Capacitância Parasítica da Fonte Total Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Fonte de capacitância parasita = (Capacitância entre Junção do Corpo e Fonte*Área de Difusão de Fonte)+(Capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral*Perímetro da parede lateral de difusão da fonte)
Csop = (Cjbs*As)+(Cbsw*Ps)
Esta fórmula usa 5 Variáveis
Variáveis Usadas
Fonte de capacitância parasita - (Medido em Farad por metro quadrado) - A capacitância parasita da fonte é uma capacitância inevitável e geralmente indesejada.
Capacitância entre Junção do Corpo e Fonte - (Medido em Farad por metro quadrado) - A capacitância entre a junção do corpo e a fonte é definida como a capacitância entre a junção do corpo e a junção da fonte do MOSFET.
Área de Difusão de Fonte - (Medido em Metro quadrado) - A área de difusão da fonte é definida como o movimento líquido de qualquer coisa de uma região de maior concentração para uma região de menor concentração na porta da fonte.
Capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral - (Medido em Farad por Metro) - A capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral é uma capacitância parasita que pode afetar o desempenho do circuito.
Perímetro da parede lateral de difusão da fonte - (Medido em Metro) - O perímetro da parede lateral de difusão da fonte é definido como o perímetro de difusão da fonte, não incluindo a borda sob o portão.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Capacitância entre Junção do Corpo e Fonte: 76.46 Microfarad por Milímetro Quadrado --> 76.46 Farad por metro quadrado (Verifique a conversão ​aqui)
Área de Difusão de Fonte: 5479 Milimetros Quadrados --> 0.005479 Metro quadrado (Verifique a conversão ​aqui)
Capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral: 0.1391 Microfarad por Milímetro --> 0.0001391 Farad por Metro (Verifique a conversão ​aqui)
Perímetro da parede lateral de difusão da fonte: 301.64 Milímetro --> 0.30164 Metro (Verifique a conversão ​aqui)
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
Csop = (Cjbs*As)+(Cbsw*Ps) --> (76.46*0.005479)+(0.0001391*0.30164)
Avaliando ... ...
Csop = 0.418966298124
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
0.418966298124 Farad por metro quadrado -->0.418966298124 Microfarad por Milímetro Quadrado (Verifique a conversão ​aqui)
RESPOSTA FINAL
0.418966298124 0.418966 Microfarad por Milímetro Quadrado <-- Fonte de capacitância parasita
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por Shobhit Dimri
Instituto de Tecnologia Bipin Tripathi Kumaon (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri criou esta calculadora e mais 900+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod verificou esta calculadora e mais 1900+ calculadoras!

