Übergangsbreite des CMOS Lösung

SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Übergangsbreite = MOS-Gate-Überlappungskapazität/MOS-Gate-Kapazität
W = Cmos/Cgs
Diese formel verwendet 3 Variablen
Verwendete Variablen
Übergangsbreite - (Gemessen in Meter) - Die Übergangsbreite ist definiert als die Zunahme der Breite, wenn die Drain-Source-Spannung zunimmt, was dazu führt, dass der Triodenbereich in den Sättigungsbereich übergeht.
MOS-Gate-Überlappungskapazität - (Gemessen in Farad) - Die MOS-Gate-Überlappungskapazität ist eine Kapazität, die aus der Konstruktion des Geräts selbst resultiert und normalerweise mit seinen internen PN-Übergängen verbunden ist.
MOS-Gate-Kapazität - (Gemessen in Farad) - Die MOS-Gate-Kapazität ist ein wichtiger Faktor bei der Berechnung der Gate-Überlappungskapazität.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
MOS-Gate-Überlappungskapazität: 1.8 Mikrofarad --> 1.8E-06 Farad (Überprüfen sie die konvertierung hier)
MOS-Gate-Kapazität: 20.04 Mikrofarad --> 2.004E-05 Farad (Überprüfen sie die konvertierung hier)
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
W = Cmos/Cgs --> 1.8E-06/2.004E-05
Auswerten ... ...
W = 0.0898203592814371
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
0.0898203592814371 Meter -->89.8203592814371 Millimeter (Überprüfen sie die konvertierung hier)
ENDGÜLTIGE ANTWORT
89.8203592814371 89.82036 Millimeter <-- Übergangsbreite
(Berechnung in 00.004 sekunden abgeschlossen)

Credits

Erstellt von Shobhit Dimri
Bipin Tripathi Kumaon Institut für Technologie (BTKIT), Dwarahat
Shobhit Dimri hat diesen Rechner und 900+ weitere Rechner erstellt!
Geprüft von Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod hat diesen Rechner und 1900+ weitere Rechner verifiziert!

15 Eigenschaften der CMOS-Schaltung Taschenrechner

Effektive Kapazität im CMOS
Gehen Effektive Kapazität im CMOS = Auslastungsgrad*(Aus Strom*(10^(Basiskollektorspannung)))/(Gates auf kritischem Weg*[BoltZ]*Basiskollektorspannung)
Permittivität der Oxidschicht
Gehen Permittivität der Oxidschicht = Dicke der Oxidschicht*Eingangs-Gate-Kapazität/(Torbreite*Länge des Tors)
Dicke der Oxidschicht
Gehen Dicke der Oxidschicht = Permittivität der Oxidschicht*Torbreite*Länge des Tors/Eingangs-Gate-Kapazität
Breite des Tors
Gehen Torbreite = Eingangs-Gate-Kapazität/(Kapazität der Gate-Oxidschicht*Länge des Tors)
Kritisches elektrisches Feld
Gehen Kritisches elektrisches Feld = (2*Geschwindigkeitssättigung)/Mobilität des Elektrons
Seitenwandumfang der Quelldiffusion
Gehen Seitenwandumfang der Quellendiffusion = (2*Übergangsbreite)+(2*Länge der Quelle)
CMOS mittlerer freier Pfad
Gehen Mittlerer freier Pfad = Kritische Spannung im CMOS/Kritisches elektrisches Feld
Kritische CMOS-Spannung
Gehen Kritische Spannung im CMOS = Kritisches elektrisches Feld*Mittlerer freier Pfad
Breite des Verarmungsbereichs
Gehen Breite der Verarmungsregion = PN-Verbindungslänge-Effektive Kanallänge
Effektive Kanallänge
Gehen Effektive Kanallänge = PN-Verbindungslänge-Breite der Verarmungsregion
PN-Verbindungslänge
Gehen PN-Verbindungslänge = Breite der Verarmungsregion+Effektive Kanallänge
Spannung bei minimaler EDV
Gehen Spannung bei minimaler EDP = (3*Grenzspannung)/(3-Aktivitätsfaktor)
Übergangsbreite des CMOS
Gehen Übergangsbreite = MOS-Gate-Überlappungskapazität/MOS-Gate-Kapazität
Breite der Quellendiffusion
Gehen Übergangsbreite = Bereich der Quellendiffusion/Länge der Quelle
Bereich der Quellendiffusion
Gehen Bereich der Quellendiffusion = Länge der Quelle*Übergangsbreite

Übergangsbreite des CMOS Formel

Übergangsbreite = MOS-Gate-Überlappungskapazität/MOS-Gate-Kapazität
W = Cmos/Cgs

Was ist der Bedarf an Dotierung bei CMOS?

Durch Dotierung werden in der CMOS-Technologie Verunreinigungen in das Halbleitermaterial eingebracht, um dessen elektrische Eigenschaften zu verändern. Durch die Zugabe von Dotierstoffen kann die Anzahl der freien Ladungsträger (Elektronen oder Löcher) erhöht werden, was eine bessere Kontrolle über das elektrische Verhalten des Geräts ermöglicht. Dies ist wichtig für die Erstellung leistungsstarker CMOS-Schaltkreise, die sowohl n-Typ- als auch p-Typ-Transistoren verwenden.

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