Atomi di impurità per unità di area Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Impurità totale = Diffusione efficace*(Area di giunzione della base dell'emettitore*((Carica*Concentrazione intrinseca^2)/Corrente del collettore)*exp(Emettitore di base di tensione/Tensione termica))
Qb = Dn*(A*((q*ni^2)/Ic)*exp(Vbe/Vt))
Questa formula utilizza 1 Funzioni, 8 Variabili
Funzioni utilizzate
exp - In una funzione esponenziale, il valore della funzione cambia di un fattore costante per ogni variazione unitaria della variabile indipendente., exp(Number)
Variabili utilizzate
Impurità totale - (Misurato in Metro quadrato) - L'impurità totale definisce le impurità che si mescolano in un atomo per unità di area in una base o la quantità di impurità aggiunta a un semiconduttore intrinseco varia il suo livello di conduttività.
Diffusione efficace - La diffusione effettiva è un parametro relativo al processo di diffusione dei portatori ed è influenzata dalle proprietà del materiale e dalla geometria della giunzione del semiconduttore.
Area di giunzione della base dell'emettitore - (Misurato in Metro quadrato) - L'area di giunzione della base dell'emettitore è una giunzione PN formata tra il materiale di tipo P fortemente drogato (emettitore) e il materiale di tipo N leggermente drogato (base) del transistor.
Carica - (Misurato in Coulomb) - Carica una caratteristica di un'unità di materia che esprime la misura in cui essa ha più o meno elettroni rispetto ai protoni.
Concentrazione intrinseca - (Misurato in 1 per metro cubo) - La concentrazione intrinseca è il numero di elettroni nella banda di conduzione o il numero di lacune nella banda di valenza nel materiale intrinseco.
Corrente del collettore - (Misurato in Ampere) - La corrente di collettore è la corrente che scorre attraverso il terminale del collettore del transistor ed è la corrente che viene amplificata dal transistor.
Emettitore di base di tensione - (Misurato in Volt) - La tensione dell'emettitore base è la tensione tra la base e l'emettitore quando polarizzata direttamente, con il collettore disconnesso.
Tensione termica - (Misurato in Volt) - La tensione termica è la tensione creata dalla giunzione di metalli diversi quando esiste una differenza di temperatura tra queste giunzioni.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Diffusione efficace: 0.5 --> Nessuna conversione richiesta
Area di giunzione della base dell'emettitore: 1.75 Piazza Centimetro --> 0.000175 Metro quadrato (Controlla la conversione ​qui)
Carica: 5 Millicoulomb --> 0.005 Coulomb (Controlla la conversione ​qui)
Concentrazione intrinseca: 1.32 1 per centimetro cubo --> 1320000 1 per metro cubo (Controlla la conversione ​qui)
Corrente del collettore: 4.92 Ampere --> 4.92 Ampere Nessuna conversione richiesta
Emettitore di base di tensione: 3.5 Volt --> 3.5 Volt Nessuna conversione richiesta
Tensione termica: 4.1 Volt --> 4.1 Volt Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
Qb = Dn*(A*((q*ni^2)/Ic)*exp(Vbe/Vt)) --> 0.5*(0.000175*((0.005*1320000^2)/4.92)*exp(3.5/4.1))
Valutare ... ...
Qb = 363831.258671893
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
363831.258671893 Metro quadrato -->3638312586.71893 Piazza Centimetro (Controlla la conversione ​qui)
RISPOSTA FINALE
3638312586.71893 3.6E+9 Piazza Centimetro <-- Impurità totale
(Calcolo completato in 00.020 secondi)

Titoli di coda

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Creato da Rahul Gupta
Università di Chandigarh (CU), Mohali, Punjab
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Verificato da Ritwik Tripati
Vellore Institute of Technology (VITVellore), Vellore
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19 Fabbricazione di circuiti integrati bipolari Calcolatrici

