Parâmetro de efeito Backgate em PMOS Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Parâmetro do Efeito Backgate = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Concentração de Doadores)/Capacitância de Óxido
γp = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Nd)/Cox
Esta fórmula usa 2 Constantes, 1 Funções, 3 Variáveis
Constantes Usadas
[Permitivity-vacuum] - Permissividade do vácuo Valor considerado como 8.85E-12
[Charge-e] - Carga do elétron Valor considerado como 1.60217662E-19
Funções usadas
sqrt - Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido., sqrt(Number)
Variáveis Usadas
Parâmetro do Efeito Backgate - O parâmetro de efeito backgate refere-se a um fenômeno que ocorre em transistores de efeito de campo, que são dispositivos eletrônicos usados para amplificação, comutação e outros fins.
Concentração de Doadores - (Medido em 1 por metro cúbico) - A concentração de doadores é a física dos semicondutores e refere-se ao número de átomos de impurezas doadoras por unidade de volume de um material semicondutor.
Capacitância de Óxido - (Medido em Farad) - A capacitância de óxido é um parâmetro importante que afeta o desempenho de dispositivos MOS, como a velocidade e o consumo de energia de circuitos integrados.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Concentração de Doadores: 1.9E+20 1 por metro cúbico --> 1.9E+20 1 por metro cúbico Nenhuma conversão necessária
Capacitância de Óxido: 0.0008 Farad --> 0.0008 Farad Nenhuma conversão necessária
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
γp = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Nd)/Cox --> sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*1.9E+20)/0.0008
Avaliando ... ...
γp = 0.0290154053183929
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
0.0290154053183929 --> Nenhuma conversão necessária
RESPOSTA FINAL
0.0290154053183929 0.029015 <-- Parâmetro do Efeito Backgate
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

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Criado por Aman Dhussawat LinkedIn Logo
INSTITUTO DE TECNOLOGIA GURU TEGH BAHADUR (GTBIT), NOVA DELHI
Aman Dhussawat criou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!
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Verificado por Parminder Singh LinkedIn Logo
Universidade de Chandigarh (CU), Punjab
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Aprimoramento do Canal P Calculadoras

Corrente de dreno na região do triodo do transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vai Drenar Corrente = Parâmetro de Transcondutância do Processo em PMOS*Proporção da tela*((Tensão entre Gate e Source-modulus(Tensão de limiar))*Tensão entre Dreno e Fonte-1/2*(Tensão entre Dreno e Fonte)^2)
Corrente de dreno na região do triodo do transistor PMOS dado Vsd
​ LaTeX ​ Vai Drenar Corrente = Parâmetro de Transcondutância do Processo em PMOS*Proporção da tela*(modulus(Tensão efetiva)-1/2*Tensão entre Dreno e Fonte)*Tensão entre Dreno e Fonte
Corrente de drenagem na região de saturação do transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vai Corrente de drenagem de saturação = 1/2*Parâmetro de Transcondutância do Processo em PMOS*Proporção da tela*(Tensão entre Gate e Source-modulus(Tensão de limiar))^2
Corrente de dreno na região de saturação do transistor PMOS dado Vov
​ LaTeX ​ Vai Corrente de drenagem de saturação = 1/2*Parâmetro de Transcondutância do Processo em PMOS*Proporção da tela*(Tensão efetiva)^2

Parâmetro de efeito Backgate em PMOS Fórmula

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Parâmetro do Efeito Backgate = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Concentração de Doadores)/Capacitância de Óxido
γp = sqrt(2*[Permitivity-vacuum]*[Charge-e]*Nd)/Cox
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