Area di diffusione della sorgente Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Area di diffusione della sorgente = Lunghezza della fonte*Larghezza di transizione
As = Ds*W
Questa formula utilizza 3 Variabili
Variabili utilizzate
Area di diffusione della sorgente - (Misurato in Metro quadrato) - L'area di diffusione della sorgente è definita come il movimento netto di qualsiasi cosa da una regione di concentrazione più elevata a una regione di concentrazione inferiore nell'area del gate della sorgente.
Lunghezza della fonte - (Misurato in metro) - La lunghezza della sorgente è definita come la lunghezza totale osservata nella giunzione della sorgente del MOSFET.
Larghezza di transizione - (Misurato in metro) - La larghezza di transizione è definita come l'aumento di larghezza quando la tensione drain-source aumenta, determinando la transizione della regione del triodo alla regione di saturazione.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Lunghezza della fonte: 61 Millimetro --> 0.061 metro (Controlla la conversione qui)
Larghezza di transizione: 89.82 Millimetro --> 0.08982 metro (Controlla la conversione qui)
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
As = Ds*W --> 0.061*0.08982
Valutare ... ...
As = 0.00547902
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
0.00547902 Metro quadrato -->5479.02 Piazza millimetrica (Controlla la conversione qui)
RISPOSTA FINALE
5479.02 Piazza millimetrica <-- Area di diffusione della sorgente
(Calcolo completato in 00.020 secondi)

Titoli di coda

Creato da Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institute of Technology (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri ha creato questa calcolatrice e altre 900+ altre calcolatrici!
Verificato da Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod ha verificato questa calcolatrice e altre 1900+ altre calcolatrici!

15 Caratteristiche del circuito CMOS Calcolatrici

Capacità effettiva in CMOS
Partire Capacità effettiva nel CMOS = Ciclo di lavoro*(Fuori corrente*(10^(Tensione del collettore di base)))/(Cancelli sul percorso critico*[BoltZ]*Tensione del collettore di base)
Permittività dello strato di ossido
Partire Permittività dello strato di ossido = Spessore dello strato di ossido*Capacità del gate di ingresso/(Larghezza del cancello*Lunghezza del cancello)
Spessore dello strato di ossido
Partire Spessore dello strato di ossido = Permittività dello strato di ossido*Larghezza del cancello*Lunghezza del cancello/Capacità del gate di ingresso
Larghezza del cancello
Partire Larghezza del cancello = Capacità del gate di ingresso/(Capacità dello strato di ossido di gate*Lunghezza del cancello)
Perimetro laterale della diffusione della sorgente
Partire Perimetro della parete laterale della diffusione della sorgente = (2*Larghezza di transizione)+(2*Lunghezza della fonte)
Larghezza della regione di svuotamento
Partire Larghezza della regione di esaurimento = Lunghezza giunzione PN-Lunghezza effettiva del canale
Lunghezza effettiva del canale
Partire Lunghezza effettiva del canale = Lunghezza giunzione PN-Larghezza della regione di esaurimento
Lunghezza giunzione PN
Partire Lunghezza giunzione PN = Larghezza della regione di esaurimento+Lunghezza effettiva del canale
Larghezza di transizione del CMOS
Partire Larghezza di transizione = Capacità di sovrapposizione del gate MOS/Capacità del gate MOS
Larghezza della diffusione della sorgente
Partire Larghezza di transizione = Area di diffusione della sorgente/Lunghezza della fonte
Area di diffusione della sorgente
Partire Area di diffusione della sorgente = Lunghezza della fonte*Larghezza di transizione
Campo elettrico critico
Partire Campo elettrico critico = (2*Saturazione della velocità)/Mobilità dell'elettrone
CMOS percorso libero medio
Partire Percorso libero medio = Tensione critica nel CMOS/Campo elettrico critico
Tensione critica CMOS
Partire Tensione critica nel CMOS = Campo elettrico critico*Percorso libero medio
Tensione al minimo EDP
Partire Tensione al minimo EDP = (3*Soglia di voltaggio)/(3-Fattore di attività)

Area di diffusione della sorgente Formula

Area di diffusione della sorgente = Lunghezza della fonte*Larghezza di transizione
As = Ds*W

Cosa puoi dire del processo di doping nel CMOS?

Il drogaggio nel CMOS è un processo di introduzione di impurità nel materiale semiconduttore per modificarne le proprietà elettriche. Questo processo può migliorare le prestazioni dei dispositivi CMOS riducendo la resistenza, aumentando la mobilità e migliorando l'isolamento tra i diversi componenti. Il doping può essere eseguito utilizzando varie tecniche tra cui l'impianto e la diffusione.

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