Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке Решение

ШАГ 0: Сводка предварительного расчета
Используемая формула
Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке = -(2*sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок)/(Конечное напряжение-Начальное напряжение)*(sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Конечное напряжение)-sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Начальное напряжение)))
Keq(sw) = -(2*sqrt(Φosw)/(V2-V1)*(sqrt(Φosw-V2)-sqrt(Φosw-V1)))
В этой формуле используются 1 Функции, 4 Переменные
Используемые функции
sqrt - Функция извлечения квадратного корня — это функция, которая принимает на вход неотрицательное число и возвращает квадратный корень из заданного входного числа., sqrt(Number)
Используемые переменные
Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке - Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке представляет собой соотношение между напряжением, приложенным к полупроводниковому устройству, и результирующим изменением емкости перехода на боковой стенке на единицу площади.
Заложенный потенциал соединений боковых стенок - (Измеряется в вольт) - Под встроенным потенциалом боковых переходов понимается переход, образованный вдоль вертикальных или боковых поверхностей транзисторной структуры.
Конечное напряжение - (Измеряется в вольт) - Конечное напряжение относится к уровню напряжения, достигнутому или измеренному по завершении определенного процесса или события.
Начальное напряжение - (Измеряется в вольт) - Начальное напряжение относится к напряжению, присутствующему в определенной точке цепи в начале определенной операции или при определенных условиях.
ШАГ 1. Преобразование входов в базовый блок
Заложенный потенциал соединений боковых стенок: 3.2E-05 вольт --> 3.2E-05 вольт Конверсия не требуется
Конечное напряжение: 6.135 Нановольт --> 6.135E-09 вольт (Проверьте преобразование ​здесь)
Начальное напряжение: 5.42 Нановольт --> 5.42E-09 вольт (Проверьте преобразование ​здесь)
ШАГ 2: Оцените формулу
Подстановка входных значений в формулу
Keq(sw) = -(2*sqrt(Φosw)/(V2-V1)*(sqrt(Φosw-V2)-sqrt(Φosw-V1))) --> -(2*sqrt(3.2E-05)/(6.135E-09-5.42E-09)*(sqrt(3.2E-05-6.135E-09)-sqrt(3.2E-05-5.42E-09)))
Оценка ... ...
Keq(sw) = 1.00009028568687
ШАГ 3: Преобразуйте результат в единицу вывода
1.00009028568687 --> Конверсия не требуется
ОКОНЧАТЕЛЬНЫЙ ОТВЕТ
1.00009028568687 1.00009 <-- Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке
(Расчет завершен через 00.004 секунд)

Кредиты

Creator Image
Сделано банупракаш
Инженерный колледж Даянанда Сагар (ДСКЭ), Бангалор
банупракаш создал этот калькулятор и еще 50+!
Verifier Image
Проверено Дипанхона Маллик
Технологический институт наследия (ХИТК), Калькутта
Дипанхона Маллик проверил этот калькулятор и еще 50+!