Resistenza del parallelepipedo rettangolare
​ Partire Resistenza = ((Resistività*Spessore dello strato)/(Larghezza dello strato diffuso*Lunghezza dello strato diffuso))*(ln(Larghezza del rettangolo inferiore/Lunghezza del rettangolo inferiore)/(Larghezza del rettangolo inferiore-Lunghezza del rettangolo inferiore))
Atomi di impurità per unità di area
​ Partire Impurità totale = Diffusione efficace*(Area di giunzione della base dell'emettitore*((Carica*Concentrazione intrinseca^2)/Corrente del collettore)*exp(Emettitore di base di tensione/Tensione termica))
Conduttività di tipo P
​ Partire Conduttività ohmica = Carica*(Mobilità del silicio con drogaggio elettronico*(Concentrazione intrinseca^2/Concentrazione di equilibrio del tipo P)+Mobilità del silicio drogato con fori*Concentrazione di equilibrio del tipo P)
Conduttività di tipo N
​ Partire Conduttività ohmica = Carica*(Mobilità del silicio con drogaggio elettronico*Concentrazione di equilibrio di tipo N+Mobilità del silicio drogato con fori*(Concentrazione intrinseca^2/Concentrazione di equilibrio di tipo N))
Corrente di collettore del transistor PNP
​ Partire Corrente del collettore = (Carica*Area di giunzione della base dell'emettitore*Concentrazione di equilibrio di tipo N*Costante di diffusione per PNP)/Larghezza della base
Conduttività ohmica delle impurità
​ Partire Conduttività ohmica = Carica*(Mobilità del silicio con drogaggio elettronico*Concentrazione di elettroni+Mobilità del silicio drogato con fori*Concentrazione dei fori)
Capacità della sorgente di gate data la capacità di sovrapposizione
​ Partire Capacità della sorgente di gate = (2/3*Larghezza del transistor*Lunghezza del transistor*Capacità dell'ossido)+(Larghezza del transistor*Capacità di sovrapposizione)
Corrente di saturazione nel transistor
​ Partire Corrente di saturazione = (Carica*Area di giunzione della base dell'emettitore*Diffusione efficace*Concentrazione intrinseca^2)/Impurità totale
Consumo energetico del carico capacitivo in base alla tensione di alimentazione
​ Partire Consumo energetico del carico capacitivo = Capacità di carico*Tensione di alimentazione^2*Frequenza del segnale di uscita*Numero totale di uscite commutate
Resistenza del foglio dello strato
​ Partire Resistenza del foglio = 1/(Carica*Mobilità del silicio con drogaggio elettronico*Concentrazione di equilibrio di tipo N*Spessore dello strato)
Buco di densità di corrente
​ Partire Densità di corrente del foro = Carica*Costante di diffusione per PNP*(Concentrazione di equilibrio dei fori/Larghezza della base)
Efficienza di iniezione dell'emettitore
​ Partire Efficienza dell'iniezione dell'emettitore = Corrente dell'emettitore/(Corrente di emettitore dovuta agli elettroni+Corrente dell'emettitore dovuta ai fori)
Resistenza dello strato diffuso
​ Partire Resistenza = (1/Conduttività ohmica)*(Lunghezza dello strato diffuso/(Larghezza dello strato diffuso*Spessore dello strato))
Tensione di breakout dell'emettitore del collettore
​ Partire Tensione di breakout dell'emettitore del collettore = Tensione di interruzione della base del collettore/(Guadagno attuale di BJT)^(1/Numero di radice)
Impurezza con concentrazione intrinseca
​ Partire Concentrazione intrinseca = sqrt((Concentrazione di elettroni*Concentrazione dei fori)/Impurità della temperatura)
Corrente che scorre nel diodo Zener
​ Partire Corrente del diodo = (Tensione di riferimento in ingresso-Tensione di uscita stabile)/Resistenza Zener
Efficienza di iniezione dell'emettitore date le costanti di drogaggio
​ Partire Efficienza dell'iniezione dell'emettitore = Doping sul lato N/(Doping sul lato N+Doping sul lato P)
Fattore di conversione da tensione a frequenza nei circuiti integrati
​ Partire Fattore di conversione da tensione a frequenza nei circuiti integrati = Frequenza del segnale di uscita/Tensione di ingresso
Fattore di trasporto della base data la larghezza della base
​ Partire Fattore di trasporto di base = 1-(1/2*(Larghezza fisica/Lunghezza di diffusione degli elettroni)^2)

Atomi di impurità per unità di area Formula

Impurità totale = Diffusione efficace*(Area di giunzione della base dell'emettitore*((Carica*Concentrazione intrinseca^2)/Corrente del collettore)*exp(Emettitore di base di tensione/Tensione termica))
Qb = Dn*(A*((q*ni^2)/Ic)*exp(Vbe/Vt))
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