| ✖Ruchliwość dziur w kanale zależy od różnych czynników, takich jak struktura krystaliczna materiału półprzewodnikowego, obecność zanieczyszczeń, temperatura,ⓘ Ruchliwość otworów w kanale [μp] |  |  | +10% -10% | 
| ✖Pozioma składowa pola elektrycznego w kanale to siła pola elektrycznego istniejącego w materiale pod tlenkową warstwą bramki, w obszarze, w którym tworzy się warstwa inwersyjna.ⓘ Pozioma składowa pola elektrycznego w kanale [Ey] |  |  | +10% -10% |