Voortplantingstijd Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Voortplantingstijd = 0.7*Aantal doorlaattransistoren*((Aantal doorlaattransistoren+1)/2)*Weerstand in MOSFET*Belastingscapaciteit
Tp = 0.7*N*((N+1)/2)*Rm*Cl
Deze formule gebruikt 4 Variabelen
Variabelen gebruikt
Voortplantingstijd - (Gemeten in Seconde) - Voortplantingstijd verwijst naar de tijd die nodig is voordat een signaal zich door de transistor van de ingang naar de uitgang voortplant.
Aantal doorlaattransistoren - Aantal doorgangstransistors is het aantal transistors dat wordt gebruikt om signalen van het ene deel van het circuit naar het andere over te brengen.
Weerstand in MOSFET - (Gemeten in Ohm) - Weerstand in MOSFET verwijst naar de weerstand tegen de stroomstroom in het circuit.
Belastingscapaciteit - (Gemeten in Farad) - Belastingscapaciteit verwijst naar de totale capaciteit die een apparaat aan de uitgang ziet, meestal als gevolg van de capaciteit van aangesloten belastingen en de sporen op een printplaat (PCB).
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Aantal doorlaattransistoren: 13 --> Geen conversie vereist
Weerstand in MOSFET: 542 Ohm --> 542 Ohm Geen conversie vereist
Belastingscapaciteit: 22.54 Microfarad --> 2.254E-05 Farad (Bekijk de conversie ​hier)
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
Tp = 0.7*N*((N+1)/2)*Rm*Cl --> 0.7*13*((13+1)/2)*542*2.254E-05
Evalueren ... ...
Tp = 0.778202516
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
0.778202516 Seconde --> Geen conversie vereist
DEFINITIEVE ANTWOORD
0.778202516 0.778203 Seconde <-- Voortplantingstijd
(Berekening voltooid in 00.020 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door banuprakash
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Bangalore
banuprakash heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 50+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

15 MOS IC-fabricage Rekenmachines

Schakelpuntspanning
​ Gaan Schakelpuntspanning = (Voedingsspanning+PMOS-drempelspanning+NMOS-drempelspanning*sqrt(NMOS-transistorversterking/PMOS-transistorversterking))/(1+sqrt(NMOS-transistorversterking/PMOS-transistorversterking))
Lichaamseffect in MOSFET
​ Gaan Drempelspanning met substraat = Drempelspanning zonder lichaamsafwijking+Lichaamseffectparameter*(sqrt(2*Bulk Fermi-potentieel+Spanning toegepast op lichaam)-sqrt(2*Bulk Fermi-potentieel))
Concentratie van donordoteringsmiddelen
​ Gaan Concentratie van donordoteringsmiddelen = (Verzadigingsstroom*Lengte van de transistor)/([Charge-e]*Transistorbreedte*Elektronenmobiliteit*Capaciteit van de uitputtingslaag)
Concentratie van acceptordoteringsmiddel
​ Gaan Concentratie van acceptordoteringsmiddel = 1/(2*pi*Lengte van de transistor*Transistorbreedte*[Charge-e]*Gatenmobiliteit*Capaciteit van de uitputtingslaag)
Afvoerstroom van MOSFET in het verzadigingsgebied
​ Gaan Afvoerstroom = Transconductantieparameter/2*(Poortbronspanning-Drempelspanning zonder lichaamsafwijking)^2*(1+Modulatiefactor kanaallengte*Afvoerbronspanning)
Maximale doteringsconcentratie
​ Gaan Maximale doteringsconcentratie = Referentieconcentratie*exp(-Activeringsenergie voor de oplosbaarheid van vaste stoffen/([BoltZ]*Absolute temperatuur))
Driftstroomdichtheid als gevolg van vrije elektronen
​ Gaan Driftstroomdichtheid als gevolg van elektronen = [Charge-e]*Elektronenconcentratie*Elektronenmobiliteit*Elektrische veldintensiteit
Voortplantingstijd
​ Gaan Voortplantingstijd = 0.7*Aantal doorlaattransistoren*((Aantal doorlaattransistoren+1)/2)*Weerstand in MOSFET*Belastingscapaciteit
Driftstroomdichtheid als gevolg van gaten
​ Gaan Driftstroomdichtheid als gevolg van gaten = [Charge-e]*Gatenconcentratie*Gatenmobiliteit*Elektrische veldintensiteit
Kanaal weerstand
​ Gaan Kanaal weerstand = Lengte van de transistor/Transistorbreedte*1/(Elektronenmobiliteit*Dragerdichtheid)
MOSFET eenheidsversterkingsfrequentie
​ Gaan Eenheidsversterkingsfrequentie in MOSFET = Transconductantie in MOSFET/(Gate-broncapaciteit+Poortafvoercapaciteit)
Kritische dimensie
​ Gaan Kritische dimensie = Procesafhankelijke constante*Golflengte in fotolithografie/Numeriek diafragma
Diepte van focus
​ Gaan Diepte van focus = Evenredigheidsfactor*Golflengte in fotolithografie/(Numeriek diafragma^2)
Sterf per wafel
​ Gaan Sterf per wafel = (pi*Diameter wafeltje^2)/(4*Grootte van elke matrijs)
Equivalente oxidedikte
​ Gaan Equivalente oxidedikte = Dikte van materiaal*(3.9/Diëlektrische materiaalconstante)

Voortplantingstijd Formule

Voortplantingstijd = 0.7*Aantal doorlaattransistoren*((Aantal doorlaattransistoren+1)/2)*Weerstand in MOSFET*Belastingscapaciteit
Tp = 0.7*N*((N+1)/2)*Rm*Cl
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!