Grande capacité de signal équivalente Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Grande capacité de signal équivalente = (1/(Tension finale-Tension initiale))*int(Capacité de jonction*x,x,Tension initiale,Tension finale)
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2)
Cette formule utilise 1 Les fonctions, 4 Variables
Fonctions utilisées
int - L'intégrale définie peut être utilisée pour calculer la zone nette signée, qui est la zone au-dessus de l'axe des x moins la zone en dessous de l'axe des x., int(expr, arg, from, to)
Variables utilisées
Grande capacité de signal équivalente - (Mesuré en Farad) - La capacité équivalente de grand signal est un modèle simplifié utilisé pour représenter l'effet combiné des capacités de jonction aux basses fréquences (régime de grand signal).
Tension finale - (Mesuré en Volt) - La tension finale fait référence au niveau de tension atteint ou mesuré à la fin d'un processus ou d'un événement particulier.
Tension initiale - (Mesuré en Volt) - La tension initiale fait référence à la tension présente à un point spécifique d'un circuit au début d'une certaine opération ou dans des conditions spécifiques.
Capacité de jonction - (Mesuré en Farad) - La capacité de jonction fait référence à la capacité résultant de la région d'appauvrissement entre les bornes source/drain et le substrat.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Tension finale: 6.135 Nanovolt --> 6.135E-09 Volt (Vérifiez la conversion ​ici)
Tension initiale: 5.42 Nanovolt --> 5.42E-09 Volt (Vérifiez la conversion ​ici)
Capacité de jonction: 95009 Farad --> 95009 Farad Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2) --> (1/(6.135E-09-5.42E-09))*int(95009*x,x,5.42E-09,6.135E-09)
Évaluer ... ...
Ceq = 0.0005489144975
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
0.0005489144975 Farad --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
0.0005489144975 0.000549 Farad <-- Grande capacité de signal équivalente
(Calcul effectué en 00.004 secondes)

Crédits

Creator Image
Créé par Vignesh Naidu
Institut de technologie de Vellore (VIT), Vellore,Tamil Nadu
Vignesh Naidu a créé cette calculatrice et 25+ autres calculatrices!
Verifier Image
Vérifié par Dipanjona Mallick
Institut du patrimoine de technologie (HITK), Calcutta
Dipanjona Mallick a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!

21 Transistors MOS Calculatrices

Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
​ Aller Facteur d’équivalence de tension des parois latérales = -(2*sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales)/(Tension finale-Tension initiale)*(sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales-Tension finale)-sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales-Tension initiale)))
Réduisez le courant dans la région linéaire
​ Aller Courant de réduction de la région linéaire = sum(x,0,Nombre de transistors à pilote parallèle,(Mobilité électronique*Capacité d'oxyde/2)*(Largeur de canal/Longueur du canal)*(2*(Tension de source de porte-Tension de seuil)*Tension de sortie-Tension de sortie^2))
Tension du nœud à une instance donnée
​ Aller Tension du nœud à une instance donnée = (Facteur de transconductance/Capacité du nœud)*int(exp(-(1/(Résistance des nœuds*Capacité du nœud))*(Période de temps-x))*Courant circulant dans le nœud*x,x,0,Période de temps)
Réduisez le courant dans la région de saturation
​ Aller Courant de réduction de la région de saturation = sum(x,0,Nombre de transistors à pilote parallèle,(Mobilité électronique*Capacité d'oxyde/2)*(Largeur de canal/Longueur du canal)*(Tension de source de porte-Tension de seuil)^2)
Temps de saturation
​ Aller Temps de saturation = -2*Capacité de charge/(Paramètre de processus de transconductance*(Tension de sortie élevée-Tension de seuil)^2)*int(1,x,Tension de sortie élevée,Tension de sortie élevée-Tension de seuil)
Courant de drain circulant à travers le transistor MOS
​ Aller Courant de vidange = (Largeur de canal/Longueur du canal)*Mobilité électronique*Capacité d'oxyde*int((Tension de source de porte-x-Tension de seuil),x,0,Tension de source de drain)
Délai lorsque le NMOS fonctionne dans une région linéaire
​ Aller Région linéaire en temporisation = -2*Capacité de jonction*int(1/(Paramètre de processus de transconductance*(2*(Tension d'entrée-Tension de seuil)*x-x^2)),x,Tension initiale,Tension finale)
Densité de charge dans la région d'épuisement
​ Aller Densité de charge de couche d'épuisement = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentration dopante de l'accepteur*modulus(Potentiel des surfaces-Potentiel Fermi en vrac)))
Profondeur de la région d'épuisement associée au drain
​ Aller Profondeur de la région d'épuisement du drain = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*(Potentiel de jonction intégré+Tension de source de drain))/([Charge-e]*Concentration dopante de l'accepteur))
Courant de drain dans la région de saturation du transistor MOS
​ Aller Courant de drainage de la région de saturation = Largeur de canal*Vitesse de dérive des électrons de saturation*int(Charge*Paramètre de canal court,x,0,Longueur effective du canal)
Potentiel de Fermi pour le type P
​ Aller Potentiel de Fermi pour le type P = ([BoltZ]*Température absolue)/[Charge-e]*ln(Concentration intrinsèque de porteurs/Concentration dopante de l'accepteur)
Potentiel de Fermi pour le type N
​ Aller Potentiel de Fermi pour le type N = ([BoltZ]*Température absolue)/[Charge-e]*ln(Concentration de dopant du donneur/Concentration intrinsèque de porteurs)
Profondeur d'épuisement maximale
​ Aller Profondeur d'épuisement maximale = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*modulus(2*Potentiel Fermi en vrac))/([Charge-e]*Concentration dopante de l'accepteur))
Potentiel intégré dans la région d’épuisement
​ Aller Tension intégrée = -(sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentration dopante de l'accepteur*modulus(-2*Potentiel Fermi en vrac)))
Grande capacité de signal équivalente
​ Aller Grande capacité de signal équivalente = (1/(Tension finale-Tension initiale))*int(Capacité de jonction*x,x,Tension initiale,Tension finale)
Profondeur de la région d'épuisement associée à la source
​ Aller Profondeur de la région d'épuisement de la source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Potentiel de jonction intégré)/([Charge-e]*Concentration dopante de l'accepteur))
Coefficient de biais du substrat
​ Aller Coefficient de biais du substrat = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentration dopante de l'accepteur)/Capacité d'oxyde
Capacité équivalente à grande jonction de signal
​ Aller Capacité équivalente à grande jonction de signal = Périmètre du flanc*Capacité de jonction des parois latérales*Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
Puissance moyenne dissipée sur une période de temps
​ Aller Puissance moyenne = (1/Temps total pris)*int(Tension*Actuel,x,0,Temps total pris)
Fonction de travail dans MOSFET
​ Aller Fonction de travail = Niveau de vide+(Niveau d'énergie de la bande de conduction-Niveau de Fermi)
Capacité de jonction de paroi latérale à polarisation nulle par unité de longueur
​ Aller Capacité de jonction des parois latérales = Potentiel de jonction des parois latérales sans polarisation*Profondeur du flanc

Grande capacité de signal équivalente Formule

Grande capacité de signal équivalente = (1/(Tension finale-Tension initiale))*int(Capacité de jonction*x,x,Tension initiale,Tension finale)
Ceq = (1/(V2-V1))*int(Cj*x,x,V1,V2)
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