Dryf gęstości prądu z powodu dziur Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Dryf gęstości prądu z powodu dziur = [Charge-e]*Zagęszczenie dziur*Mobilność dziury*Natężenie pola elektrycznego
Jp = [Charge-e]*p*μp*Ei
Ta formuła używa 1 Stałe, 4 Zmienne
Używane stałe
[Charge-e] - Ładunek elektronu Wartość przyjęta jako 1.60217662E-19
Używane zmienne
Dryf gęstości prądu z powodu dziur - (Mierzone w Amper na metr kwadratowy) - Gęstość prądu dryfu spowodowana dziurami odnosi się do ruchu nośników ładunku (dziur) w materiale półprzewodnikowym pod wpływem pola elektrycznego.
Zagęszczenie dziur - (Mierzone w Elektrony na metr sześcienny) - Stężenie dziur odnosi się do liczby elektronów na jednostkę objętości materiału.
Mobilność dziury - (Mierzone w Metr kwadratowy na wolt na sekundę) - Mobilność dziur reprezentuje zdolność tych nośników ładunku do poruszania się w odpowiedzi na pole elektryczne.
Natężenie pola elektrycznego - (Mierzone w Wolt na metr) - Natężenie pola elektrycznego jest wielkością wektorową reprezentującą siłę wywieraną przez dodatni ładunek próbny w danym punkcie przestrzeni ze względu na obecność innych ładunków.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Zagęszczenie dziur: 1E+20 Elektrony na metr sześcienny --> 1E+20 Elektrony na metr sześcienny Nie jest wymagana konwersja
Mobilność dziury: 400 Metr kwadratowy na wolt na sekundę --> 400 Metr kwadratowy na wolt na sekundę Nie jest wymagana konwersja
Natężenie pola elektrycznego: 11.2 Wolt na metr --> 11.2 Wolt na metr Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
Jp = [Charge-e]*p*μp*Ei --> [Charge-e]*1E+20*400*11.2
Ocenianie ... ...
Jp = 71777.512576
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
71777.512576 Amper na metr kwadratowy -->0.071777512576 Amper na milimetr kwadratowy (Sprawdź konwersję ​tutaj)
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
0.071777512576 0.071778 Amper na milimetr kwadratowy <-- Dryf gęstości prądu z powodu dziur
(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez banuprakasz
Szkoła Inżynierska Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
banuprakasz utworzył ten kalkulator i 50+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Santhosh Yadav
Szkoła Inżynierska Dayananda Sagar (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav zweryfikował ten kalkulator i 50+ więcej kalkulatorów!

15 Produkcja układów scalonych MOS Kalkulatory

Napięcie punktu przełączania
​ Iść Napięcie punktu przełączania = (Napięcie zasilania+Napięcie progowe PMOS+Napięcie progowe NMOS*sqrt(Wzmocnienie tranzystora NMOS/Wzmocnienie tranzystora PMOS))/(1+sqrt(Wzmocnienie tranzystora NMOS/Wzmocnienie tranzystora PMOS))
Efekt ciała w MOSFET-ie
​ Iść Napięcie progowe z podłożem = Napięcie progowe przy zerowym odchyleniu ciała+Parametr efektu ciała*(sqrt(2*Masowy potencjał Fermiego+Napięcie przyłożone do korpusu)-sqrt(2*Masowy potencjał Fermiego))
Prąd drenu MOSFET-u w obszarze nasycenia
​ Iść Prąd spustowy = Parametr transkonduktancji/2*(Napięcie źródła bramki-Napięcie progowe przy zerowym odchyleniu ciała)^2*(1+Współczynnik modulacji długości kanału*Napięcie źródła drenu)
Stężenie domieszki dawcy
​ Iść Stężenie domieszki dawcy = (Prąd nasycenia*Długość tranzystora)/([Charge-e]*Szerokość tranzystora*Mobilność elektronów*Pojemność warstwy zubożonej)
Stężenie domieszki akceptorowej
​ Iść Stężenie domieszki akceptorowej = 1/(2*pi*Długość tranzystora*Szerokość tranzystora*[Charge-e]*Mobilność dziury*Pojemność warstwy zubożonej)
Maksymalne stężenie domieszki
​ Iść Maksymalne stężenie domieszki = Stężenie referencyjne*exp(-Energia aktywacji dla rozpuszczalności substancji stałych/([BoltZ]*Temperatura absolutna))
Czas propagacji
​ Iść Czas propagacji = 0.7*Liczba tranzystorów przejściowych*((Liczba tranzystorów przejściowych+1)/2)*Oporność w MOSFET-ie*Pojemność obciążenia
Dryf gęstości prądu ze względu na swobodne elektrony
​ Iść Dryf gęstości prądu ze względu na elektrony = [Charge-e]*Stężenie elektronów*Mobilność elektronów*Natężenie pola elektrycznego
Dryf gęstości prądu z powodu dziur
​ Iść Dryf gęstości prądu z powodu dziur = [Charge-e]*Zagęszczenie dziur*Mobilność dziury*Natężenie pola elektrycznego
Rezystancja kanału
​ Iść Rezystancja kanału = Długość tranzystora/Szerokość tranzystora*1/(Mobilność elektronów*Gęstość nośnika)
Częstotliwość wzmocnienia jedności MOSFET
​ Iść Częstotliwość wzmocnienia jedności w MOSFET-ie = Transkonduktancja w MOSFET-ie/(Pojemność źródła bramki+Pojemność drenu bramki)
Głębia ostrości
​ Iść Głębia ostrości = Czynnik proporcjonalności*Długość fali w fotolitografii/(Przysłona numeryczna^2)
Wymiar krytyczny
​ Iść Wymiar krytyczny = Stała zależna od procesu*Długość fali w fotolitografii/Przysłona numeryczna
Umrzyj na opłatek
​ Iść Umrzyj na opłatek = (pi*Średnica wafla^2)/(4*Rozmiar każdej kostki)
Równoważna grubość tlenku
​ Iść Równoważna grubość tlenku = Grubość materiału*(3.9/Stała dielektryczna materiału)

Dryf gęstości prądu z powodu dziur Formułę

Dryf gęstości prądu z powodu dziur = [Charge-e]*Zagęszczenie dziur*Mobilność dziury*Natężenie pola elektrycznego
Jp = [Charge-e]*p*μp*Ei
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!