Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés = Fréquence du signal de sortie/Tension d'entrée
Kv = fo/Vi
Cette formule utilise 3 Variables
Variables utilisées
Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés - (Mesuré en Hertz par volt) - Le facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés est un processus dans lequel un signal de tension d'entrée est converti en une sortie de fréquence correspondante.
Fréquence du signal de sortie - (Mesuré en Hertz) - La fréquence du signal de sortie fait référence à la vitesse à laquelle un signal change ou oscille dans un système électrique ou électronique.
Tension d'entrée - (Mesuré en Volt) - La tension d'entrée est la différence de potentiel électrique appliquée aux bornes d'entrée d'un composant ou d'un système.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Fréquence du signal de sortie: 1.1 Hertz --> 1.1 Hertz Aucune conversion requise
Tension d'entrée: 2.25 Volt --> 2.25 Volt Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
Kv = fo/Vi --> 1.1/2.25
Évaluer ... ...
Kv = 0.488888888888889
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
0.488888888888889 Hertz par volt --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
0.488888888888889 0.488889 Hertz par volt <-- Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés
(Calcul effectué en 00.004 secondes)

Crédits

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Créé par banuprakash
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
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Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Banglore
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19 Fabrication de circuits intégrés bipolaires Calculatrices

Résistance du parallélépipède rectangulaire
​ Aller Résistance = ((Résistivité*Épaisseur de couche)/(Largeur de la couche diffusée*Longueur de la couche diffusée))*(ln(Largeur du rectangle inférieur/Longueur du rectangle inférieur)/(Largeur du rectangle inférieur-Longueur du rectangle inférieur))
Atomes d'impuretés par unité de surface
​ Aller Impureté totale = Diffusion efficace*(Zone de jonction de la base de l'émetteur*((Charge*Concentration intrinsèque^2)/Courant du collecteur)*exp(Émetteur de base de tension/Tension thermique))
Conductivité de type P
​ Aller Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*(Concentration intrinsèque^2/Concentration à l'équilibre de type P)+Mobilité du silicium dopé par trous*Concentration à l'équilibre de type P)
Conductivité de type N
​ Aller Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'équilibre de type N+Mobilité du silicium dopé par trous*(Concentration intrinsèque^2/Concentration d'équilibre de type N))
Conductivité ohmique des impuretés
​ Aller Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'électrons+Mobilité du silicium dopé par trous*Concentration des trous)
Courant collecteur du transistor PNP
​ Aller Courant du collecteur = (Charge*Zone de jonction de la base de l'émetteur*Concentration d'équilibre de type N*Constante de diffusion pour PNP)/Largeur de base
Capacité de la source de grille étant donné la capacité de chevauchement
​ Aller Capacité de la source de porte = (2/3*Largeur du transistor*Longueur du transistor*Capacité d'oxyde)+(Largeur du transistor*Capacité de chevauchement)
Courant de saturation dans le transistor
​ Aller Courant de saturation = (Charge*Zone de jonction de la base de l'émetteur*Diffusion efficace*Concentration intrinsèque^2)/Impureté totale
Consommation électrique de charge capacitive compte tenu de la tension d'alimentation
​ Aller Consommation d'énergie de charge capacitive = Capacité de charge*Tension d'alimentation^2*Fréquence du signal de sortie*Nombre total de sorties de commutation
Résistance de la feuille de couche
​ Aller Résistance de feuille = 1/(Charge*Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'équilibre de type N*Épaisseur de couche)
Résistance de la couche diffusée
​ Aller Résistance = (1/Conductivité Ohmique)*(Longueur de la couche diffusée/(Largeur de la couche diffusée*Épaisseur de couche))
Trou de densité actuelle
​ Aller Densité de courant de trou = Charge*Constante de diffusion pour PNP*(Concentration d'équilibre du trou/Largeur de base)
Impureté à concentration intrinsèque
​ Aller Concentration intrinsèque = sqrt((Concentration d'électrons*Concentration des trous)/Impureté de température)
Tension de rupture de l'émetteur collecteur
​ Aller Tension de rupture du collecteur et de l'émetteur = Tension de rupture de la base du collecteur/(Gain actuel du BJT)^(1/Numéro racine)
Efficacité d'injection de l'émetteur
​ Aller Efficacité d'injection de l'émetteur = Courant de l'émetteur/(Courant d'émetteur dû aux électrons+Courant de l'émetteur dû aux trous)
Courant circulant dans la diode Zener
​ Aller Courant de diode = (Tension de référence d'entrée-Tension de sortie stable)/Résistance Zener
Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés
​ Aller Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés = Fréquence du signal de sortie/Tension d'entrée
Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage
​ Aller Efficacité d'injection de l'émetteur = Dopage côté N/(Dopage côté N+Dopage côté P)
Facteur de transport de base étant donné la largeur de base
​ Aller Facteur de transport de base = 1-(1/2*(Largeur physique/Longueur de diffusion électronique)^2)

Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés Formule

Facteur de conversion tension-fréquence dans les circuits intégrés = Fréquence du signal de sortie/Tension d'entrée
Kv = fo/Vi
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