21 МОП-транзистор Калькуляторы

Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке
​ Идти Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке = -(2*sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок)/(Конечное напряжение-Начальное напряжение)*(sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Конечное напряжение)-sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Начальное напряжение)))
Понизьте ток в линейной области
​ Идти Линейный регион Понижающий ток = sum(x,0,Количество транзисторов параллельного управления,(Электронная подвижность*Оксидная емкость/2)*(ширина канала/Длина канала)*(2*(Напряжение источника затвора-Пороговое напряжение)*Выходное напряжение-Выходное напряжение^2))
Уменьшите ток в области насыщения
​ Идти Область насыщения Понижающий ток = sum(x,0,Количество транзисторов параллельного управления,(Электронная подвижность*Оксидная емкость/2)*(ширина канала/Длина канала)*(Напряжение источника затвора-Пороговое напряжение)^2)
Напряжение узла в данном случае
​ Идти Напряжение узла в данном случае = (Фактор крутизны/Емкость узла)*int(exp(-(1/(Сопротивление узла*Емкость узла))*(Временной период-x))*Ток, текущий в узел*x,x,0,Временной период)
Время насыщения
​ Идти Время насыщения = -2*Емкость нагрузки/(Параметр процесса крутизны*(Высокое выходное напряжение-Пороговое напряжение)^2)*int(1,x,Высокое выходное напряжение,Высокое выходное напряжение-Пороговое напряжение)
Ток стока, протекающий через МОП-транзистор
​ Идти Ток стока = (ширина канала/Длина канала)*Электронная подвижность*Оксидная емкость*int((Напряжение источника затвора-x-Пороговое напряжение),x,0,Напряжение источника стока)
Временная задержка, когда NMOS работает в линейной области
​ Идти Линейная область во временной задержке = -2*Емкость перехода*int(1/(Параметр процесса крутизны*(2*(Входное напряжение-Пороговое напряжение)*x-x^2)),x,Начальное напряжение,Конечное напряжение)
Плотность заряда области истощения
​ Идти Плотность заряда слоя истощения = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора*modulus(Поверхностный потенциал-Объемный потенциал Ферми)))
Глубина истощения региона, связанного с дренажом
​ Идти Область истощения стока = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Встроенный потенциал соединения+Напряжение источника стока))/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора))
Потенциал Ферми для N-типа
​ Идти Потенциал Ферми для N-типа = ([BoltZ]*Абсолютная температура)/[Charge-e]*ln(Концентрация донорской легирующей примеси/Собственная концентрация носителей)
Эквивалентная большая сигнальная емкость
​ Идти Эквивалентная большая сигнальная емкость = (1/(Конечное напряжение-Начальное напряжение))*int(Емкость перехода*x,x,Начальное напряжение,Конечное напряжение)
Максимальная глубина истощения
​ Идти Максимальная глубина истощения = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Объемный потенциал Ферми))/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора))
Ток стока в области насыщения МОП-транзистора
​ Идти Ток стока области насыщения = ширина канала*Скорость дрейфа электронов насыщения*int(Обвинение*Параметр короткого канала,x,0,Эффективная длина канала)
Потенциал Ферми для типа P
​ Идти Потенциал Ферми для типа P = ([BoltZ]*Абсолютная температура)/[Charge-e]*ln(Собственная концентрация носителей/Легирующая концентрация акцептора)
Заложенный потенциал в регионе истощения
​ Идти Встроенное напряжение = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора*modulus(-2*Объемный потенциал Ферми)))
Глубина истощения Регион, связанный с источником
​ Идти Регион глубины истощения источника = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Встроенный потенциал соединения)/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора))
Коэффициент смещения подложки
​ Идти Коэффициент смещения подложки = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора)/Оксидная емкость
Эквивалентная большая емкость сигнального перехода
​ Идти Эквивалентная большая емкость сигнального перехода = Периметр боковой стенки*Емкость бокового перехода*Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке
Средняя мощность, рассеиваемая за период времени
​ Идти Средняя мощность = (1/Общее затраченное время)*int(Напряжение*Текущий,x,0,Общее затраченное время)
Рабочая функция в MOSFET
​ Идти Рабочая функция = Уровень вакуума+(Уровень энергии зоны проводимости-Уровень Ферми)
Емкость перехода на боковой стенке с нулевым смещением на единицу длины
​ Идти Емкость бокового перехода = Потенциал соединения боковой стенки с нулевым смещением*Глубина боковины

Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке формула

Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке = -(2*sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок)/(Конечное напряжение-Начальное напряжение)*(sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Конечное напряжение)-sqrt(Заложенный потенциал соединений боковых стенок-Начальное напряжение)))
Keq(sw) = -(2*sqrt(Φosw)/(V2-V1)*(sqrt(Φosw-V2)-sqrt(Φosw-V1)))
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!