25 Otimização de materiais VLSI Calculadoras

Densidade de carga da região de esgotamento em massa VLSI
​ Vai Densidade de carga da região de esgotamento em massa = -(1-((Extensão lateral da região de esgotamento com fonte+Extensão Lateral da Região de Esgotamento com Dreno)/(2*Comprimento do canal)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentração do aceitante*abs(2*Potencial de Superfície))
Coeficiente de Efeito Corporal
​ Vai Coeficiente de Efeito Corporal = modulus((Tensão de limiar-Tensão Limite DIBL)/(sqrt(Potencial de Superfície+(Diferença potencial do corpo de origem))-sqrt(Potencial de Superfície)))
Tensão integrada de junção VLSI
​ Vai Tensão interna de junção = ([BoltZ]*Temperatura/[Charge-e])*ln(Concentração do aceitante*Concentração de doadores/(Concentração Intrínseca)^2)
Profundidade de esgotamento da junção PN com fonte VLSI
​ Vai Profundidade de esgotamento da junção Pn com fonte = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tensão interna de junção)/([Charge-e]*Concentração do aceitante))
Capacitância Parasítica da Fonte Total
​ Vai Fonte de capacitância parasita = (Capacitância entre Junção do Corpo e Fonte*Área de Difusão de Fonte)+(Capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral*Perímetro da parede lateral de difusão da fonte)
Corrente de saturação de canal curto VLSI
​ Vai Corrente de saturação de canal curto = Largura de banda*Velocidade de deriva de elétrons de saturação*Capacitância de Óxido por Unidade de Área*Tensão da fonte de drenagem de saturação
Corrente de junção
​ Vai Corrente de Junção = (Potência Estática/Tensão do Coletor Base)-(Corrente Sublimiar+Corrente de contenção+Corrente do portão)
Potencial de Superfície
​ Vai Potencial de Superfície = 2*Diferença potencial do corpo de origem*ln(Concentração do aceitante/Concentração Intrínseca)
Comprimento do portão usando capacitância de óxido de portão
​ Vai Comprimento do portão = Capacitância do portão/(Capacitância da camada de óxido de porta*Largura do portão)
Capacitância de Óxido de Porta
​ Vai Capacitância da camada de óxido de porta = Capacitância do portão/(Largura do portão*Comprimento do portão)
Capacitância da porta
​ Vai Capacitância do portão = Taxa de canal/(Tensão do portão para o canal-Tensão de limiar)
Coeficiente DIBL
​ Vai Coeficiente DIBL = (Tensão Limite DIBL-Tensão de limiar)/Drenar para Potencial de Fonte
Tensão de limiar
​ Vai Tensão de limiar = Tensão do portão para o canal-(Taxa de canal/Capacitância do portão)
Carga do canal
​ Vai Taxa de canal = Capacitância do portão*(Tensão do portão para o canal-Tensão de limiar)
Tensão Limiar quando a Fonte está no Potencial Corporal
​ Vai Tensão Limite DIBL = Coeficiente DIBL*Drenar para Potencial de Fonte+Tensão de limiar
Sublimiar Inclinação
​ Vai Inclinação Sublimiar = Diferença potencial do corpo de origem*Coeficiente DIBL*ln(10)
Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI
​ Vai Capacitância de óxido após escala completa = Capacitância de Óxido por Unidade de Área*Fator de escala
Espessura de óxido de porta após escala completa VLSI
​ Vai Espessura do óxido de porta após escala completa = Espessura do Óxido de Porta/Fator de escala
Capacitância de porta intrínseca
​ Vai Capacitância de sobreposição de porta MOS = Capacitância da Porta MOS*Largura da transição
Tensão Crítica
​ Vai Tensão Crítica = Campo Elétrico Crítico*Campo elétrico ao longo do comprimento do canal
Profundidade da junção após Full Scaling VLSI
​ Vai Profundidade da junção após escala completa = Profundidade da Junção/Fator de escala
Comprimento do canal após Full Scaling VLSI
​ Vai Comprimento do canal após escala completa = Comprimento do canal/Fator de escala
Largura do canal após Full Scaling VLSI
​ Vai Largura do canal após escala completa = Largura de banda/Fator de escala
Mobilidade em Mosfet
​ Vai Mobilidade em MOSFET = K Prime/Capacitância da camada de óxido de porta
K-Prime
​ Vai K Prime = Mobilidade em MOSFET*Capacitância da camada de óxido de porta

Capacitância Parasítica da Fonte Total Fórmula

Fonte de capacitância parasita = (Capacitância entre Junção do Corpo e Fonte*Área de Difusão de Fonte)+(Capacitância entre a junção do corpo e a parede lateral*Perímetro da parede lateral de difusão da fonte)
Csop = (Cjbs*As)+(Cbsw*Ps)

O que é o modelo de capacitância de difusão MOS?

A junção p-n entre a difusão da fonte e o corpo contribui com a capacitância parasita através da região de depleção. A capacitância depende tanto da área AS quanto do perímetro da parede lateral PS da região de difusão da fonte. A geometria é ilustrada na Figura 2.12. A área é AS = WD. O perímetro é PS = 2W 2D. Deste perímetro, W confina com o canal e o restante W 2D não.

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!