Capacitancia de señal grande equivalente Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Capacitancia de señal grande equivalente = (1/(Voltaje final-Voltaje inicial))*int(Capacitancia de unión*x,x,Voltaje inicial,Voltaje final)
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2)
Esta fórmula usa 1 Funciones, 4 Variables
Funciones utilizadas
int - La integral definida se puede utilizar para calcular el área neta con signo, que es el área sobre el eje x menos el área debajo del eje x., int(expr, arg, from, to)
Variables utilizadas
Capacitancia de señal grande equivalente - (Medido en Faradio) - La capacitancia equivalente de señal grande es un modelo simplificado que se utiliza para representar el efecto combinado de las capacitancias de unión a bajas frecuencias (régimen de señal grande).
Voltaje final - (Medido en Voltio) - El voltaje final se refiere al nivel de voltaje alcanzado o medido al finalizar un proceso o evento en particular.
Voltaje inicial - (Medido en Voltio) - El voltaje inicial se refiere al voltaje presente en un punto específico de un circuito al comienzo de una determinada operación o en condiciones específicas.
Capacitancia de unión - (Medido en Faradio) - La capacitancia de unión se refiere a la capacitancia que surge de la región de agotamiento entre los terminales de fuente/drenaje y el sustrato.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Voltaje final: 6.135 nanovoltios --> 6.135E-09 Voltio (Verifique la conversión ​aquí)
Voltaje inicial: 5.42 nanovoltios --> 5.42E-09 Voltio (Verifique la conversión ​aquí)
Capacitancia de unión: 95009 Faradio --> 95009 Faradio No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2) --> (1/(6.135E-09-5.42E-09))*int(95009*x,x,5.42E-09,6.135E-09)
Evaluar ... ...
Ceq = 0.0005489144975
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
0.0005489144975 Faradio --> No se requiere conversión
RESPUESTA FINAL
0.0005489144975 0.000549 Faradio <-- Capacitancia de señal grande equivalente
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

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Creado por Vignesh Naidu
Instituto de Tecnología de Vellore (VIT), Vellore, Tamil Nadu
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Verifier Image
Verificada por Dipanjona Mallick
Instituto Tecnológico del Patrimonio (hitk), Calcuta
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21 Transistor MOS Calculadoras

