Ancho de difusión de la fuente Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Ancho de transición = Área de difusión de fuentes/Longitud de la fuente
W = As/Ds
Esta fórmula usa 3 Variables
Variables utilizadas
Ancho de transición - (Medido en Metro) - El ancho de transición se define como el aumento del ancho cuando aumenta el voltaje drenaje-fuente, lo que da como resultado que la región del triodo pase a la región de saturación.
Área de difusión de fuentes - (Medido en Metro cuadrado) - El área de difusión de la fuente se define como el movimiento neto de cualquier cosa desde una región de mayor concentración a una región de menor concentración en la puerta de la fuente.
Longitud de la fuente - (Medido en Metro) - La longitud de la fuente se define como la longitud total observada en la unión de la fuente del MOSFET.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Área de difusión de fuentes: 5479 Milímetro cuadrado --> 0.005479 Metro cuadrado (Verifique la conversión aquí)
Longitud de la fuente: 61 Milímetro --> 0.061 Metro (Verifique la conversión aquí)
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
W = As/Ds --> 0.005479/0.061
Evaluar ... ...
W = 0.0898196721311476
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
0.0898196721311476 Metro -->89.8196721311476 Milímetro (Verifique la conversión aquí)
RESPUESTA FINAL
89.8196721311476 89.81967 Milímetro <-- Ancho de transición
(Cálculo completado en 00.007 segundos)

Créditos

Creado por Shobhit Dimri
Instituto de Tecnología Bipin Tripathi Kumaon (BTKIT), Dwarahat
¡Shobhit Dimri ha creado esta calculadora y 900+ más calculadoras!
Verificada por Urvi Rathod
Facultad de Ingeniería del Gobierno de Vishwakarma (VGEC), Ahmedabad
¡Urvi Rathod ha verificado esta calculadora y 1900+ más calculadoras!

15 Características del circuito CMOS Calculadoras

Capacitancia efectiva en CMOS
Vamos Capacitancia efectiva en CMOS = Ciclo de trabajo*(Apagado actual*(10^(Voltaje base del colector)))/(Puertas en el camino crítico*[BoltZ]*Voltaje base del colector)
Permitividad de la capa de óxido
Vamos Permitividad de la capa de óxido = Espesor de la capa de óxido*Capacitancia de la puerta de entrada/(Ancho de la puerta*Longitud de la puerta)
Espesor de la capa de óxido
Vamos Espesor de la capa de óxido = Permitividad de la capa de óxido*Ancho de la puerta*Longitud de la puerta/Capacitancia de la puerta de entrada
Ancho de la puerta
Vamos Ancho de la puerta = Capacitancia de la puerta de entrada/(Capacitancia de la capa de óxido de puerta*Longitud de la puerta)
Perímetro de la pared lateral de la fuente de difusión
Vamos Perímetro de difusión de la fuente en la pared lateral = (2*Ancho de transición)+(2*Longitud de la fuente)
Ancho de transición de CMOS
Vamos Ancho de transición = Capacitancia de superposición de puerta MOS/Capacitancia de puerta MOS
Ancho de la región de agotamiento
Vamos Ancho de la región de agotamiento = Longitud de unión PN-Longitud efectiva del canal
Longitud efectiva del canal
Vamos Longitud efectiva del canal = Longitud de unión PN-Ancho de la región de agotamiento
Longitud de unión PN
Vamos Longitud de unión PN = Ancho de la región de agotamiento+Longitud efectiva del canal
Campo eléctrico crítico
Vamos Campo eléctrico crítico = (2*Saturación de velocidad)/Movilidad del electrón
Ancho de difusión de la fuente
Vamos Ancho de transición = Área de difusión de fuentes/Longitud de la fuente
Área de difusión de fuentes
Vamos Área de difusión de fuentes = Longitud de la fuente*Ancho de transición
CMOS significa ruta libre
Vamos Camino libre medio = Voltaje crítico en CMOS/Campo eléctrico crítico
Voltaje crítico CMOS
Vamos Voltaje crítico en CMOS = Campo eléctrico crítico*Camino libre medio
Voltaje en EDP Mínimo
Vamos Tensión al mínimo EDP = (3*Voltaje umbral)/(3-Factor de actividad)

Ancho de difusión de la fuente Fórmula

Ancho de transición = Área de difusión de fuentes/Longitud de la fuente
W = As/Ds

¿Cuáles son las aplicaciones de la Difusión en Fuente?

La difusión de fuentes es un proceso crítico en la tecnología CMOS, con numerosas aplicaciones. Se utiliza para reducir las dimensiones de los transistores, mejorar el rendimiento de circuitos consecutivos y aumentar la velocidad general de los chips. Además, la difusión de la fuente facilita la integración de múltiples transistores en un solo chip, lo que permite la fabricación de circuitos integrados complejos y de alta densidad.

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