| ✖Ruchliwość dziur w kanale zależy od różnych czynników, takich jak struktura krystaliczna materiału półprzewodnikowego, obecność zanieczyszczeń, temperatura,ⓘ Ruchliwość otworów w kanale [μp] |  |  | +10% -10% | 
| ✖Pojemność tlenkowa jest ważnym parametrem wpływającym na wydajność urządzeń MOS, takim jak szybkość i pobór mocy układów scalonych.ⓘ Pojemność tlenkowa [Cox] |  |  | +10% -10% |