Factor de equivalencia de voltaje de pared lateral
​ Vamos Factor de equivalencia de voltaje de pared lateral = -(2*sqrt(Potencial incorporado de uniones de paredes laterales)/(Voltaje final-Voltaje inicial)*(sqrt(Potencial incorporado de uniones de paredes laterales-Voltaje final)-sqrt(Potencial incorporado de uniones de paredes laterales-Voltaje inicial)))
Bajar la corriente en la región lineal
​ Vamos Corriente de descenso de región lineal = sum(x,0,Número de transistores de controlador paralelo,(Movilidad electrónica*Capacitancia de óxido/2)*(Ancho de banda/Longitud del canal)*(2*(Voltaje de fuente de puerta-Voltaje umbral)*Tensión de salida-Tensión de salida^2))
Voltaje de nodo en un caso dado
​ Vamos Voltaje de nodo en un caso dado = (Factor de transconductancia/Capacitancia del nodo)*int(exp(-(1/(Resistencia del nodo*Capacitancia del nodo))*(Periodo de tiempo-x))*Corriente que fluye hacia el nodo*x,x,0,Periodo de tiempo)
Bajar la corriente en la región de saturación
​ Vamos Corriente de descenso de la región de saturación = sum(x,0,Número de transistores de controlador paralelo,(Movilidad electrónica*Capacitancia de óxido/2)*(Ancho de banda/Longitud del canal)*(Voltaje de fuente de puerta-Voltaje umbral)^2)
Tiempo de saturación
​ Vamos Tiempo de saturación = -2*Capacitancia de carga/(Parámetro del proceso de transconductancia*(Alto voltaje de salida-Voltaje umbral)^2)*int(1,x,Alto voltaje de salida,Alto voltaje de salida-Voltaje umbral)
Drenar la corriente que fluye a través del transistor MOS
​ Vamos Corriente de drenaje = (Ancho de banda/Longitud del canal)*Movilidad electrónica*Capacitancia de óxido*int((Voltaje de fuente de puerta-x-Voltaje umbral),x,0,Voltaje de la fuente de drenaje)
Retraso de tiempo cuando NMOS opera en una región lineal
​ Vamos Región lineal en retardo de tiempo = -2*Capacitancia de unión*int(1/(Parámetro del proceso de transconductancia*(2*(Voltaje de entrada-Voltaje umbral)*x-x^2)),x,Voltaje inicial,Voltaje final)
Densidad de carga de la región de agotamiento
​ Vamos Densidad de carga de la capa de agotamiento = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentración de dopaje del aceptor*modulus(Potencial de superficie-Potencial de Fermi a granel)))
Profundidad de la región de agotamiento asociada con el drenaje
​ Vamos Región de profundidad de agotamiento del drenaje = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potencial de unión incorporado+Voltaje de la fuente de drenaje))/([Charge-e]*Concentración de dopaje del aceptor))
Drenar corriente en la región de saturación en el transistor MOS
​ Vamos Corriente de drenaje de la región de saturación = Ancho de banda*Velocidad de deriva de electrones de saturación*int(Cobrar*Parámetro de canal corto,x,0,Longitud efectiva del canal)
Potencial de Fermi para el tipo N
​ Vamos Potencial de Fermi para el tipo N = ([BoltZ]*Temperatura absoluta)/[Charge-e]*ln(Concentración de dopante del donante/Concentración de portador intrínseco)
Profundidad máxima de agotamiento
​ Vamos Profundidad máxima de agotamiento = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Potencial de Fermi a granel))/([Charge-e]*Concentración de dopaje del aceptor))
Potencial de Fermi para el tipo P
​ Vamos Potencial de Fermi para el tipo P = ([BoltZ]*Temperatura absoluta)/[Charge-e]*ln(Concentración de portador intrínseco/Concentración de dopaje del aceptor)
Potencial incorporado en la región de agotamiento
​ Vamos Voltaje incorporado = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentración de dopaje del aceptor*modulus(-2*Potencial de Fermi a granel)))
Capacitancia de señal grande equivalente
​ Vamos Capacitancia de señal grande equivalente = (1/(Voltaje final-Voltaje inicial))*int(Capacitancia de unión*x,x,Voltaje inicial,Voltaje final)
Profundidad de agotamiento Región asociada con la fuente
​ Vamos Región de profundidad de agotamiento de la fuente = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Potencial de unión incorporado)/([Charge-e]*Concentración de dopaje del aceptor))
Coeficiente de polarización del sustrato
​ Vamos Coeficiente de polarización del sustrato = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentración de dopaje del aceptor)/Capacitancia de óxido
Capacitancia equivalente de unión de señal grande
​ Vamos Capacitancia equivalente de unión de señal grande = Perímetro de la pared lateral*Capacitancia de unión de pared lateral*Factor de equivalencia de voltaje de pared lateral
Potencia promedio disipada durante un período de tiempo
​ Vamos Energía promedio = (1/Tiempo total empleado)*int(Voltaje*Actual,x,0,Tiempo total tomado)
Capacitancia de unión de pared lateral de polarización cero por unidad de longitud
​ Vamos Capacitancia de unión de pared lateral = Potencial de unión de pared lateral de polarización cero*Profundidad de la pared lateral
Función de trabajo en MOSFET
​ Vamos Función del trabajo = Nivel de vacío+(Nivel de energía de la banda de conducción-Nivel Fermi)

Capacitancia de señal grande equivalente Fórmula

Capacitancia de señal grande equivalente = (1/(Voltaje final-Voltaje inicial))*int(Capacitancia de unión*x,x,Voltaje inicial,Voltaje final)
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2)
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