Largura da Difusão da Fonte Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Largura da transição = Área de Difusão de Fonte/Comprimento da Fonte
W = As/Ds
Esta fórmula usa 3 Variáveis
Variáveis Usadas
Largura da transição - (Medido em Metro) - A largura de transição é definida como o aumento na largura quando a tensão do dreno para a fonte aumenta, resultando na transição da região do triodo para a região de saturação.
Área de Difusão de Fonte - (Medido em Metro quadrado) - A área de difusão da fonte é definida como o movimento líquido de qualquer coisa de uma região de maior concentração para uma região de menor concentração na porta da fonte.
Comprimento da Fonte - (Medido em Metro) - O comprimento da fonte é definido como o comprimento total observado na junção da fonte do MOSFET.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Área de Difusão de Fonte: 5479 Milimetros Quadrados --> 0.005479 Metro quadrado (Verifique a conversão ​aqui)
Comprimento da Fonte: 61 Milímetro --> 0.061 Metro (Verifique a conversão ​aqui)
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
W = As/Ds --> 0.005479/0.061
Avaliando ... ...
W = 0.0898196721311476
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
0.0898196721311476 Metro -->89.8196721311476 Milímetro (Verifique a conversão ​aqui)
RESPOSTA FINAL
89.8196721311476 89.81967 Milímetro <-- Largura da transição
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por Shobhit Dimri
Instituto de Tecnologia Bipin Tripathi Kumaon (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri criou esta calculadora e mais 900+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod verificou esta calculadora e mais 1900+ calculadoras!

15 Características do circuito CMOS Calculadoras

Capacitância efetiva em CMOS
​ Vai Capacitância Efetiva em CMOS = Ciclo de trabalho*(Desatualizado*(10^(Tensão do Coletor Base)))/(Portões no Caminho Crítico*[BoltZ]*Tensão do Coletor Base)
Permissividade da Camada de Óxido
​ Vai Permissividade da camada de óxido = Espessura da Camada de Óxido*Capacitância da porta de entrada/(Largura do portão*Comprimento do portão)
Espessura da Camada de Óxido
​ Vai Espessura da Camada de Óxido = Permissividade da camada de óxido*Largura do portão*Comprimento do portão/Capacitância da porta de entrada
Largura do Portão
​ Vai Largura do portão = Capacitância da porta de entrada/(Capacitância da camada de óxido de porta*Comprimento do portão)
Perímetro de Difusão de Fonte de Parede Lateral
​ Vai Perímetro da parede lateral de difusão da fonte = (2*Largura da transição)+(2*Comprimento da Fonte)
Largura de transição do CMOS
​ Vai Largura da transição = Capacitância de sobreposição de porta MOS/Capacitância da Porta MOS
Largura da região de depleção
​ Vai Largura da região de esgotamento = Comprimento da junção PN-Comprimento Efetivo do Canal
Comprimento Efetivo do Canal
​ Vai Comprimento Efetivo do Canal = Comprimento da junção PN-Largura da região de esgotamento
Comprimento da junção PN
​ Vai Comprimento da junção PN = Largura da região de esgotamento+Comprimento Efetivo do Canal
Campo Elétrico Crítico
​ Vai Campo Elétrico Crítico = (2*Saturação de velocidade)/Mobilidade do Elétron
CMOS significa caminho livre
​ Vai Significa caminho livre = Tensão Crítica em CMOS/Campo Elétrico Crítico
Tensão Crítica CMOS
​ Vai Tensão Crítica em CMOS = Campo Elétrico Crítico*Significa caminho livre
Largura da Difusão da Fonte
​ Vai Largura da transição = Área de Difusão de Fonte/Comprimento da Fonte
Área de Difusão de Fonte
​ Vai Área de Difusão de Fonte = Comprimento da Fonte*Largura da transição
Tensão no Mínimo EDP
​ Vai Tensão no EDP Mínimo = (3*Tensão de limiar)/(3-Fator de atividade)

Largura da Difusão da Fonte Fórmula

Largura da transição = Área de Difusão de Fonte/Comprimento da Fonte
W = As/Ds

Quais são as aplicações da difusão de fontes?

A difusão da fonte é um processo crítico na tecnologia CMOS, com inúmeras aplicações. É usado para reduzir as dimensões dos transistores, melhorar o desempenho dos circuitos obtidos e aumentar a velocidade geral dos chips. Além disso, a difusão da fonte facilita a integração de múltiplos transistores em um único chip, possibilitando a fabricação de circuitos integrados complexos e de alta densidade.

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