Effetto corpo in NMOS Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Variazione della tensione di soglia = Soglia di voltaggio+Parametro del processo di fabbricazione*(sqrt(2*Parametro fisico+Tensione tra Body e Source)-sqrt(2*Parametro fisico))
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf))
Questa formula utilizza 1 Funzioni, 5 Variabili
Funzioni utilizzate
sqrt - Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato., sqrt(Number)
Variabili utilizzate
Variazione della tensione di soglia - (Misurato in Volt) - La variazione della tensione di soglia può essere causata da vari fattori, tra cui variazioni di temperatura, esposizione alle radiazioni e invecchiamento.
Soglia di voltaggio - (Misurato in Volt) - La tensione di soglia, nota anche come tensione di soglia del gate o semplicemente Vth, è un parametro critico nel funzionamento dei transistor ad effetto di campo, componenti fondamentali dell'elettronica moderna.
Parametro del processo di fabbricazione - Il parametro del processo di fabbricazione è il processo che inizia con l'ossidazione del substrato di silicio in cui viene depositato sulla superficie uno strato di ossido relativamente spesso.
Parametro fisico - (Misurato in Volt) - I parametri fisici possono essere utilizzati per descrivere lo stato o la condizione di un sistema fisico o per caratterizzare il modo in cui il sistema risponde a vari stimoli o input.
Tensione tra Body e Source - (Misurato in Volt) - La tensione tra corpo e sorgente è importante perché può influire sul funzionamento sicuro dei dispositivi elettronici.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Soglia di voltaggio: 1.82 Volt --> 1.82 Volt Nessuna conversione richiesta
Parametro del processo di fabbricazione: 204 --> Nessuna conversione richiesta
Parametro fisico: 13 Volt --> 13 Volt Nessuna conversione richiesta
Tensione tra Body e Source: 1.8 Volt --> 1.8 Volt Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf)) --> 1.82+204*(sqrt(2*13+1.8)-sqrt(2*13))
Valutare ... ...
ΔVth = 37.2244074665399
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
37.2244074665399 Volt --> Nessuna conversione richiesta
RISPOSTA FINALE
37.2244074665399 37.22441 Volt <-- Variazione della tensione di soglia
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da Payal Priya
Istituto di tecnologia Birsa (PO), Sindri
Payal Priya ha creato questa calcolatrice e altre 600+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod ha verificato questa calcolatrice e altre 1900+ altre calcolatrici!

17 Miglioramento del canale N Calcolatrici

Corrente in ingresso nella sorgente di drenaggio nella regione del triodo di NMOS
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*((Tensione sorgente gate-Soglia di voltaggio)*Scaricare la tensione della sorgente-1/2*(Scaricare la tensione della sorgente)^2)
Corrente in ingresso al terminale di scarico di NMOS data la tensione della sorgente di gate
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*((Tensione sorgente gate-Soglia di voltaggio)*Scaricare la tensione della sorgente-1/2*Scaricare la tensione della sorgente^2)
Terminale di scarico in ingresso corrente di NMOS
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*Scaricare la tensione della sorgente*(Tensione di overdrive in NMOS-1/2*Scaricare la tensione della sorgente)
Effetto corpo in NMOS
​ Partire Variazione della tensione di soglia = Soglia di voltaggio+Parametro del processo di fabbricazione*(sqrt(2*Parametro fisico+Tensione tra Body e Source)-sqrt(2*Parametro fisico))
NMOS come resistenza lineare
​ Partire Resistenza lineare = Lunghezza del canale/(Mobilità degli elettroni sulla superficie del canale*Capacità di ossido*Larghezza del canale*(Tensione sorgente gate-Soglia di voltaggio))
Assorbimento di corrente quando NMOS funziona come sorgente di corrente controllata dalla tensione
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = 1/2*Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*(Tensione sorgente gate-Soglia di voltaggio)^2
Corrente in ingresso nella sorgente di drenaggio nella regione di saturazione di NMOS
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = 1/2*Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*(Tensione sorgente gate-Soglia di voltaggio)^2
Parametro del processo di fabbricazione di NMOS
​ Partire Parametro del processo di fabbricazione = sqrt(2*[Charge-e]*Concentrazione drogante del substrato P*[Permitivity-vacuum])/Capacità di ossido
Corrente di ingresso della sorgente di drenaggio al limite della saturazione e della regione del triodo di NMOS
​ Partire Assorbimento di corrente in NMOS = 1/2*Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*(Scaricare la tensione della sorgente)^2
Corrente in entrata nella sorgente di drenaggio nella regione di saturazione di NMOS data la tensione effettiva
​ Partire Corrente di scarico di saturazione = 1/2*Parametro di transconduttanza di processo in NMOS*Larghezza del canale/Lunghezza del canale*(Tensione di overdrive in NMOS)^2
Velocità di deriva elettronica del canale nel transistor NMOS
​ Partire Velocità di deriva elettronica = Mobilità degli elettroni sulla superficie del canale*Campo elettrico attraverso la lunghezza del canale
Potenza totale fornita in NMOS
​ Partire Alimentazione fornita = Tensione di alimentazione*(Assorbimento di corrente in NMOS+Attuale)
Resistenza di uscita della sorgente di corrente NMOS data la corrente di scarico
​ Partire Resistenza di uscita = Parametro dispositivo/Drain Current senza modulazione della lunghezza del canale
Drain Current fornito da NMOS Funziona come sorgente di corrente controllata dalla tensione
​ Partire Parametro di transconduttanza = Parametro di transconduttanza di processo in PMOS*Proporzioni
Potenza totale dissipata in NMOS
​ Partire Potenza dissipata = Assorbimento di corrente in NMOS^2*ON Resistenza del canale
Tensione positiva data la lunghezza del canale in NMOS
​ Partire Voltaggio = Parametro dispositivo*Lunghezza del canale
Capacità di ossido di NMOS
​ Partire Capacità di ossido = (3.45*10^(-11))/Spessore dell'ossido

Effetto corpo in NMOS Formula

Variazione della tensione di soglia = Soglia di voltaggio+Parametro del processo di fabbricazione*(sqrt(2*Parametro fisico+Tensione tra Body e Source)-sqrt(2*Parametro fisico))
ΔVth = VT+γ*(sqrt(2*φf+VSB)-sqrt(2*φf))

Qual è la causa dell'effetto del corpo in NMOS? cos'è il bias del corpo?

L'effetto del corpo è causato perché la differenza di tensione tra la sorgente e il corpo influisce sul TV, il corpo può essere pensato come un secondo gate che aiuta a determinare come il transistor si accende e si spegne. La polarizzazione del corpo implica il collegamento dei corpi del transistor a una rete di polarizzazione nel layout del circuito piuttosto che all'alimentazione o alla terra. La polarizzazione del corpo può essere fornita da una sorgente esterna (off-chip) o da una sorgente interna (on-chip).

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!