MOSFET-Einheitsverstärkungsfrequenz Lösung

SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET = Transkonduktanz im MOSFET/(Gate-Source-Kapazität+Gate-Drain-Kapazität)
ft = gm/(Cgs+Cgd)
Diese formel verwendet 4 Variablen
Verwendete Variablen
Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET - (Gemessen in Hertz) - Die Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET bezieht sich auf die Frequenz, bei der die Spannungsverstärkung des Geräts in einer Common-Source-Konfiguration mit einer ohmschen Last auf 1 (0 dB) abfällt.
Transkonduktanz im MOSFET - (Gemessen in Siemens) - Die Steilheit im MOSFET ist ein Schlüsselparameter, der die Beziehung zwischen der Eingangsspannung und dem Ausgangsstrom beschreibt.
Gate-Source-Kapazität - (Gemessen in Farad) - Die Gate-Source-Kapazität bezieht sich auf die Kapazität zwischen den Gate- und Source-Anschlüssen eines Feldeffekttransistors (FET).
Gate-Drain-Kapazität - (Gemessen in Farad) - Die Gate-Drain-Kapazität bezieht sich auf die Kapazität zwischen den Gate- und Drain-Anschlüssen des Geräts.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
Transkonduktanz im MOSFET: 2.2 Siemens --> 2.2 Siemens Keine Konvertierung erforderlich
Gate-Source-Kapazität: 56 Mikrofarad --> 5.6E-05 Farad (Überprüfen sie die konvertierung ​hier)
Gate-Drain-Kapazität: 2.8 Mikrofarad --> 2.8E-06 Farad (Überprüfen sie die konvertierung ​hier)
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
ft = gm/(Cgs+Cgd) --> 2.2/(5.6E-05+2.8E-06)
Auswerten ... ...
ft = 37414.9659863946
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
37414.9659863946 Hertz -->37.4149659863946 Kilohertz (Überprüfen sie die konvertierung ​hier)
ENDGÜLTIGE ANTWORT
37.4149659863946 37.41497 Kilohertz <-- Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET
(Berechnung in 00.004 sekunden abgeschlossen)

Credits

Creator Image
Erstellt von Banuprakash
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Bangalore
Banuprakash hat diesen Rechner und 50+ weitere Rechner erstellt!
Verifier Image
Geprüft von Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav hat diesen Rechner und 50+ weitere Rechner verifiziert!

15 MOS-IC-Herstellung Taschenrechner

Schaltpunktspannung
​ Gehen Schaltpunktspannung = (Versorgungsspannung+PMOS-Schwellenspannung+NMOS-Schwellenspannung*sqrt(NMOS-Transistorverstärkung/Verstärkung des PMOS-Transistors))/(1+sqrt(NMOS-Transistorverstärkung/Verstärkung des PMOS-Transistors))
Körpereffekt im MOSFET
​ Gehen Schwellenspannung mit Substrat = Schwellenspannung mit Zero Body Bias+Körpereffektparameter*(sqrt(2*Bulk-Fermi-Potenzial+An den Körper angelegte Spannung)-sqrt(2*Bulk-Fermi-Potenzial))
Donator-Dotierstoffkonzentration
​ Gehen Donator-Dotierstoffkonzentration = (Sättigungsstrom*Transistorlänge)/([Charge-e]*Breite des Transistors*Elektronenmobilität*Kapazität der Sperrschicht)
Dotierstoffkonzentration des Akzeptors
​ Gehen Dotierstoffkonzentration des Akzeptors = 1/(2*pi*Transistorlänge*Breite des Transistors*[Charge-e]*Lochmobilität*Kapazität der Sperrschicht)
Drainstrom des MOSFET im Sättigungsbereich
​ Gehen Stromverbrauch = Transkonduktanzparameter/2*(Gate-Source-Spannung-Schwellenspannung mit Zero Body Bias)^2*(1+Modulationsfaktor der Kanallänge*Drain-Quellenspannung)
Maximale Dotierstoffkonzentration
​ Gehen Maximale Dotierstoffkonzentration = Referenzkonzentration*exp(-Aktivierungsenergie für feste Löslichkeit/([BoltZ]*Absolute Temperatur))
Ausbreitungszeit
​ Gehen Ausbreitungszeit = 0.7*Anzahl der Durchgangstransistoren*((Anzahl der Durchgangstransistoren+1)/2)*Widerstand im MOSFET*Lastkapazität
Driftstromdichte aufgrund freier Elektronen
​ Gehen Driftstromdichte aufgrund von Elektronen = [Charge-e]*Elektronenkonzentration*Elektronenmobilität*Elektrische Feldstärke
Driftstromdichte aufgrund von Löchern
​ Gehen Driftstromdichte aufgrund von Löchern = [Charge-e]*Lochkonzentration*Lochmobilität*Elektrische Feldstärke
Kanalwiderstand
​ Gehen Kanalwiderstand = Transistorlänge/Breite des Transistors*1/(Elektronenmobilität*Trägerdichte)
MOSFET-Einheitsverstärkungsfrequenz
​ Gehen Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET = Transkonduktanz im MOSFET/(Gate-Source-Kapazität+Gate-Drain-Kapazität)
Kritische Dimension
​ Gehen Kritische Dimension = Prozessabhängige Konstante*Wellenlänge in der Fotolithographie/Numerische Apertur
Tiefenschärfe
​ Gehen Tiefenschärfe = Proportionalitätsfaktor*Wellenlänge in der Fotolithographie/(Numerische Apertur^2)
Die pro Wafer
​ Gehen Die pro Wafer = (pi*Waferdurchmesser^2)/(4*Größe jedes Würfels)
Äquivalente Oxiddicke
​ Gehen Äquivalente Oxiddicke = Materialstärke*(3.9/Dielektrizitätskonstante des Materials)

MOSFET-Einheitsverstärkungsfrequenz Formel

Einheitsverstärkungsfrequenz im MOSFET = Transkonduktanz im MOSFET/(Gate-Source-Kapazität+Gate-Drain-Kapazität)
ft = gm/(Cgs+Cgd)
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