contrôlée en tension
Aller Courant de drain dans NMOS = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*(Tension de source de grille-Tension de seuil)^2
Courant entrant dans la source de drain dans la région de saturation de NMOS
Aller Courant de drain dans NMOS = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*(Tension de source de grille-Tension de seuil)^2
Paramètre de processus de fabrication de NMOS
Aller Paramètre de processus de fabrication = sqrt(2*[Charge-e]*Concentration de dopage du substrat P*[Permitivity-vacuum])/Capacité d'oxyde
Courant entrant dans la source de drain dans la région de saturation de NMOS étant donné la tension effective
Aller Courant de drain de saturation = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*(Tension de surcharge en NMOS)^2
Courant entrant dans la source de drain à la limite de la saturation et de la région triode de NMOS
Aller Courant de drain dans NMOS = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans NMOS*Largeur du canal/Longueur du canal*(Tension de source de drain)^2
Vitesse de dérive des électrons du canal dans le transistor NMOS
Aller Vitesse de dérive des électrons = Mobilité des électrons à la surface du canal*Champ électrique sur toute la longueur du canal
Puissance totale fournie en NMOS
Aller Alimentation fournie = Tension d'alimentation*(Courant de drain dans NMOS+Actuel)
Résistance de sortie de la source de courant NMOS donnée Drain Current
Aller Résistance de sortie = Paramètre de l'appareil/Courant de drain sans modulation de longueur de canal
Le courant de drain donné NMOS fonctionne comme une source de courant commandée en tension
Aller Paramètre de transconductance = Paramètre de transconductance de processus dans PMOS*Ratio d'aspect
Puissance totale dissipée dans NMOS
Aller Puissance dissipée = Courant de drain dans NMOS^2*Résistance du canal ON
Tension positive donnée Longueur de canal en NMOS
Aller Tension = Paramètre de l'appareil*Longueur du canal
Capacité d'oxyde de NMOS
Aller Capacité d'oxyde = (3.45*10^(-11))/Épaisseur d'oxyde

Effet corporel dans NMOS Formule

Changement de tension de seuil = Tension de seuil+Paramètre de processus de fabrication*(sqrt(2*Paramètre physique+Tension entre le corps et la source)-sqrt(2*Paramètre physique))
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf))

Quelle est la cause de l'effet corporel dans NMOS? qu'est-ce que le biais corporel?

L'effet de corps est causé parce que la différence de tension entre la source et le corps affecte le VT, le corps peut être considéré comme une seconde porte qui aide à déterminer comment le transistor s'allume et s'éteint. La polarisation de corps implique la connexion des corps de transistor à un réseau de polarisation dans la configuration du circuit plutôt qu'à l'alimentation ou à la masse. La polarisation corporelle peut être fournie à partir d'une source externe (hors puce) ou d'une source interne (sur puce).

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