Capacitância de junção da parede lateral com polarização zero Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Potencial de junção da parede lateral com polarização zero = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais*Concentração de Doping do Doador)/(Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais+Concentração de Doping do Doador))*1/Potencial integrado de junções de paredes laterais)
Cj0sw = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((NA(sw)*ND)/(NA(sw)+ND))*1/Φosw)
Esta fórmula usa 2 Constantes, 1 Funções, 4 Variáveis
Constantes Usadas
[Permitivity-silicon] - Permissividade do silício Valor considerado como 11.7
[Charge-e] - Carga do elétron Valor considerado como 1.60217662E-19
Funções usadas
sqrt - Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido., sqrt(Number)
Variáveis Usadas
Potencial de junção da parede lateral com polarização zero - (Medido em Farad) - O potencial de junção da parede lateral de polarização zero é o potencial embutido na junção da parede lateral de certas estruturas de transistor.
Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais - (Medido em Elétrons por metro cúbico) - A densidade de dopagem da parede lateral refere-se à concentração de átomos dopantes ao longo das paredes laterais da estrutura do transistor.
Concentração de Doping do Doador - (Medido em Elétrons por metro cúbico) - A concentração de dopagem do doador refere-se à concentração de átomos doadores adicionados intencionalmente a um material semicondutor.
Potencial integrado de junções de paredes laterais - (Medido em Volt) - Potencial integrado de junções de parede lateral refere-se à junção formada ao longo das superfícies verticais ou da parede lateral da estrutura do transistor.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais: 0.35 Elétrons por metro cúbico --> 0.35 Elétrons por metro cúbico Nenhuma conversão necessária
Concentração de Doping do Doador: 3.01 Elétrons por Centímetro Cúbico --> 3010000 Elétrons por metro cúbico (Verifique a conversão ​aqui)
Potencial integrado de junções de paredes laterais: 3.2E-05 Volt --> 3.2E-05 Volt Nenhuma conversão necessária
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
Cj0sw = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((NA(sw)*ND)/(NA(sw)+ND))*1/Φosw) --> sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((0.35*3010000)/(0.35+3010000))*1/3.2E-05)
Avaliando ... ...
Cj0sw = 1.01249324812588E-07
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
1.01249324812588E-07 Farad --> Nenhuma conversão necessária
RESPOSTA FINAL
1.01249324812588E-07 1E-7 Farad <-- Potencial de junção da parede lateral com polarização zero
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por banuprakash
Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
banuprakash criou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Dipanjona Mallick
Instituto Patrimonial de Tecnologia (HITK), Calcutá
Dipanjona Mallick verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!

2 Amplificadores MOSFET Calculadoras

Capacitância de junção da parede lateral com polarização zero
​ Vai Potencial de junção da parede lateral com polarização zero = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais*Concentração de Doping do Doador)/(Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais+Concentração de Doping do Doador))*1/Potencial integrado de junções de paredes laterais)
Capacitância de junção de polarização zero
​ Vai Capacitância de junção de polarização zero = sqrt((Permissividade do Silício*[Charge-e])/2*((Concentração de Dopagem do Aceitante*Concentração de Doping do Doador)/(Concentração de Dopagem do Aceitante+Concentração de Doping do Doador))*1/Potencial de junção integrado)

Capacitância de junção da parede lateral com polarização zero Fórmula

Potencial de junção da parede lateral com polarização zero = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais*Concentração de Doping do Doador)/(Densidade de Dopagem nas Paredes Laterais+Concentração de Doping do Doador))*1/Potencial integrado de junções de paredes laterais)
Cj0sw = sqrt(([Permitivity-silicon]*[Charge-e])/2*((NA(sw)*ND)/(NA(sw)+ND))*1/Φosw)
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