Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji = (2*Szerokość przejścia)+(2*Długość źródła)
Ps = (2*W)+(2*Ds)
Ta formuła używa 3 Zmienne
Używane zmienne
Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji - (Mierzone w Metr) - Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji definiuje się jako obwód źródła dyfuzji, nie uwzględniając krawędzi pod bramką.
Szerokość przejścia - (Mierzone w Metr) - Szerokość przejścia definiuje się jako wzrost szerokości przy wzroście napięcia dren-źródło, w wyniku czego obszar triody przechodzi do obszaru nasycenia.
Długość źródła - (Mierzone w Metr) - Długość źródła definiuje się jako całkowitą długość obserwowaną na złączu źródłowym MOSFET-u.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Szerokość przejścia: 89.82 Milimetr --> 0.08982 Metr (Sprawdź konwersję tutaj)
Długość źródła: 61 Milimetr --> 0.061 Metr (Sprawdź konwersję tutaj)
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
Ps = (2*W)+(2*Ds) --> (2*0.08982)+(2*0.061)
Ocenianie ... ...
Ps = 0.30164
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
0.30164 Metr -->301.64 Milimetr (Sprawdź konwersję tutaj)
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
301.64 Milimetr <-- Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji
(Obliczenie zakończone za 00.020 sekund)

Kredyty

Stworzone przez Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institute of Technology (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri utworzył ten kalkulator i 900+ więcej kalkulatorów!
Zweryfikowane przez Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod zweryfikował ten kalkulator i 1900+ więcej kalkulatorów!

15 Charakterystyka obwodu CMOS Kalkulatory

Efektywna pojemność w CMOS
Iść Efektywna pojemność w CMOS = Cykl pracy*(Wyłączony prąd*(10^(Podstawowe napięcie kolektora)))/(Bramy na ścieżce krytycznej*[BoltZ]*Podstawowe napięcie kolektora)
Przenikalność warstwy tlenkowej
Iść Przenikalność warstwy tlenkowej = Grubość warstwy tlenku*Pojemność bramki wejściowej/(Szerokość bramy*Długość bramy)
Grubość warstwy tlenku
Iść Grubość warstwy tlenku = Przenikalność warstwy tlenkowej*Szerokość bramy*Długość bramy/Pojemność bramki wejściowej
Szerokość bramy
Iść Szerokość bramy = Pojemność bramki wejściowej/(Pojemność warstwy tlenku bramki*Długość bramy)
Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji
Iść Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji = (2*Szerokość przejścia)+(2*Długość źródła)
Średnia wolna ścieżka CMOS
Iść Średnia darmowa ścieżka = Krytyczne napięcie w CMOS/Krytyczne pole elektryczne
Szerokość przejścia CMOS
Iść Szerokość przejścia = Pojemność nakładania się bramki MOS/Pojemność bramki MOS
Krytyczne napięcie CMOS
Iść Krytyczne napięcie w CMOS = Krytyczne pole elektryczne*Średnia darmowa ścieżka
Szerokość regionu wyczerpania
Iść Szerokość obszaru wyczerpania = Długość złącza PN-Efektywna długość kanału
Efektywna długość kanału
Iść Efektywna długość kanału = Długość złącza PN-Szerokość obszaru wyczerpania
Długość złącza PN
Iść Długość złącza PN = Szerokość obszaru wyczerpania+Efektywna długość kanału
Krytyczne pole elektryczne
Iść Krytyczne pole elektryczne = (2*Nasycenie prędkością)/Mobilność elektronu
Napięcie przy minimalnym EDP
Iść Napięcie przy minimalnym EDP = (3*Próg napięcia)/(3-Czynnik aktywności)
Szerokość dyfuzji źródła
Iść Szerokość przejścia = Obszar dyfuzji źródła/Długość źródła
Obszar dyfuzji źródła
Iść Obszar dyfuzji źródła = Długość źródła*Szerokość przejścia

Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji Formułę

Obwód ściany bocznej źródła dyfuzji = (2*Szerokość przejścia)+(2*Długość źródła)
Ps = (2*W)+(2*Ds)

Co to jest model pojemności dyfuzji MOS?

Połączenie p–n między źródłem dyfuzji a ciałem przyczynia się do pasożytniczej pojemności w całym regionie zubożenia. Pojemność zależy zarówno od powierzchni AS, jak i obwodu PS ścianki bocznej obszaru dyfuzji źródła. Ponieważ grubość obszaru zubożenia zależy od warunków obciążenia, te pasożyty są nieliniowe.

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!