Seitenwandumfang der Quelldiffusion Lösung

SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Seitenwandumfang der Quellendiffusion = (2*Übergangsbreite)+(2*Länge der Quelle)
Ps = (2*W)+(2*Ds)
Diese formel verwendet 3 Variablen
Verwendete Variablen
Seitenwandumfang der Quellendiffusion - (Gemessen in Meter) - Der Seitenwandumfang der Quellendiffusion ist als Umfang der Quellendiffusion definiert, ohne die Kante unter dem Gate.
Übergangsbreite - (Gemessen in Meter) - Die Übergangsbreite ist definiert als die Zunahme der Breite, wenn die Drain-Source-Spannung zunimmt, was dazu führt, dass der Triodenbereich in den Sättigungsbereich übergeht.
Länge der Quelle - (Gemessen in Meter) - Die Länge der Quelle ist definiert als die Gesamtlänge, die am Quellenübergang des MOSFET beobachtet wird.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
Übergangsbreite: 89.82 Millimeter --> 0.08982 Meter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
Länge der Quelle: 61 Millimeter --> 0.061 Meter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
Ps = (2*W)+(2*Ds) --> (2*0.08982)+(2*0.061)
Auswerten ... ...
Ps = 0.30164
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
0.30164 Meter -->301.64 Millimeter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
ENDGÜLTIGE ANTWORT
301.64 Millimeter <-- Seitenwandumfang der Quellendiffusion
(Berechnung in 00.004 sekunden abgeschlossen)

Credits

Erstellt von Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institut für Technologie (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri hat diesen Rechner und 900+ weitere Rechner erstellt!
Geprüft von Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod hat diesen Rechner und 1900+ weitere Rechner verifiziert!

15 Eigenschaften der CMOS-Schaltung Taschenrechner

Effektive Kapazität im CMOS
Gehen Effektive Kapazität im CMOS = Auslastungsgrad*(Aus Strom*(10^(Basiskollektorspannung)))/(Gates auf kritischem Weg*[BoltZ]*Basiskollektorspannung)
Permittivität der Oxidschicht
Gehen Permittivität der Oxidschicht = Dicke der Oxidschicht*Eingangs-Gate-Kapazität/(Torbreite*Länge des Tors)
Dicke der Oxidschicht
Gehen Dicke der Oxidschicht = Permittivität der Oxidschicht*Torbreite*Länge des Tors/Eingangs-Gate-Kapazität
Breite des Tors
Gehen Torbreite = Eingangs-Gate-Kapazität/(Kapazität der Gate-Oxidschicht*Länge des Tors)
Kritisches elektrisches Feld
Gehen Kritisches elektrisches Feld = (2*Geschwindigkeitssättigung)/Mobilität des Elektrons
Seitenwandumfang der Quelldiffusion
Gehen Seitenwandumfang der Quellendiffusion = (2*Übergangsbreite)+(2*Länge der Quelle)
CMOS mittlerer freier Pfad
Gehen Mittlerer freier Pfad = Kritische Spannung im CMOS/Kritisches elektrisches Feld
Kritische CMOS-Spannung
Gehen Kritische Spannung im CMOS = Kritisches elektrisches Feld*Mittlerer freier Pfad
Breite des Verarmungsbereichs
Gehen Breite der Verarmungsregion = PN-Verbindungslänge-Effektive Kanallänge
Effektive Kanallänge
Gehen Effektive Kanallänge = PN-Verbindungslänge-Breite der Verarmungsregion
PN-Verbindungslänge
Gehen PN-Verbindungslänge = Breite der Verarmungsregion+Effektive Kanallänge
Spannung bei minimaler EDV
Gehen Spannung bei minimaler EDP = (3*Grenzspannung)/(3-Aktivitätsfaktor)
Übergangsbreite des CMOS
Gehen Übergangsbreite = MOS-Gate-Überlappungskapazität/MOS-Gate-Kapazität
Breite der Quellendiffusion
Gehen Übergangsbreite = Bereich der Quellendiffusion/Länge der Quelle
Bereich der Quellendiffusion
Gehen Bereich der Quellendiffusion = Länge der Quelle*Übergangsbreite

Seitenwandumfang der Quelldiffusion Formel

Seitenwandumfang der Quellendiffusion = (2*Übergangsbreite)+(2*Länge der Quelle)
Ps = (2*W)+(2*Ds)

Was ist das MOS-Diffusionskapazitätsmodell?

Der pn-Übergang zwischen der Source-Diffusion und dem Körper trägt zur parasitären Kapazität über dem Verarmungsbereich bei. Die Kapazität hängt sowohl von der Fläche AS als auch dem Seitenwandumfang PS des Source-Diffusionsgebiets ab. Da die Dicke des Verarmungsbereichs von den Vorspannungsbedingungen abhängt, sind diese Parasiten nichtlinear.

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